Диаллиловый эфир триметилолпропана

Смола ПЭ-044 представляет собой раствор ненасыщенного полиэфира на основе диэтиленгликоля, диаллилового эфира триметилолпропана и малеинового и фталевого ангидридов в эфире ТГМ-3. [c.170]

Триметилолпро-пан, диаллиловый эфир триметилолпропана Моноаллиловый эфир триметилолпропана, аллиловый спирт Hg(0 0 H3)a—ВРз (1 0,2, мол.) 50—60° С, 5—6 ч. Выход 77% 1387] [c.991]

Миямото с сотр. 231 осуществил полимеризацию смеси тет-раметилолмеламина, диаллилмалеината, частично полимеризо-ванного диаллилфталата и ненасыщенного полиэфира сложного состава. Ненасыщенные полиэфирные смолы были получены также из диаллилового эфира триметилолпропана и фталевого ангидрида 2 . Патентуются теплостойкие смолы, получаемые /голимеризацней диэфиров различных дикарбоновых кислот с монокарбоциклическим и аллиловым спиртами 2321. Полимеризацией глицидилметакрилата в присутствии эфирата трехфтористого бора и ингибитора радикальной полимеризации — гидрохинона получен линейный ненасыщенный полимер 2 . [c.203]

К третьей группе — беспарафиновым лаком холодного отверждения относятся композиции на основе олигоэфирмалеинатов, модифицированных аллильпыми соединениями с добавками в качестве активных растворителей — акрилатов (ТГМ-3) или простых аллиловых эфиров. Наличие аллильных групп обеспечивает быстрое отверждение на воздухе за счет окислительной сополимеризации в присутствии инициирующих систем пероксид — ускоритель. Введение аллильных групп в структуру олигоэфирмалеината проводят за счет добавки диаллилового эфира триметилолпропана в рецептуру олигоэфира. [c.123]

Водорастворимый алкидный пленкообразователь, полученный из жирных кислот дегидратированного касторового масла, тримеллитового ангидрида и диаллилового эфира триметилолпропана, составляет основу эмали естественной сушки ВПЭ-1160 [184], Для ускорения отверждения в композицию вводят кобальтовый сиккатив 7640 в количестве до 6—10 % от массы раствора пленкообразователя. Лаковое покрытие после отверждения в течение 16—24 ч при комнатной температуре имеет твердость 0,2—0,3 и выдерживает действие воды в течение двух суток, превосходя в этом отношении пленки на основе органорастворимого алкидного олигомера ПФ-060Н. [c.124]

Лаки, содержащие всплывающую добавку, называются парафинсодержащими. Лаки на основе полиэфиров, полученных с применением тетрагидрофта-левого ангидрида, диаллилового эфира триметилолпропана или моноаллилового эфира глицерина, высыхают без всплывающей добавки. Такие лаки называются беспарафиновыми. [c.108]

Для проведения неингибированной поли.меризации при радиационном отверждении применяются добавки того же типа, что и при обычном отверждении композиции на основе диаллилфталата, олигомеров аллилового класса, те-трагидрофталевый ангидрид, галогенсодержащие углеводороды, третичные амины, циклические ненасыщенные углеводороды, оксиды. металлов и др. Наиболее эффективным является сочетание разных методов, например использование ускоренных электронов с применением пероксидов и ускорителей полимеризации в присутствии диаллилового эфира триметилолпропана. [c.114]

Кислород ингибирует полимеризацию и поэтому поверхность пленок ненасыщенных разбавленных стиролом полиэфиров после отверждения липкая. Это можно практически полностью устранить либо изолируя поверхность от кислорода введением воска, либо включением в композицию химических групп, которые реагируют с кислородом. Для этой цели используют простые аллиль-ные группировки, которые вводят в систему добавлением аллиль-ных мономеров [28], либо в цепь полиэфира путем его реакции с аллильными соединениями, такими как аллилглицидиловый эфир или диаллиловый эфир триметилолпропана [29]. Оксиал-лильные группы являются единственными из известных, которые по реакционной способности при окислительном сшивании приближаются к природные высыхающим маслам. Радиационно-отверждаемые композиции, менее чувствительны к ингибированию воздухом, так как из-за большой концентрации радикалов скорость основной реакции выше, чем скорость растворения кислорода в пленке кроме того, мономеры и олигомеры, используемые в таких композициях, обладают повышенной функциональностью. [c.51]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология