Отверждение ускоренных электронов

Наибольшее применение получило отверждение ускоренными электронами. Их получают с помощью низкоэнергетических ускорителей прямого действия. Отечественной промышленностью выпускаются ускорителя Электрон-111 , Электрон-1У , Аврора , Ион , ЭУ-04, ЭОЛ и другие мощностью от 1 до 25 кВт и с энергией электронов 0,05—0,2 пДж [5, с. 30]. [c.273]

При радиационном облучении отверждение покрытия происходит под действием потока ускоренных электронов, генерируемого в специальной установке Проникая в слой нанесенного покрытия, ускоренные электроны вызывают образование свободных радикалов и ионов, которые инициируют реакцию роста цепи Обрыв цепи вероятнее всего происходит в результате рекомбинации и передачи цепи При увеличении мощности облучения эти реакции конкурируют с основной реакцией роста цепи Оптимальная мощность облучения — 2,5—3,0 кВт/кг. [c.75]

Кинетика отверждения клеев на основе ненасыщенных соединений под действием ускоренных электронов существенно отличается от кинетики отверждения обычными методами (с помощью пероксидов и УФ-излучения). При классическом отверждении ненасыщенных полиэфиров радикалы образуются постепенно, гелеобразование происходит ступенчато и, нако- [c.181]

Главной особенностью радиационно-химической технологии является использование ионизирующего излучения для проведения химического процесса. Можно отметить следующие преимущества ионизирующего излучения как технологического средства [412]. Высокая энергетическая эффективность ионизирующего излучения делает радиационную технологию энергосберегающей, что на фоне удорожания традиционных источников энергии повышает к ней интерес. Приведем только один пример при отверждении покрытий традиционным методом на сам процесс тратится лишь около 2% энергии, остальная рассеивается. Если же процесс отверждения проводить ускоренными до небольших энергий электронами, то они полностью поглощаются в отверждаемом слое, т. е. нет непроизводительных потерь энергии. [c.311]

Для определения твердости эмаль наносят наливом в один слой и отверждают потоком ускоренных электронов при дозе 10—12 Мрад. Толщина отвержденной однослойной пленки 100 10 мкм. Толщину измеряют по ОСТ 6-10-403—77. [c.145]

Как термореактивные пленкообразователи пониженной горючести могут быть использованы сополимеры изопрена с ненасыщенными фосфорорганическими соединениями, в частности с бис(2,4-дихлорфе-нил)-2-метил-1,3-бутадиен-1-фосфонатом [145]. Высокая степень отверждения их в виде тонких адгезионных пленок достигается при 150 °С на воздухе и в инертной атмосфере, а также при облучении ускоренными электронами. При этом оптимальный комплекс физико-механических и других эксплуатационных свойств наблюдается при молярной доле фосфорсодержащего компонента 10—30 %. Ниже приведены свойства пленок и покрытий на основе сополимеров изопрена с бис (2,4-дихлор-фенил)-2-метил-1,3-бутадиен-1-фосфонатом, отвержденных при 150 °С на воздухе [145] [c.96]

Для получения ускоренных электронов необходимо создание высокого электрического потенциала. Следует отметить как достоинство, что применение электроэнергии как источника для отверждения покрытий дает возможность применять более соверщенное оборудование. [c.113]

Применительно к полиэфирным лакам развиваются новые методы ускоренной сушки с помощью УФ-лучей и быстрых электронов. Продолжительность отверждения в первом случае составляет [c.12]

Метод ускоренных электронов имеет и ряд своих существенных недостатков. Отверждение проходит при сравнительно высоких дозах облучения. При этом не только ускоряется процесс сополимеризации, но и происходит дополнительное инициирование окислительной полимеризации, что приводит к повышению дефектности и неоднородности структуры. [c.113]

Полиэфирные лаки наносят на поверхность способами налива и распыления. Хорошо очищенную и отшлифованную поверхность древесины обычно не грунтуют. Лаки наносят толстыми слоями в два приема с интервалом во времени, определяемым продолжительностью желатинизации лака. Отверждение покрытий проводят в естественных условиях в течение 3—18 ч, при нагревании (температура 60—80 °С, продолжительность 1,5— 3 ч) или при воздействии УФ-лучей и ускоренных электронов (время отверждения 0,5—5 мин). Получаемые при этом относительно толстые покрытия (300—600 мкм) шлифуют на ленточных станках сначала крупной, затем более тонкой (микронной) шкуркой, после чего полируют пастами на барабанных или других станках. [c.318]

Сущность радиационного метода отверждения покрытий сводится к следующему. Под действием ускоренных электронов в органических соединениях, входящих в состав будущего покрытия, протекают три основных процесса, приводящих к его отверждению полимеризация самих мономеров (или низкомолекулярных полимеров) сшивание образовавшихся полимерных макромолекул в трехмерную структуру образование химических связей между молекулами красителя и молекулами основы. Одновременно в образующемся полимерном покрытии протекают процессы деструкции и окисления, которые существенно ухудшают качество покрытий, если не принимать соответствующих мер к их подавлению. Поэтому основной характеристикой лакокрасочных композиций при радиационном отверждении является быстрота полимеризации (обычно доли секунды), которая, с одной стороны, позволяет проводить процесс при высоких мощностях экспозиционной дозы электронного излучения и, следовательно, обеспечить высокую производительность радиационной установки, а с другой — в значительной мере снизить ингибирующее действие кислорода воздуха. Важная характеристика лакокрасочной композиции — доза излучения, необходимая для ее полного отверждения, поскольку именно она определяет экономику производства. [c.104]

Вариантом этого метода является метод, рассмотренный в патенте [236]. Транспортируемые по горизонтальному конвейеру панели в момент изменения его направления на обратное вступают в контакт с вытекающим из калибровочной щели в виде непрерывного занавеса красителем, облученным перед этим развернутым пучком ускоренных электронов. Интенсивность пучка электронов выбирают такой, чтобы облученный краситель (на основе ненасыщенного мономера) не успел загустеть до момента, пока он не вступит в контакт с покрываемой поверхностью панелей. Дальнейшее отверждение покрытия происходит вследствие пост-эффекта. Оптимальная мощность поглощенной дозы для реализации этого процесса должна быть не менее 10 Мрад/сек. Рекомендуемая энергия электронов 300—500 кэв. [c.108]

Простые амиды используются в качестве кислых катализаторов, способствующих процессу отверждения с ангидридами кислот (Л. 8-35] и мало используются в технических целях. Неделимая пара электронов азота уже непригодна для ускорения процесса, протекающего по механизму отверждения основаниями Льюиса [c.108]

Процесс отверждения ускоренными электронами, так же как и при химическом инициировании полимеризации, протекает по радикальноцепному механизму. Молекулярную структуру полиэфиров, отвер- [c.113]

Наибольшее применение получило отверждение ускоренными электронами. Их получают с помощью низкоэнер-гетичных ускорителей прямого действия. Отечественной промышленностью выпускаются ускорители Электрон , Аврора , Ион , КГЭ-2,5, ЭОЛ и другие мощностью от 1 до 25 кВт и с энергией электронов 0,05—0,2 пДж. Генерируемые этими ускорителями электроны обладают низкой проникающей способностью, поэтому их используют для отверждения покрытий толщиной не более 500 мкм остаточной радиации при этом не наблюдается. [c.282]

Отверждают П. л. в присут. окислит.-восстановит. инициирующих систем (напр., пероксид циклогексанона - нафтенат Со, пероксид бензоила-амин, гидропероксид изо-пропилбензола-соль V) при комнатной или повышенных (до 70 °С) т-рах УФ излучением в присут, фотоинициаторов-эфиров бензоина, ацеталей бензила, производных ацетофенона потоком ускоренных электронов с энергией 150-500 кэВ в зависимости от толщины покрытия ИК излучением. Время отверждения от неск. ч до долей с. Толщина покрытия 10-300 мкм в зависимости от назначения. [c.50]

Магнитные лаки — важнейший компонент производства носителей магнитной записи разного назначения (магнитные ленты для звуко- и видеозаписи, ЭВМ и измерительной аппаратуры, гибкие и жесткие диски и др.). Росту их потребления способствовало расширение спроса на компакт-кассеты с видеозаписью, который в 1985 г. оценивался в мире в 500 млн. шт. по сравнению с 80 млн. в 1980 г. Независимо от материала основы и назначения носителя рабочий слой его в большинстве случаев представляет собой лаковое магнитное покрытие толщиной от 30 до 300 мкм. Магнитные лаки выпускают на различной основе — от традиционных эфиров целлюлозы до полиуретанов. Магнитные свойства покрытию обеспечивает введение специальных, главным образом железосодержащих, пигментов. В последние годы для производства видеолент, гибких и жестких магнитных дисков созданы высококачественные уретановые и уретанакриловые лаки, отверждаемые потоком ускоренных электронов. Получаемые при этом ультратонкие (толщина 0,5 мкм) покрытия отличаются повышенными прочностью, износостойкостью, однородностью отверждения по всей толщине, исключительными гладкостью и адгезией к основе. При их отверждении достигается многократная экономия энергии. В 1983 г. в производстве магнитных носителей использовали 15 установок электронного отверждения (в США — 8, Японии— 6, Западной Европе— 1). [c.121]

Радиационно-химическое структурирование линейных ПОС чаще всего осуществляется с помощью у излучения или ускоренных электронов. у-йзлучение (обычно изотопные источники Со) целесообразно применять для радиационной обработки массивных резиновых изделий в любой оснастке, так как ](-лучи обладают высокой проникающей способностью [1-4]. Ускорители электронов (УЭ) весьма эффективны для радиационной вулканизации или отверждения тонкостенных обьектов. В этом случае толщина и плотность облучаемого покрытия определяют необходимую энергию электронов. Применение ускорителей позволяет осуществить непрерывный процесс радиационного структурирования различных изделий Й-И]. Участок радиационного структурирования можно "встроить" в общую технологическую линию производства Й01 Процесс проводят в инертной атмосфере. Однако в некоторых случаях при применении высокой мощности дозы отЕадает необходимость изоляции облучаемого объекта от кислорода воздуха Й01 [c.78]

Облучая ускоренными электронами с энергиями 1,0— 1,4 Мэе отвержденные эпоксидные смолы, Бейнэ [293] наблюдал, что с ростом дозы меняется окраска смол. Это свойство эпоксидных смол, а также отсутствие влияния на изменение цвета атмосферы, мощности дозы и температуры до 50° С позволяют применять отвержденные смолы в качестве дозиметрических систем для доз от 10 до 10 рад при мощности доз от 10 до 2 10 рад1сек. [c.185]

Под действием ускоренных электронов отверждают конструкционные клеи на основе ненасыщенных полиэфирных смол, продуктов взаимодействия акриловых мономеров с эпоксидами и др. [319]. На примере трех клеев, полученных на основе дивинилбензола (две двойные связи в молекуле), триаллилцианурата (три двойные связи) и стирола (одна двойная связь), было показано влияние количества двойных связей в молекуле на термостойкость клеевых соединений после радиационного отверждения. Установлено, что по мере увеличения содержания двойных связей в молекуле клеящего вещества повышается прочность клеевых соединений, особенно при повышенной температуре испытания (рис. 4.4). Двойные связи в различных соединениях имеют различную активность при воздействии ускоренных электронов. Так, при отверждении клея на основе полиэтиленгликольмалеинатметилтетрагидрофтала-та даже при дозе 20 Мрад остается 60% непрореагировавших двойных связей, и эта величина при дальнейшем отверждении не изменяется, а при отверждении полиэтиленгликольфума-ратметилтетрагидрофталата двойные связи ведут себя более активно. [c.181]

Образование лаковой пленки может происходить также при взаимодействии ненасыщенного полиэфира с ненасыщенным мономером под действием энергии ультрафиолетового излучения, в присутствии фотоинициаторов (сенсибилизаторов), в процессе радиационно-химического отверждения под действием пучка ускоренных электронов. Скорость отверждения зависит от способа инициирования. Так, если под действием окислительно-восстановительной системы лаки высыхают в естественных условиях в течение 3—24 ч, а при горячей сушке — за 0,5—1,5 ч, то лаки, отверждающиеся под действием УФ-излучения, высыхают за 0,5—2 мин, под действием ультрафиолетового импульсного излучения за 20—24 с, а под действием пучка ускоренных электронов (ПУЭ) в течение 0,3—3 с. [c.105]

При отверждении быстрыми электронами в зоне облучения образуется значительное количество озона. Так, при применении источника с мощностью дозы 1 Мрад/с содержание озона превышает 300 мт/м . Константа скорости реакции озона с непредельными соединениями сравнима с константами скорости взаимодействия радикалов с кислородом и имеет порядок 110 " лДмоль с). Образуюгциеся в результате реакции озониды представляют собой вязкие, маслянистые жидкости, раз-.тагающиеся при температурах 70 "С и выше, которые ухудшают свойства поверхностных слоев покрытий. Несоизмеримость скорости инициирования полимеризации при действии быстрых электронов со скоростью раскрытия двойных связей приводит к резкому снижению эффективности использования для предотвращения неполного отверждения поверхностных слоев целого ряда модифицирующих добавок, которые эффективны при обычных методах отверждения. Это ограничивает и круг мономеров, которые могут быть использованы в реакциях сополимеризации с ненасыщенными олигоэфирами и диктует необходимость синтеза специальных олигоэфиров и. модификаторов при инициировании реакций ускоренными электронами [123]. [c.113]

Способы устранения поверхностной липкости, особенно при отверждении быстрыми электронами, широко описаны в патентной литературе и специальных обзорах [122-127]. В самом обшем виде эти методы сводятся к следующим удалению поверхностного слоя растворителя.ми или ш.лифованием удалению воздуха из зоны реакции путем создания инертной среды или применения защитных п.ленок из различных веществ повышению мощности дозы облучения,. модифицированию олигоэфиров и мономеров и регулированию их соотнощения в композиции применению различных инициаторов и ускорите.лей полимеризации в сочетании с. методом ускоренных электронов. Наибольший интерес представляют методы исключения процесса ингибирования, основанные на подборе состава композиций и применении различных сочетаний модификаторов, инициирующих сополимеризацию ненасыщенных олигоэфиров с мономером, участвующих в окислительной полимеризации и ускоряющих отверждение поверхностных слоев [92], загущающих систему с образованием тиксотропной структуры [26. 121]. [c.114]

Для проведения неингибированной поли.меризации при радиационном отверждении применяются добавки того же типа, что и при обычном отверждении композиции на основе диаллилфталата, олигомеров аллилового класса, те-трагидрофталевый ангидрид, галогенсодержащие углеводороды, третичные амины, циклические ненасыщенные углеводороды, оксиды. металлов и др. Наиболее эффективным является сочетание разных методов, например использование ускоренных электронов с применением пероксидов и ускорителей полимеризации в присутствии диаллилового эфира триметилолпропана. [c.114]

Первые патенты по использованию излучений высокой энергии для полимеризации систем с ненасыщенными полиэфирами появились в 1956 г. [131, 174]. В этих патентах предложен способ отверждения ненасыщенных полиэфиров в сочетании с различными мономерами — эфирами акриловой и метакриловой кислот, акрилонитрилом и винил-хлоридом. Сополимеризация с образованием твердых продуктов осуществлялась под действием электронов высокой энергии при мощности поглощенной дозы 1-10 р сек. В 1957 г. опубликован патент по радиационной полимеризации ненасыщенных эфиров органических кислот Сз 2о и органических спиртов i-зо. Полимеры рекомендованы как присадки к смазочным маслам [164]. В ряде патентов Аллелио (1960—1963 гг.) [178, 191—194] предложены способы улучшения свойств (теплостойкости, эластичности, устойчивости к растворителям) линейных алифатических насыщенных полиэфиров при облучении их ускоренными [c.138]

Заливку массы в открытые или закрытые формы осуществляют без применения внешнего давления, после введения инициирующих добавок и аполнителей. При заливке деталей радиотехнического и электронного оборудования чаще всего применяют горячее отверждение или термообработку для ускоренного завершения процесса. [c.215]

На основании вышеизложенного можно сделать вывод, что кислоты Льюиса являются весьма активными катализаторами для более основных соединений, содержащих активный водород, таких как первичные амины. Объясняется это, по-видимому, тем, что перенос протона от амина доминирует над процессом переноса протона от спирта. В самом деле, в некоторых случаях для ускорения процесса отверждения сравнительно инертными первичными аминами могут быть использованы комплексы ВЕз. ВРз образует комплексное соединение с амином вследствие соответствующего распределения необобщенной пары электронов азота на незаполненных орбитах бора, при этом в результате блокирования снижается реакционная способность и реакция не будет npoTeKaTir до тех пор, пока не произойдет диссоциация комплекса при повышенных температурах. Комплексы амин — кислота Льюиса и эфир — кислота Льюиса могут быть использованы в качестве отвердителей эпоксидных смол. [c.32]

По-видимому, в этих случаях происходит пространственное перерасположение внутри молекулы вследствие нагрева, разрушая координационную связь N—В, освобождая таким образом неделимую пару электронов азота и незаполненные внеядерные электроны бора для обеспечения по существу отверждения но механизму отверждения основаниями и кислотами Льюиса. Однако реакция идет довольно медленно даже при повышенных температурах и для ускорения реакции может быть использован катализатор — металло-цикли-ческое соединение с цепью, за.мкнутой координационными связями концевых атомов [Л. 9-71], для координационной связи с неделимыми шарами азота, освобождая таким образом внеядерные электроны бора. Одним из таких катализаторов является ацетилацетонат хрома. [c.123]

Если для отверждения Э1Юксидной системы требуется температура выше окружающей (выше 20 °С), то могут использоваться четыре вида аппаратов для нагрева печь, инфракрасные лампы, высокочастотные нагреватели и пучок электронов. С точки зрения оценки окончательных свойств печь с принудительной циркуляцией воздуха создает наиболее хорошие условия контроля экзотермического нагревания, и в результате отливки почти не имеют остаточных напряжений. Инфракрасные лампы удобны для ускорения процесса холодного отверждения и дают результаты, вполне удовлетворительные для большинства промышленных применений. Нагревание высокой частотой находит ограниченное использование, так как низкий тангенс угла диэлектрических потерь эпоксидных смол мешает созданию эффекта нагрева. Повышения температуры, полученные таким методом для нескольких типов систем на основе DQEBA, представлены в табл. 23-1. Нагрев пучком электронов используется для ускорения отверждения тонких пленок [Л. 23-34]. Для получения быстрого непрерывного отверждения небольших отливок и герметизированных систем созданы туннельные печи непрерывного действия. [c.362]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология