Перекись водорода фотолиз

Ливингстона и др., ни при последующем изучении не удалось обнаружить сверхтонкое расщепление на протоне у парамагнитной частицы, которая, как предполагалось [64], является радикало.лг НО2 и представляет вторичный продукт фотолиза растворов перекиси водорода при 77° К в различных органических растворителях. Возникающие первоначально гидроксильные радикалы взаимодействуют с растворителем, в результате чего образуются органические радикалы. Последние захватываются матрицей, и их легко обнаруживают посредством электронного парамагнитного резонанса. Если в системе присутствует в сравнительно большой концентрации перекись водорода, то при постепенном повышении телшературы возникает широкий асимметричный триплет, весьма напоминающий спектр Ливингстона и др. (табл. VII. 16). [c.173]

ЧТО первоначальным продуктом реакции между атомарным водородом и молекулярным водородом является сложный радикал Н — О — О , который впоследствии либо соединяется с водородом с образованием перекиси водорода, либо расщепляется на другие продукты, из которых в конце концов получается вода. Перекись водорода получается также при фотохимическом образовании атомарного водорода в газообразных смесях кислорода и водорода при непосредственном освещении, при воздействии сенсибилизирующего излучения в присутствии ртути и при фотолизе аммиака Эти факты наряду с обширными кинетическими данными, подтверждают теорию, выдвинутую впервые Тейлором и Маршаллом , что при соединении водорода с кислородом в этих условиях происходят следующие реакции [c.101]

Рибофлавин (I) устойчив к окислителям, даже таким сильным, как азотная кислота, перекись водорода и бром, но окисляется хромовой кислотой [13] и марганцовокислым калием. При окислении тетраацетатом свинца или йодной кислотой расщепляется боковая цепь между соседними гидроксильными группами и образуется 7,8-диметил-10-формилметилизоаллокса-зин (XI) [80, 81] это же соединение получается и при фотолизе. [c.512]

Перекисно-ураниловый актинометр практически не изменяется при использовании, так как нужно заменять только перекись водорода, израсходованную вследствие фотохимического распада. После длительной работы раствор доводят до исходного объема отгонкой воды. Восстановления в не происходит. Если, согласно Гейдту [24], восстанавливается в то последний снова превращается в реагируя с Н О , и общий баланс процесса не нарушается. Химизм фотолиза перекиси водорода, сенсибилизированного солями уранила, еще не получил детального разъяснения. Промежуточное образование радикалов ОН доказывается гидроксилированием бензола (ср. Штейн и Вейс [25]), при этом выделение кислорода ингибируется в большей или меньшей степени. Главные продукты реакции — фенол и дифенил, в меньпшх количествах образуются пирокатехин, высшие фенолы и смо пл. [c.381]

Иной тип фотоокисления тимина наблюдается при облучении его в насыщенных кислородом водных растворах дальним УФ-из-лучением (184,9 ммк), обладающим значительно более высокой энергией, чем обычно применяемое в фотобиологических исследованиях (250—270 ммк). При фотолизе тимина в таких условиях образуются гидроперекиси ХХ1П и XXIV цис- и уранс-изомеры), гликоль XXV, а также перекись водорода 2 . [c.659]

Наиболее вероятное объяснение фотосорбции кислорода на силикагеле заключается в том, что ультрафиолетовое облучение отрывает от поверхности ОН-радикалы силанольных групп 81—О—Н. Силанольные группы легко обнаруживаются, и поведение их изучается при помощи инфракрасных спектров [26—29]. Свободные валентности атомов кремния служат центрами сорбции для молекул О2, которые образуют на поверхности перекисные радикалы типа 31—О—0-. Недавно было показано, что силикагель, прогретый в высоком вакууме, также приобретает способность к интенсивной сорбции кислорода [30]. ОН-радикалы, оторванные при ультрафиолетовом освещении, в дальнейшем образуют на поверхности перекись водорода. Этот вывод можно сделать на том основании, что при нагревании геля до 100° С после необратимой фотосорбции можно десорбировать газ, частично конденсирующийся при —180° С. Медленное увеличение давления, наблюдающееся при длительном ультрафиолетовом осветцении геля, также можно приписать фотолизу Н2О2. [c.406]

На основе этой модели был предложен механизм окисления воды, схематически показанный на рис. XXVII.29. Согласно предложенной схеме в одном из димеров в процессе окисления марганцевого кластера происходит образование молекулы перекиси водорода, которая выделяется и разлагается с образованием молекулы кислорода с участием второго димера марганца. Образование перекиси водорода происходит следующим образом. В фотолизе воды принимает участие редокс-активный остаток гистидина, который окисляется при переходе из состояния в состояние S3. Окисление гистидина сопровождается изменением его рК, в результате чего образуется водородная связь между гистидином и кислородом, формирующим мостик в одном из димеров марганца. Дальнейшее одноэлектронное окисление марганцевого кластера S3-S4) сопровождается образованием связи между двумя протонированными атомами кислорода— мостиками в димере — и формированием молекулы перекиси водорода. Перекись водорода высвобождается и разлагается с участием второго димера марганца. [c.334]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология