Виньетирование

Если источник света диаметром / расположить на расстоянии Гц ОТ щели, то все лучи будут достигать объектива коллиматора. Если тот же самый источник света диаметром I поместить на расстоянии г от щели, то часть лучей не будет достигать объектива коллиматора (см. заштрихованную часть на рис. 2.7). Это явление называется виньетированием лучей. [c.28]

Для устранения виньетирования источник надо отодвинуть на расстояние Г, которое зависит от высоты источника света Н и высоты щели /г [c.113]

Отодвигая источник от щели, устраняют виньетирование, но одновременно уменьшают освещенность спектральных линий, так как в горизонтальном сечении объектив не заполнен светом или заполнен только за счет дифракции при работе с узкими щелями. [c.113]

При небольшой высоте щели виньетирования практически нет и можно использовать всю светосилу спектрального аппарата, поставив источник лишь немного дальше, чем это следует из формулы (30). [c.113]

Расстояние от конденсора до щели определяется условием заполнения объектива коллиматора светом, как это видно из рисунка. Но при работе с высокой щелью это приводит к виньетированию света в вертикальной плоскости и неравномерной освещенности спектральных линий так же, как и при освещении щели без линз. [c.114]

Конденсор, установленный перед щелью, применяют также для устранения виньетирования света, идущего от источника и в отсутствие других конденсоров. Источник света устанавливают так, чтобы его изображение (обычно увеличенное) проектировалось на коллиматор и полностью заполняло его светом. Расстояние источника света до щели I находят по формуле линзы [c.115]

Третий конденсор устраняет виньетирование. Он проектирует увеличенное изображение второго конденсора на объектив коллиматора. Сильно увеличенное изображение источника света оказывается построенным на объективе. [c.116]

Относительное отверстие автоколлимационного спектрографа равно 1 40. На каком расстоянии от щели нужно установить дугу со светящимся облаком д = 6 мм при работе со щелью высотой 1 мм, чтобы возможно полнее использовать светосилу прибора без применения конденсоров и избежать виньетирование [c.116]

При работе с микрообразцами исследователь должен так оптимизировать энергию пропускания, чтобы получить наилучший спектр. Что лучше сконцентрировать образец на небольшой площади и уменьшить диаметр луча или нанести образец на большую площадь, чтобы избежать виньетирования (частичного диафрагмирования) луча использовать растяжку по ординате для повышения интенсивности спектра Ответ на этот вопрос в некоторой степени зависит от типа используемого спектрометра и возможности представлять данные по поглощению в цифровом виде. Однако, вообще говоря, площадь сечения пучка в месте расположения образца должна быть как можно меньше, но в то же время соответствовать требованию заполнения щелей светом при их максимальной ширине. Некоторая потеря энергии допускается из-за виньетирования верхней и нижней частей щелей. Эта потеря существенно не зависит от длины волны [c.116]

Как показали исследования А. К. Виноградовой, Е. Б. Геркен и Л. М. Иванцова [27], дополнительная нестабильность относительной интенсивности аналитической линии вносится за счет неконтролируемого виньетирования излучения источника электродами и оптикой спектральной установки в процессе разрушения электродов разрядом и блуждания разряда по электродам. Излучение линий разной природы локализовано в различных зонах разряда. Поэтому возникновение непрозрачного экрана на пути световых лучей в различной степени ослабляет линии с различными потенциалами возбуждения. Эффект неконтролируемого избирательного виньетирования излучения источника может быть подавлен в значительной мере путем рационального выбора осветителя. А. К- Виноградовой и Л. М. Иванцовым [28] установлено, что лучшие результаты дает растровый осветитель. Особенно важно то, что осветители такого типа позволяют получить ту же ошибку анализа при менее строгой локализации положения источника относительно спектрального аппарата. Серийная фотоэлектрическая аппаратура пока укомплектована растровым осветителем со сферической оптикой. Более перспективные растровые осветители с цилиндрической оптикой известны только по опытным установкам [28]. [c.27]

Эксперимент и расчет показывают, что можно получить в этом случае выигрыш освещенности в интерференционных максимумах, повышение контраста и некоторое повышение реальной разрешающей способности за счет увеличения коэффициента отражения зеркального слоя первой пластины. При этом наблюдается виньетирование центральных колец картины из-за наличия отверстия в центре пластины. [c.167]

При освещении щели с помощью одной линзы необходимо учитывать явление виньетирования свет от не центральных участков щели направляется на коллиматор под углом к оптической оси прибора и не попадает [c.99]

Рис. 41. Виньетирование щели (а) и его устранение (б).

Виньетирование. Равномерное освещение щели спектрального прибора является необходимым, но не достаточным условием равномерной по высоте освещенности спектральных линий, поскольку наклонные пучки, идущие от концов щели, могут частично ограничиваться диафрагмами в приборе. Это явление носит название виньетирования. Оно приводит к уменьшению освещенности концов спектральных линий по сравнению с их центральной частью даже при идеально равномерной освещенности входной щели. [c.141]

Рис. 5.13. Виньетирование наклонных пучков оправой камерного объектива (а) и устранение виньетирования при диафрагмировании коллиматорного объектива (б) 8 — щель , — объектив коллиматора , — объектив камеры О — диафрагма. Заштрихованы части пучков, не проходящие через камерный объектив.

Устранение виньетирования необходимо не только при получении равномерной освещенности в спектре, но и в случаях изучения распределения яркости по поверхности источника света. Обычно при этом изображение источника проектируют на щель спектрального прибора и изучают распределение освещенности по высоте спектральных линий. [c.142]

Очевидно, что распределение освещенности в спектре будет соответствовать распределению яркости в источнике только при отсутствии виньетирования. [c.143]

Рассмотрим случай, когда два зеркала эталона разделены воздушным промежутком. Размеры зеркал будем считать достаточно большими, чтобы не учитывать дифракции на их краях и виньетирования наклонных пучков. Пусть оба зеркала характеризуются одинаковыми коэффициентами отражения г, поглощения е и пропускания t (г + е + т = 1). Поскольку г, е и т — коэффициенты для интенсивностей, т. е. для квадрата амплитуды, то соответствующие коэффициенты для амплитуды будут j/r, и /т. После каждого прохождения светового пучка через зеркальный слой амплитуда волны изменяется в Ут раз, а после отражения — в раз. [c.167]

Более существенным следствием конечности размеров зеркал является виньетирование пучков после ряда отражений. Причем оно тем больше, чем больше угол, под которым наблюдается максимум. Это приводит к тому, что интенсивности пучков для эталона с зеркалами конечных размеров убывают быстрее, чем для эталона с бесконечно протяженными поверхностями. Следствием является уменьшение эффективного числа пучков и разрешающей способности эталона. Влияние виньетирования особенно важно для эталонов, имеющих большую толщину и высокие коэффициенты отражения зеркал. [c.172]

Диафрагмируя эталон, иногда удается повысить его разрешающую способность, уменьшив влияние ошибок поверхностей. Однако при этом следует иметь в виду, что при малых отверстиях эталона более существенную роль начинает играть виньетирование наклонных пучков, а это, в свою очередь, снижает разрешающую силу. [c.173]

Для анализа окисленных образцов используют кварцевый спектрограф средней дисперсии. Желательно иметь водоохлаждаемый штатив. Система освещения щели — любая, обеспечивающая освещение каждой точки щели прибора всеми точками источника света и отсутствие виньетирования и диафрагмирования источника. Чтобы контролировать положение источника на оптической оси спектрографа и расстояние между электродами, применяют вспомогательные проекционную линзу и экран, ус- [c.137]

Во избежание загрязнений поверхности образца для установки межэлектродного промежутка лучше использовать способ теневой проекции. Способ освещения щели должен обеспечивать освещение каждой ее точки всеми точками источника света и отсутствие виньетирования. Фотопластинки — типа П1, по возможности высшей чувствите-льности, продолжительность предварительного обжига 20 сек, продолжительность съемки не менее 20 сек. При съемке каждого спектра фотопластинка экспонируется до получения нормальных почернений аналитических линий и участков фона. Градуировочные графики строят в координатах [1 (- л//ф) С], с учетом фона (см. Приложение IV). [c.183]

Это явление называют виньетированием. [c.124]

Кг — конденсор устраняющий виньетирование [c.126]

Линза / создает увеличенное изображение источника света в плоскости линзы 3. Револьверная диафрагма 2 вырезает из этого изображения необходимый участок, экранируя концы раскаленных электродов, что значительно снижает интенсивность мешающего сплошного спектра. На щели 5 получается равномерно освещенный круг — изображение линзы 1. Линза 4, располагающаяся в непосредственной близости от входной щели, служит для устранения виньетирования. При наличии виньетирования освещенность в плоскости объектива коллиматора получается неравномерной максимальная освещенность соответствует центральным зонам источника света, а к краям источника освещенность падает. Антивиньетирующую линзу подбирают таким образом, чтобы на коллиматорном объективе получить увеличенное изображение источника, не превышающее, однако, размеров коллиматорного объектива. Линзы 1 и 3 для удобства работы должны быть ахроматическими. Иначе для разных областей спектра необходимо при работе изменять расстояния между источником и линзами ], 3 а 4. [c.73]

Рис. 2.9. Виньетирование при освещении щели с помощью лнн ы (конденсора) (а) и действие антивиньетирующей линзы (б) к — линза (конденсор) / — источник света I — изображение источника в плоскости щели 5 — плоскость щели О1 — объектив коллиматора

Применение второй линзы исключает виньетирование, но не устраняет неравномерности освещения щели, поскольку на щель проектируется изображение источника, а это означает, что распределение освещенности па щели будет определяться свойствами самого источник . Если источник имеет неодинаковую яркость от одного участка к другому, то и распределение освещенности на щелн будет повторять распределение яркости в источнике. Чтобы избежать этого, применяют более сложную осветительную систему, которая позволяет получить равномерное освенгенне щели. На рис. 2.10 приведена схема такой осветительной системы, она состоит нз трех линз. [c.30]

В комплекте кварцевого спектрографа имеется однолиизовый кварцевый конденсор (Г 75 мм, световой диаметр 25 мм). Как нужно установить этот конденсор и источник света, если использовать способ освещения с получением изображения на щели Как можно в этом случае П[)именит[1 насадочную линзу из трехлинзовой системы (см. упражнение 5) для устранения виньетирования [c.117]

Рис. 4.6. Виньетирование наклонных пучков при недостаточных размерах камерного объектива. Обрезанные части пучков для Я,, и защтрихованы.

Наклонные световые пучки (рис. 5.13, а), идущие от краев щели, после прохождения коллиматорного объектива могут диафрагмироваться оправой камерного объектива, если его размер не превышает существенно размер объектива коллиматора. Чтобы устранить это виньетирование, нужно диафрагмировать отверстие коллиматора до таких размеров, чтобы все прошед- [c.141]

Рис. 5.14. Виньетирование наклонных пучков оправой коллиматорного объектива при безлинзовом освещении щели (а) и действие антивиньетирующей линзы (б) I — источник света 8 — щель I,, — объектив коллиматора нтивиньетирующая линза I — изображение источника. Заштрихованы части пучков, не проходящие через коллиматорный объектив.

Рис. 5.15. Виньетирование при освещении щели с помощью конденсора (а) и действие антивиньетирующей линзы <б)

Часть света, идущего через ее края, теряется, поэтому концы спектральных линий оказываются менее интенсивными, чем центральная часть, несмотря на то. Рис. 81. Виньетирование спектральных ЧТО щель была ОСВеще-линий на равномерно (рис. [c.124]

Прикладная ИК-спектроскопия (1982) -- [ c.116 ]

Прикладная ИК-спектроскопия Основы, техника, аналитическое применение (1982) -- [ c.116 ]

Техника и практика спектроскопии (1976) -- [ c.141 , c.172 ]

Физико-химические методы анализа Издание 3 (1960) -- [ c.162 ]

Эмиссионный спектральный анализ атомных материалов (1960) -- [ c.151 , c.152 ]

Техника и практика спектроскопии (1972) -- [ c.139 , c.169 ]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология