Плоскость линзы главная

Рис. 6. Схема масс-спектрометра фирмы Дженерал Электрик, а — ионизационная камера в увеличенном масштабе, 1 — напряжение, ускоряющее ионы, 2500 2 — ионизационная камера з—ионная линза 4, — коллиматорные щели 4 — магнитное поле, расположенное в плоскости чертежа — вспомогательный коллектор 7 — щель коллектора I — вспомогательный усилитель 9 — главная коллекторная плоскость 10 — главный усилитель 11 регистрирующее устройство 12 — нить 13 — ловушка для электронов.

Линза 2 фокусирует источник 1 на плоскость главного сечения линзы 3. Последняя фокусирует линзу 2 на плоскость щели 5, и, наконец, линза 4 фокусирует линзу 3 на главную плос.кость коллиматорного объектива 6. Таким образом, первое изображение источника получается в плоскости линзы 3, и здесь может быть при необходимости поставлена диафрагма, вырезающая ту или иную часть изображения источника. Второе изображение источника образуется в плоскости коллиматорного объектива 6. Очевидно, для того чтобы коллиматорный объектив был заполнен светом, изображение источника или выделенной его части должно быть не меньше размеров объектива. Из этого условия рассчитывается увеличение всей осветительной системы. Приближенный расчет трехлинзовой системы довольно прост, на нем мы не останавливаемся, так как к спектрографам обычно прилагаются рассчитанные и изготовленные заводом осветительные системы. [c.152]

Кривизна спектральных линий. Рассмотрим теперь преломление лучей, идущих под углом к плоскости главного сечения призмы. Для получения спектра мы всегда пользуемся щелью, параллельной преломляющему ребру призмы и установленной в фокусе коллиматора так, чтобы лучи, идущие от ее середины, образовали пучок, параллельный плоскости главного сечения (рис. 1.15). Очевидно, что лучи, идущие от других точек щели, также образуют после прохождения коллиматорной линзы параллельные пучки. Они составляют с плоскостью главного сечения угол у, тем больший, чем более удалена рассматриваемая точка щели 8 от ее середины. [c.38]

Полосы равной толщины возникают на поверхности пластины, освещаемой протяженным источником, если толщина пластины постепенно меняется от места к месту. Лучи и (рис. 95) выходящие из одной светящейся точки 1 и отраженные гранями пластины Р, собираются линзой L в точке А, являющейся изображением точки А на поверхности пластины. Лучи, выходящие из другой точки 2 источника, попадут в поле зрения линзы Ь (лишь отразившись от граней пластины Р в другой точке В) и поэтому в точку А не попадут. Следовательно, яркость изображения А точки А определяется значением разности хода лучей 5 и точно так же яркость изображения В точки В определяется разностью хода лучей 5 и 8 . При переменной толщине пластины разность хода соответственных лучей меняется главным образом в зависимости от толщины I (см. XI, 5). Таким образом, на поверхности пластины или в плоскости ее изображения можно наблюдать интерференционные полосы, каждая из которых соответствует геометрическому месту точек равной толщины пластины. Наблюдение полос равной толщины невооруженным глазом возможно лишь при малой толщине пластин, когда угол между интерферирующими лучами настолько мал, что они могут [c.222]

Так действуют линзы при обычном микроскопическом исследовании. Однако изменением оптической силы промежуточной линзы можно перенести дифракционную картину объекта А, В, С в плоскость диафрагмы 11. Как видно на рис. 20.1,6 это достигается простым увеличением фокусного расстояния линзы (т. е. уменьшением силы тока в ее обмотке) до /2. Таким образом, предметом для главной проекционной линзы станет дифракционная картина А, В, С и в плоскости экрана возникнет сильно увеличенное изображение этой картины Л", В", С". [c.442]

Б — объективная линза Во — главная фокальная плоскость объектива для параксиальных электронов В —то же, для [c.465]

По аналогии с обычным световым микроскопом были сконструированы электронные микроскопы, в кото-рых предметы наблюдаются в пропускаемом пучке быстрых электронов, идущих от интенсивного источника электронов (пушки), главным образом от катода термоионной лампы. Вместо оптических стеклянных линз, действующих как коллиматор, объектив и окуляр, в электронном микроскопе применяются электромагниты (магнитные электронные линзы) или малые диафрагмы (электростатические электронные линзы). Пучки электронных волн исходят от излучающих точек объекта и фокусируются м(агнитным или электростатическим полем, которое имеет круговую симметрию при изображении точек в плоскости отверстий. Таким способом получается изображение объектов в вакуумной трубке микроскопа, и его можно непосредственно наблюдать на флуоресцирующих экранах или фотографировать на пластинки. [c.275]

Устройство электронных микроскопов. Большинство Э. и. выполняется с применением просвечивающих электронных микроскопов, в к-рых объект пронизывается электронами. Законы, по к-рым возникает изображение в электронном микроскопе, совпадают с законами световой оптики. Роль линз выполняют неоднородные электромагнитные поля, обладающие вращательной симметрией. Каждую электромагнитную линзу можно охарактеризовать фокусным расстоянием и главной плоскостью, как это принято в обычной геометрич. оптике. [c.473]

Предположим, что на первую преломляющую поверхность линзы (или другой оптической системы) падает луч АВ (фиг. 7), параллельный оптической оси. Из последней поверхности выйдет сопряженный с ним луч СР, который пересечет ось в заднем фокусе линзы. Продолжив направление луча Л5 до пересечения его с направлением луча СР, получим точку. Плоскость М М, проведенная через точку Р перпендикулярно оптической оси, называется задней главной плоскостью, а точка пересечения ее с осью — задней главной точкой Я. [c.36]

В главной плоскости коллиматорного объектива. Насадочная линза может быть как сферической, так и цилиндрической. В последнем случае ее ось должна быть перпендикулярна щели прибора. Более употребительны сферические линзы, так как они дешевле и удобнее в обращении. [c.152]

Луч света от лампочки, пройдя отверстие диафрагмы 9 и конденсаторные линзы 6, попадает на неподвижные призмы Николя — поляризатор 1. Далее уже идет поляризованный луч. Поляризатор состоит из двух призм, меньшая прикрывает половину поля зрения. Плоскости поляризации этих призм находятся под некоторым углом друг к другу. Поляризованный луч, пройдя поляриметрическую трубку 5 и оптические клинья 3 я 4, попадает на анализатор 2, состоящий из призмы Николя. Главное сечение (плоскость, через которую могут проходить лучи) большой призмы поляризатора перпендикулярно главному сечению призмы анализатора. Поэтому лучи, проходящие через большую призму поляризатора, будут почти полностью задерживаться призмой анализатора ( Николи скрещены ). Малая же призма поляризатора препятствует скрещению половине лучей, проходящих через большую призму. В связи с этим при пустой поляриметрической трубке половина поля зрения будет темной, а половина — светлой. [c.78]

Если кристаллики имеют идентичную кристаллическую структуру и ориентировку, то их дифракционная картина также должна быть идентичной, поэтому в главной фокальной плоскости объектива / б на схеме изображена одна система из трех максимумов . 4, В и С. Очевидно, что при различии кристаллической структуры или ориентировок частиц а, й п т. д. должны возникать различные системы дифракционных. максимумов. Интерференция лучей А, В, С дает в плоскости Осел (Ю) микроскопическое изображение точек а, Ь, с, с1 объекта. Это изображение называется промежуточным. С помощью селекторной диафрагмы 10 можно ограничить изображаемый далее участок изображения. Промежуточная линза 5 переносит изображение выбранного участка в плоскость Дпол (- Л. а главная проекционная линза 7 дает сильно увеличенное изображение этого участка в плоскости экрана или фотопластинки 12). [c.259]

Линза 2 фокусирует источник 1 на плоскость главного сечения линзы <3. Последняя фокусирует линзу 2 на плоскость щели 5, и, наконец, линза [c.74]

Объектив представляет собой наиболее важную часть микроскопа. Он дает действительное увеличенное и обратное изображение изучаемого объекта. Объектив состоит из системы линз, заключенных в металлическую оправу. Самая главная — наружная (фронтальная) линза, от фокусного расстояния которой зависит увеличение объектива. Чем больше кривизна фронтальной линзы, тем короче фокусное расстояние и тем больше увеличение объектива. Увеличение объектива всегда обозначено на его оправе. От увеличения объектива зависят еще две его характеристики — рабочее расстояние, т. е. расстояние от фронтальной линзы до плоскости препарата при сфокусированном объекте, и площадь поля зрения. Чем больше увеличение объектива, тем меньше его рабочее расстояние и поле зрения (табл.. 10). [c.83]

Обратимся к траектории электрона в гпо.гстой электронной. шнзе. Проведём через центр электронной линзы плоскость нернендикулярную к оси линзы (рис. 63), п назовём её для крат-ности средней плоскостью. Расстояние главных плоскостей электронной линзы от средней плоскости принимается равным расстояниям точек пересечения прямолинейного продолжения той части каждого из главных лучей, которая параллельна оси линзы, и касательной к главному лучу в точке пересечения им оси (или соответствующего прямолинейного продолн ения луча, если фокус лежит в области постоянного потенциала вне поля линзы). Поэтому, хотя траектория электрона в электронной линзе и яв-.чяется криволинейной, построение изображения, даваемого электрической линзой, производится так же, как в геометрической оптике. Таким образом, основной задачей теории электронных. шнз является нахождение фокусных расстояний и / g и расстояний Pj и главных плоскостей и Н от центра линзы. [c.187]

Ясно, что главным преимуществом монохроматора является очень узкая полоса длин волн, которую можно выбрать и выделить. Раасмот-рим, как это можно осуществить. В основном монохроматор состоит из диспергирующего устройства, фокусирующей оптики и пары щелей. На рис. 19-2 представлена схема типичного призменного монохроматора. Излучение, падающее на входную щель, проходя через линзу, попадает на призму. Внутри призмы излучение в результате преломления разлагается на свои компоненты, ультрафиолетовое излучение преломляется больше всего, а видимый красный свет — меньше всего. Компоненты излучения после преломления фокусируются в фокальной плоскости, где появляется спектр. В фокальную плоскость можно поместить подвижную выходную щель, которую затем можно установить в любое положение для выделения необходимой длины волны или частоты из [c.630]

Объективная линза дает увеличение примерно в 100 раз. Затем это изображение промежуточной линзой 5 (рис. 20.1, а) переносится в плоскость полевой диафрагмы 11 с небольшим увеличением (обычно до 10) и, наконец на экране 12 получается изображение, увеличенное главной проекционной линзой 7. Эта линза дает увеличение примерно в 100 раз. Таким образом, общее увеличение трехлинзового (не считая линз осветительной системы) электронного микроскопа достигает 100.000. Благодаря применению в проекционной системе двух линз, оказывается возможным легко изменять увеличение в очень широких пределах (начиная от светооптических) с соответствующим изменением изображаемого поля предмета и при неизменном размере конечного изображения. Изменение увеличения достигают изменением тока в обмотках линз проекционной системы (проме- [c.441]

В главной фокальной плоскости объектива Роб на схеме (рис. 20.1) изображена одйа система из трех максимумов Л, В и С. Очевидно, что при различии кристаллической структуры или разных ориентировках частиц должны возникать различные системы дифракционных максимумов. Интерференция лучей А, В, С дает в плоскости селекторной диафрагмы 10 промежуточное микроскопическое изображение частиц объе кта. С помощью диафрагмы 10 можно ограничить изображаемый участок объекта. Промежуточная линза 5 (рис. 20.1, а) переносит изображение выбранного участка в плоскость полевой диафрагмы И, а главная проекционная линза [c.442]

При микроскопической работе апертура объектива ограничивается специальной апертурной диафрагмой 9 (см. рис. 20.1,а), которую устанавливают возле задней главной фокальной плоскости объектива. При переходе к наблюдению дифракционной картины эту диафрагму убирают в сторону, так как для обычных объектов исследования в металловедении межплоскостные расстояния слищком малы, а углы дифракции слишком велики и дифрагированные лучи задерживаются апертурной диафрагмой. Обычно апертурный угол объективной линзы равен тысячным долям радиана. Для межплоскостных расстояний около 0,1 нм углы дифракции электронов составляют около сотой доли радиана. [c.443]

При слишком малом размере селекторной диафрагмы возникает несоответствие между областью объекта, где изображается селекторная диафрагма, и областью объекта, от которой фактически получается дифракционная картина. Это несоответствие может быть следствием неточной фокусировки. Однако существует и принципиальное ограничение, связанное со сферической аберрацией объективной линзы. Как видно на схеме (рис. 20,26), сферическая аберрация вызывает смещение изображения селекторной диафрагмы. Из-за сферической аберрации электроны, покидающие объект в разных направлениях и формирующие разные рефлексы возле главной фокальной плоскости, относятся к разным участкам объекта. Величину смещений определяют как эффект сферической аберрации для дифрагированных лучей, т. е. для углов атаХ/йнкь (по закону Вульфа — Брэгга) у= = Ссфа (Ссф 2 мм). В микроскопе с ускоряющим напряжением 100 кВ смещения для отражений второго и третьего порядков достигают нескольких десятых долей микрометра поэтому обычно получают картины дифракции от области около 1 мкм в поперечнике. Существенное уменьшение размера области дифракции достигается в высоковольтной электронной микроскопии, а также при ограничении размера освещенной области объекта системой осветителя с использованием сходящегося пучка электронов (см. ниже п. 21.4). [c.466]

Положение плоскости поляризации можно было бы определить очень точно, если бы не было необходимости по.мещать на пути светового луча линзы, коллимационные зеркала или коллекторы эти дополнительные детали всегда дают случайное вращение или преобразуют свет в эллиптический. Можно воспользоваться любым из двух лучей, однако в устройстве, показанном на рис. 20, лучше брать обыкновенный луч, так как его интенсивность несколько больше. Причина этого заключается в случайны.х отражениях, возникающих в местах входа и выхода лучей, причем углы падения довольно близки к углу Брюстера. В результате обыкновенный луч, колебания которого перпендикулярны плоскости главного сечения, имеет меньпгие потери за счет отражения по сравнению с необыкновенным лучом. [c.53]

В оптике можно пользоваться топкими линзами . Фокусное расстояние этих линз откладывается в ту и в другую сторону от центра линзы. При геометрическом построении пучков световых лучей, проходящих через тонкую линзу, можно пользоваться лучами, проходящими через центр линзы. В электронной оптике полного аналога тонкой линзы нет или, точнее говоря, тонкие электронноонтические линзы являются очень несовершенными, и ими мало пользуются. Прп построенип изображения, даваемого электрической линзой, приходится определять положение так называемых главных плоскостей толстой линзы и откладывать фокусные расстояния не от центра линзы, а от точек пересечения этих плоскостей с осью симметрии линзы. [c.185]

В оптике в подавляющем числе случаев по обе стороны от линзы находится одна и та же среда (воздух) с постоянным показателем преломления. В электронноонтическпх системах потенциалы по обе стороны от линзы, как правило, неодинаковы. Поэтому для электрической линзы фокусное расстояние зависит от направления движения электрического пучка, и у каждой линзт. два фокусных расстояния—по одному для каждой её стороны. Это приводит к тому, что электронная линза характеризуется четырьмя параметрами положениями двух главных плоскостей и двумя фокусными расстояниями. [c.185]

Абберрацни — это малейшие отклонения световых лучей от идеального направления, в соответствии с правилами геометрической оптики. Они возникают по разным причинам, имеют различные физические принципы и требуют соответствующей коррекции. Одна группа аберраций возникает из-за того, что потоки света различной длины волны фокусируются на различных расстояниях от линзы. Поскольку наличие цветовых оттенков изобра-жепня в производстве фотошаблонов не играет никакой роли, поэтому исключить появление абберраций, обусловленных различием длин волн светового пучка, можно применением монохроматического света. Эмиссионный спектр зеленого цвета паров ртути на длине волны 5460 А имеет достаточно высокую интенсивность и находится в области спектра, где фотографические эмульсионные пластины имеют максимальную чувствительность. Другая группа аберраций возникает из-за того, что лучи проходят на некотором удалении от оптической оси линз и главный фокус отклоняется от идеального центра в плоскости изображения. Оптические линзы высокого качества изготавливаются таким образом, чтобы снизить до минимума возникаюшие аберрации и, в частности, аберрации для определенного диапазона длин волн. Однако даже в очень хорошо откорректированных линзах остается какая-то аберрация, проявляющаяся в виде искривления изображений, астигматизма, искривления поля изображения. И, главным образом, из-за последнего вида аберрации общин вид изображения в значительной степени отклоняется от идеального в фокальном плане. Незначительное смещение вдоль оптической оси и вблизи нее возрастает по мере увеличения расстояния от центра. Площадь вокруг оптической оси в плоскости изображения, в пределах которой сохраняется резкость изображения, зависящая от глубины резкости линз, называется рабочим полем изображения. Так как глубина резкости пропорциональна то из этого следует, что рабочее поле изображения объективов тем больше, чем меньше числовая апертура, т. е. если при этом исключаются самые периферийные потоки лучей. Более того, поскольку числовая апертура объективов обратно пропорциональна фокусному расстоянию, постольку размеры рабочего поля изображения также зависят от фокусного расстояния. Последняя зависимость имеет практическое значение, в частности, для ориентировочных оценок. Ранее было установлено, что размеры рабочего поля изображения для хороших объективов обычно составляет 1/5 их фокусных расстояний [27, 31, 33], а рабочее поле микроскопических объективов и того меньше и обычно составляет менее 1/10 фокусного расстояния [27, 31]. Это и объясняет ранее установленную проблему сочетания высоких коэффициентов уменьшения с большими размерами рабочего поля изображения. [c.575]

Соответственно при такой работе проекционной линзы микроскопическая картина будет находиться в задней главной фокальной плоскости проекционной линзы ( проекц)- [c.260]

Все представлённые выше данные, касающиеся оптического действия клиновых и линзовых дефектов сгекла относятся к простейшим случаям, когда плоскость падения света совпадает с главным сечением линзы. Поскольку практически дефекты имеют [c.57]

Линза О2 собирает параллельный пучок лучей в главном фокусе 5о является изображением точки 5. Если на пути параллельного пучка лучей между линзами 0 и 0 вызвать искусственно неоднородность среды, например создав в плоскости ММ при помощи кварцевой пластинки Р звуковое поле аЬ, то часть лучей отклонится от первоначального пути и не соберётся уже в фокусе о. Закрыв фокус 5 о специальным экраном О2, пропускающим только отклонённые лучи и не пропускающим лучей неотклонённых, мы за ним в плоскости РР получим изображение звукового поля аЬ, Если возмущение создано стоячими звуковыми волнами, то на изображении звукового поля отчётливо будут видны волновые поверхности. Фотографируя полученное изображение поля и мнкрофотометрируя полученную фотографию, можно измерить расстояние между отдельными волнами. При применении высокочастотного стробоскопического освещения этим методом можно производить измерения и в проходящих ультразвуковых волнах [155] (рис. 57). Полученная фотография даёт возможность сделать заключение о характере поля и о степени [c.77]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология