Окисление комплексов оснований Шиффа

В работе [65] были исследованы комплексы основания Шиффа с Си и Со, иммобилизованные на поверхности кремнезема. Анализ относительных атомных концентраций показал, что в условиях проведения жидкофазного каталитического окисления структура комплексов остается неизменной. Аналогичный подход, основанный на анализе относительных атомных концентраций элементов, входящих в состав комплекса, был использован при исследовании процесса взаимодействия аммиакатных комплексов 1г, КЬ, Pt, Рс1 с карбоксильными группами поверхности окисленного углеродного носителя. Было установлено, что взаимодействие комплексов [Pd(NHз)4] и [Rh(NHз)5 l] с карбоксильными группами приводит к элиминированию одного или двух КНз-лигандов и образованию ковалентной связи металл — кислород [66]. [c.300]

Окисление олефинов с концевой С = С-связью в присутствии комплексов Со (II), имеющих в качестве лиганда основания Шиффа, в спиртовых средах (метанол, этанол) приводит к образованию двух продуктов (спирта и кетона) примерно в равных количествах [327] [c.140]

Нами [31] было показано, что комплексы меди, кобальта и никеля с основаниями Шиффа, полученными из салицилового альдегида и о-ами-нофенола (САФ), проявляют заметную оксидазную активность. Были 1/зучены водно-пиридиновые растворы комплексов кобальта, меди, никеля, цинка, кадмия, свинца и железа. Обращает на себя внимание высокая активность комплекса, содержащего медь, которая, как известно, является специфическим катализатором окисления аскорбиновой кислоты. На втором месте оказывается железо и на третьем — кадмий и кобальт. Этот факт указывает на возможность активации оксидазной функции, у таких мало активных ионов с постоянной валентностью, как кадмий. [c.158]

Аналогичные константы скорости получены и для многих других реакций. Был изучен механизм окисления комплексов практически всех ионов металлов, способных окисляться под действием аскорбиновой кислоты. Иногда используются довольно экзотические соединения, такие, как, например, комплекс иона нике-ля(1У) с диацетилоксимтриэтилентетрамином (основание Шиффа, рис. 7.18), изображенный на рис. 7.19. [c.156]

Такие же задачи были поставлены и решены в спектроэлектрохимическом исследовании комплексов кобальта и меди с шиффо-выми основаниями, образованными салициловым (или его замещенными) альдегидом и изомерными фенилендиаминами [120]. Исследование проводили в диметилформамиде в тонкослойной ячейке. Комплексы кобальта этого тина состава СоЬ (Ь — дианион лиганда) на минигридном электроде также образуют две обратимые окислительно-восстановительные пары, отличающиеся степенью окисления центрального атома, Со(11)/Со(1П) и Со(1)/Со(П), хотя по данным циклической вольтамперометрии эти одноэлектронные переходы скорее являются квазиобратимы-ми. Рассчитанный формальный окислительно-восстановительный потенциал Е пары Со(1)/Со(П) коррелирует со значением энергии полосы переноса заряда металл—лиганд. Обратимая окислитель-но-восстановительная пара Си(1)/Си(П) наблюдается и для комплексов меди с этими лигандами. [c.55]