Тетрахлорид кремния давление паров

Далее холодный муфель заполняли дозированным количеством пара тетрахлорида кремния или смесью его с водородом и производили нагрев до заданных температур в зонах. После нагрева общее давление в муфеле доводилось до 760—780 мм рт. ст. с помощью добавок аргона, что предотвращало случайный подсос воздуха и способствовало лучшей работе кварцевого вентилятора. [c.82]

К, температуре молибдена 1350 К, времени изотермической выдержки 90 мин, исходном парциальном давлении паров тетрахлорида кремния в холодной установке 150 мм рт. ст. и общем рабочем давлении в муфеле после добавления аргона 760— 780 мм рт. ст. [c.85]

Каждый раз после загрузки кремния и молибденовых образцов из реакционной камеры откачивали воздух и при работающем вакуумном насосе производили нагрев камеры и кремния до указанных выше температур. Молибденовые образцы при этом не окислялись и нагревались до температуры около 750 К. Затем реакционную камеру заполняли парами тетрахлорида кремния, устанавливали рабочее давление газовой среды и включали вентилятор. После чего зажигался тлеющий разряд. [c.140]

Результаты эксперимента показали, что общее давление пара в системе является линейной функцией состава раствора. Поэтому парциальное давление пара хлорида Ру рассчитывалось по закону Рауля. Как показали наши эксперименты, растворимость хлористого водорода в тетрахлоридах кремния и германия подчиняется закону Генри. Температурная зависимость константы Генри К приведена на рис. 2. В исследованном интервале температур она хорошо описывается уравнением [c.52]

Дистилляция в ректификационных колоннах (р е к-тификация) дает возможность разделить металлы и их соединения с близкими точками кипения, она применяется, напр,, для очистки цинка от кадмия, свинца и др. примесей. Ректификацией разделяют тетрахлориды титана и кремния и др. соединения редких металлов. При всякой дистилляции важны и условия конденсации, необходимые для получения жидкого или кристаллич. конденсата, при минимальном выходе пылевидных продуктов, обычно трудно перерабатываемых. Равновесное давление паров над мелкими каплями или зародышами кристаллов выше, чем над сплошным конденсатом, поэтому для начала конденсации необходимо переохлаждение. При медленном охлаждении паров выход мелких частиц конденсата меньше, при быстром — больше. Пылевидные конденсаты получаются также из паров, разбавленных газами, а также вследствие окисления или иного загрязнения поверхности зародышей кристаллов, препятствующего пх росту. Выход пыли значительно. зависит от принципа действия конденсатора. Часто его удается снизить разбрызгиванием п конденсаторе жидкости, растворяющей дистиллируемое вещество (это и ускоряет конденсацию). Наир., при коидепоации паров цинка, разбавленных газами, в копдепсаторе иногда разбрызгивают цинк или свинец. В последнем случае получают снлав цинка со свинцом, из к-рого [c.8]

Примечание. Постоянные параметры процесса температура образцов, расположенных во второй зоне установки, 1350 К исходное парциальное давление паров тетрахлорида кремния в холодной установке 150ммрт. ст. общее рабочее давление в муфеле после добавления аргона 780 мм рт. ст. время изотермической выдержки 90 мин скорость газового потока 10 м/мин. [c.85]

Результаты исследования влияния изотермической выдержки на толщину покрытия при силицировании молибдена циркуляционным методом приведены на рис. 38. Это исследование проводилось при температуре кремния 1473 К, исходном парциальном давлении паров тетрахлорида кремния 150 мм рт. ст., общем рабочем давлении в муфеле 780 мм рт. ст. и скорости газового потока 15 м/мин. Силицирование осуществлялось в безводородной и во-дородосодержащей среде, в последнем случае при соотношении исходных парциальных давлений pujps = 1. [c.87]

Водород из баллона 1 через редуктор 6 под давлением 1,2 ат проходит через осушитель 7 с Р2О5 и натекатель 8, а затем при давлении ниже 760 мм рт. ст. через капилляр реометра 9 попадает в трубку для смешивания газов 10. Жидкий тетрахлорид кремния заливают в стеклянный баллончик 3, помещенный в термостат 2. В трубку для смешивания газов пары тетрахлорида кремния подаются через натекатель 4 и реометр 5. Смесь паров тетрахлорида кремния и водорода, пройдя дополнительное перемешивание в верхней части камеры 23, подается к образцу через направляющий патрубок 22. Давление в реакционной камере регулируют краном 16 и измеряют манометром 17. Холодильники 15 предназначены для улавливания и анализа отходящих газов. [c.134]

Примеси, находящиеся в исходном веществе, обычно подвергаются полному галогенированию. Отделить такие галогениды от основного продукта реакции можно, пользуясь различием в давлениях пара получаемых галогенидов и градиентом температуры между различными частями прибора. Так, при хлорировании ферросилиция, содержащего в виде примесей некоторое количество алюминия и марганца, продукт реакции содержит тетрахлорид кремния и хлориды железа, алюминия и марганца. Тетрахлорид кремния легко отгоняется в приемник, так как он кипит при 56,8°. Хлорид железа будет конденсироваться в более нагретой части прибора, так как даже при 194° давление его паров равно всего 1 мм рт. ст. Хлорид алюминия, обладающий большим давлением пара, будет примешиваться в небольшом количестве к тетрахлориду кремния. Хлорид марганца останется в основном в раскаленной части прибора, так как его летучесть незначительна. Однако следы хлорида марганца попадут в тетрахлорид кремния. Объясняется это тем, что на поверхности галогенируемого вещества развивается довольно высокая температура, и надо полагать, что большинство галогенидов, даже мало летучих, как, например, хлорид марганца, могут на некоторое время переходить в парообразное состояние. Пары таких галогенидов конденсируются в газовой фазе, их мельчайшие твердые частички увлекаются током галогена и летучих галогенидов и загрязняют основной продукт реакции. [c.155]

Сначала определялась температурная зависимость давления насы-и енного пара чистых тетрахлоридов кремния и германия. Для этого в тшдтельно промытый и вакуумированный до остаточного давления [c.51]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология