Тетрахлориды кремния

Рис. 47. Прибор для получения тетрахлорида кремния

Гидролитическому разложению под действием воды могут подвергаться различные вещества. Тетрахлорид кремния гидролизуется уже при комнатной температуре и не только при взаимодействии с жидкой водой, но при взаимодействии паров его с влагой воздуха [c.45]

Особо чистое кварцевое стекло получают также при окислении тетрахлорида кремния в кислородной низкотемпературной плазме. [c.39]

При открывании склянки с жидким тетрахлоридом кремния у горлышка склянки образуется белый дым. Каков химический состав этого дыма Напишите уравнение протекающей реакции и укажите ее тип. Почему происходит именно такая реакция При ответе охарактеризуйте строение и тип связи в тетрахлориде кремния. [c.82]

Кроме того, разработаны и широко применяются принципиально новые методы наплавления кварцевого стекла. Один из них — метод высокотемпературного парофазного синтеза из тетрахлорида кремния в водородно-кислородном пламени, в основе которого лежит реакция [c.39]

В помещении водородного восстановления из напорных и приемных баков разлиты хлорид или тетрахлорид кремния [c.157]

Подобным же путем могут быть получены и некоторые аэрозоли. Так, тетрахлориды кремния, олова и титана, являющиеся в обычных условиях довольно летучими жидкостями, легко гидролизуются в парах при взаимодействии с влагой воздуха, например [c.531]

Соотношение (111.59) позволяет охарактеризовать распределение примеси по высоте колонны с учетом изменения среднего размера кристаллов твердой фазы. Для этого необходимо знать зависимость W от z. Опыты по очистке ряда веществ (бензол, стильбен, сера, аммиак, трихлорид мышьяка, тетрахлорид кремния) показали, что эта зависимость хорошо описывается выражением [c.141]

К идеальным системам относятся смеси жидкостей, близких но свойствам дибромметан — 1,2-дихлорэтан, н-гексан — -гептан, тетрахлорид углерода — тетрахлорид кремния. [c.72]

Изучение свойств тетрахлорида кремния. (Работать под тягой ) Открывают пробку склянки, в которой находится Si l4. Что наблюдается Стек-, лянную палочку опускают в концентрированный водный раствор аммиака и подносят ее к отверстию склянки с Si U- Что наблюдается [c.152]

Транспорт очищаемого вещества можно осуществлять в токе газа (рис. 23). В лодочки помещают очищаемое вещество, например кремний, и пропускают над ним газ-носитель, в данном случае тетрахлорид кремния. Очищаемое вещество нагревают и пропускают медленный ток газа. [c.68]

Тетрахлорид кремния Si U широко применяется при синтезе кремнийорганических соединений. При обычной температуре [c.14]

Наиболее чистый кремний получают восстановлением тетрахлорида кремния парами цинка [c.138]

Хлоридный метод. Суммарное уравнение реакции восстановления тетрахлорида кремния водородом [c.142]

При получении пленок хлоридным методом смесь водорода и тетрахлорида кремния пропускают в реакционную камеру, изготовленную из кварца. Температура в зоне реакции поддерживается порядка 1200—1250°С. Нагрев осуществляется индукционным методом или в печи сопротивления. Индукционный метод более удобен, однако при этом труднее получить равномерное распределение температуры у поверхности подложки (вследствие так называемого скин-эффекта ), что вызывает значительную неравномерность толщины растущей пленки. [c.142]

В ходе процесса возможен точный контроль вводимых электрически активных примесей, которые в небольшом количестве могут быть добавлены к тетрахлориду кремния, В зоне реакции эти соединения должны разлагаться так, чтобы в решетку выращиваемого кристалла внедрялись атомы примеси. Для леги- [c.142]

Параметрами, регулирующими толщину и сопротивление слоя, являются температура, расход газовой смеси и время процесса — факторы, поддающиеся автоматическому контролю. Кроме того, и водород, и тетрахлорид кремния в настоящее время можно получить очень высокой степени чистоты. Легкость контроля, высокая чистота реагентов, значительные скорости роста и ряд других благоприятных факторов обеспечили хлоридному методу наибольшее распространение в технике эпитаксиального выращивания. [c.143]

В качестве металла берут хорошо очищенный цинк. Он не образует силицидов, не реагирует с кварцем почти нет взаимной растворимости его с кремнием в твердом состоянии упругость паров цинка при повышенной температуре довольно высокая хлорид цинка, образующийся в качестве побочного продукта, плавится при 318° С и кипит при 732° С. Тетрахлорид кремния очищают ректификацией. Реакцию ведут в парах в токе водорода или аргона. Газ-носитель пропускают через испарители с 81014 и цинком. Оба потока вводят в обогреваемый кварцевый реактор, где при малой скорости потока образуются игольчатые монокристаллы кремния на стенках реактора, удельное сопротивление которых достигает 140—200 ом-см. О других транспортных реакциях см. гл. IX. [c.50]

Опыт 14. Гидролиз тетрахлорида кремния (ТЯГА ). Несколько капель 51С14 внесите в чашку с водой. Объясните наблюдаемое. [c.82]

К смеси безводной уксусной кислоты с уксусным ангидридом добавляют тетрахлорид кремния в количестве несколько меньшем, чем необходимо по теоретическому расчету, и нагревают на водяной бане с обратным холодильником, снабженным хлоркальциевой трубкой. По окончании выделения хлороводорода смеси дают охладиться. Через несколько дней тетраацетат кремния выделяется из раствора в виде белых кристаллов. После охлаждения до 0°С жидкость, находящуюся над кристаллами, сливают и кристаллы промывают чистым спиртом. [c.553]

При действии водорода на Si U при 1000—1100°С тетрахлорид кремния восстанавливается до элементарного кремния [c.15]

Тетрахлорид кремния легко гидролизуется. Вследствие образования при гидролизе твердых частиц геля кремнекислоты пары SI I4 во влажном воздухе образуют густой дым, благодаря чему Si U используется для получения дымовых завес. [c.15]

Тетрахлорид кремния является важнейшим кремнесодержащим продуктом, широко применяемым для синтеза различных кремнийорганических соединений. На его свойстве легко гидролизоваться основано применение его также для образования дымовых завес при распылении в смеси с газообразным аммиаком. При этом гидролитическое расщепление 81С14, характеризующееся обильным выделением хлороводорода, сопро- [c.487]

Для полученпя небольших количеств тетрахлорида кремния 3—4 г порошкообразного кремния помещают в первое колено трех- или четырехколенной трубки (рис. 9), заполняют ее хлором и прн 300—400 °С пропускают пад кремнием ток су.хого хлора, не содержащего кислорода (в противном случае на поверхности кремния будет образовываться оксид кремния (IV), препятствующий реакции хлорпроваиия). Тетрахлорид кремния конденсируется во втором и третьем коленах трубки, которые полезно охлаждать (положить на них бу- [c.182]

Проведен полный гидролиз 100 мл жидкого тетрахлорида кремния. Полученный раствор разбавляют водой до 100 л. Определите pH конечного раствора при 25°С. Твердый продукт гидролиза смепшвают с карбонатом натрия, смесь прокаливают, спек растворяют в воде и через раствор пропускают углекислый газ. Составьте уравнения реакций. [c.244]

Реакции гидролиза бинарных соединений необратимы и разложение бинарных соединений полное, поэтому следует оберегать бинарные соединения от воздействия воды и влажного воздуха. Так, если открыть склянку с жидким тетрахлоридом кремния, то появляется белый дым (частички ЗЮз йНзО) [c.74]

Тетрахлорид кремния (четыреххлористый кремний) 5104 — бесцветная или, вследствие незначительных загрязнений, слегка желтоватая жидкость плотностью 1,5237 (0 С), кипящая при 57,6° С. В химическом отношении 51С14 — хлорангидрид. При действии воды он гидролизуется [c.487]

В органических растворителях гидриды нерастворимы. Исключение составляет гидрид лития. В связи с этим надо отметить, что и своеобразные свойства фторида лития отличают его от других галогенидов. Гидрид лития реагирует при нагревании с азотом, давая амид, имид и даже нитрид лития. РГнтересны реакции обмена с этим гидридом. Так, с тетрахлоридом кремния получается силан и хлорид лития — водород, следовательно, обменивается на хлор. [c.290]

Напишите уравнения реакций получения силида магния и тетрахлорида кремния из простых веществ. Окислителем или восстановителем является кремний в этих реакциях [c.170]

Из галогенидов кремния наибольшее значение имеют SI I4, SIF4 и SIH I3. Тетрахлорид кремния получают при хлорировании смеси угля и кварцевого песка (600—700 X) [c.206]

Реакции (I), (4), (6) приводят к росту пленки, а (5), (7) —к се травлению. Сущестпенным отличием этого метода от других является то, что осажденный кремнии вступает в обратимую реакцию с тетрахлоридом кремния с образованием летучего субхлорида (7), Это ведет к травлению поверхности при больших концентрациях тетрахлорида кремния. Реакция (7) в некотором смысле противоположна реакции осаждения. Определяемая экспериментально скорость роста есть алгебраическая сумма скоростей этих двух процессов. При этом чем выше концентрация тетрахлорида в газовой смеси, тем заметнее роль травления, и наоборот. [c.142]

Тетрахлориды кремния, германия и олова — жидкие вещества, очень сильно гидролизующиеся, склонные к комплексообразованию, в частности к образованию кислот типаНаЭОе. Тетрафторид кремния S1F4 в обычных условиях газообразен. Тетрафторид иода Sil 4—твердое вещество. Н jSiF g — сильная кислота. Почти все соли ее бесцветны и растворимы в воде (труднее — соли калия и бария). [c.287]

При 1000—1800° С в атмосфере водорода и тетрахлорида кремния на поверхности молибдена образуется слой силицида MoSi 2 толщиной до 0,025 мм, полностью защищающий его на долгое время от окисле- [c.339]

Тетрахлорид кремния 31С14 образуется при нагревании смеси окснда кремния с углем в струе хлора [c.333]

Поэтому тетрахлорид кремния известен как дымообразователь. [c.333]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология