Испарение свободной влаги

На рис. ХУ-15 показана кривая скорости сушки, соответствуюш,ая кривой сушки на рис. ХУ-14. Горизонтальный отрезок ВС отвечает периоду постоянной скорости (I период), а отрезок СЕ — периоду падаюш,ей скорости (// период). В первый период происходит интенсивное поверхностное испарение свободной влаги. В точке С (при первой критической влажности 1) влажность на поверхности материала становится равной гигроскопической. С этого момента начи-нается испарение связанной влаги. [c.609]

Скорость испарения свободной влаги определяется но закону испарения го свободной поверхности, т, е. давление паров над поверхностью материала при бесконечно малой скорости сушки равно давлению насыщенного пара при той же температуре. [c.675]

Процессы испарения свободной влаги и перевода дш.- идрата в полу-гидрат реализуются в отдельных зонах печи или в разных агрегатах. [c.25]

Скорость испарения свободной влаги в воздух может быть подсчитана по уравнению [c.13]

Скорость испарения свободной влаги такая же, как и скорость испарения воды с любой свободной поверхности, т. е. зависит от количества содержащейся влаги в окружающей атмосфере чем больше влаги в окружающей атмосфере, тем медленнее идет испарение. [c.42]

Этот метод сушки применим при сушке термически нестойких материалов, если высушиваемый материал в процессе сушки превращается из упруго-пластичного в упруго-хрупкое, при необходимости получения высушенного продукта в тонкодисперсном виде и в том случае, когда в процессе сушки материал образует очень хрупкие гранулы. При этом способе сушки среднее время пребывания материала в слое определяется в основном скоростью испарения свободной влаги с поверхности и кинетикой истирания высушенного материала. [c.201]

После испарения свободной влаги, когда на поверхности материала влажность будет ниже гигроскопической, по мере дальнейшего уменьшения влажности давление пара над поверхностью материала будет падать, при этом, естественно, будет уменьшаться и скорость сушки наконец, когда давление пара над поверхностью [c.130]

В вакуумсушилках при испарении свободной влаги мы работаем с большими перепадами температур и, следовательно, с большей интенсивностью сушки. Во всех остальных случаях эта интенсивность резко понижается. Так, например, если для паровой плиты при р = 1,5 ата и атмосферных условиях при температуре материала, соответствующей температуре кипения, мы имеем di = 110 — 100 = 10° С, то при вакууме 30 мм рт. ст. и температуре кипения /==30° С Zli == 110 — 30 = = 80° С, т. е. в восемь раз больше. [c.242]

Период постоянной скорости сушки характеризуется постоянством скорости сушкн (отрезок АК на кривой 2), которая численно равна скорости испарения влаги с открытой поверхности жидкости. В этом периоде происходит испарение свободной влаги с поверхности материала, и поверхность остается влажной за счет поступления влаги из внутренних слоев изделия. Температура поверхности материала равная приблизительно температуре мокрого термометра /п, остается постоянной (отрезок АК на кривой 3). Давление паров над поверхностью материала равно парциальному давлению насыщенных паров воды при температуре поверхности и не зависит от влажности материала. Этот период является наиболее ответственным и опасным при сушке глиняных изделий, так как в течение его происходит усадка материала, большая неравномерность которой может вызвать усадочные напряжения и деформации. [c.13]

Испарение свободной влаги с поверхности материала аналогично испарению влаги с открытой поверхности воды. Этот процесс, протекающий в первом периоде сушки, определяется законами внешнего тепло- и массообмена между влажной поверхностью материала и окружающей средой. При этом за счет молекулярной диффузии происходит перенос влаги (внешний массообмен) с поверхности испарения в окружающую среду и передача тепла (теплообмен) от внешней среды к поверхности испарения. [c.15]

В вакуум-сушилке создается почти полная независимость сушки от атмосферных условий. Вследствие большей интенсивности испарения свободной влаги время сушки в вакуум-сушилке меньше, чем в атмосферной сушилке. [c.251]

Для прессованной бумаги (кривая 4 фиг. 8-16), т получилось меньше единицы, что можно объяснить следующим образом при испарении свободной влаги скорость сушки постоянна, т. е. /ге = 0. В порах и макрокапиллярах крупнопористых материалов кроме связанной находится и свободная влага. Следовательно, для крупнопористых материалов показатель степени т представляет собой среднее между нулем и действительным значением этого коэф- [c.91]

Применительно к С. влагу классифицируют в более широком смысле на свободную (легко удаляемую) и связанную (адсорбционную, осмотич., микрокапилляров). Скорость испарения свободной влаги из материала равна скорости испарения воды со своб. пов-сти жидкости. Связанная влага испаряется из материала с меньщет скоростью, чем с пов-сти воды. Расчет сушилок необходимо проводить с учетом энергии связи влаги с материалом. Суммарный расход теплоты на С. [c.481]

Первый период сушки протекает при постоянных скорости сушки du /dx = onst и температуре мокрого термометра Т = onst до тех пор, пока в поверхностном слое содержится свободная влага. Ее испарение с поверхности тела происходит с постоянной скоростью и при постоянной температуре. По мере уменьшения содержания во влажном теле свободной влаги скорость ее поступления в поверхностный слой постепенно снижается. Содержание свободной влаги в поверхностном слое уменьшается и в некоторый момент времени становится равным нулю. С этого момента начинается второй период сушки, в котором происходит углубление поверхности испарения свободной влаги. Между поверхностью испарения и поверхностью тела образуется зона сушки, из которой испаряется влага с физико-химическими формами влаги. [c.794]

На рис. XV-15 показана кривая скорости сушки, соответствующая кривой сушки на рис. XV-14. Горизонтальный отрезок ВС отвечает периоду постоянной скорости (I период), а отрезок СЕ — периоду падающей скорости (// период). В первый период происходит интенсивное поверхностное испарение свободной влаги. В точке С (при первой критической влажности ШкрО влажность на поверхности материала становится равной гигроскопической. С этого моменга начинается испарение связанной влаги. Точка D (вторая критическая влажность) соответствует достижению равновесной влажности на по в, е р х н о с т и материала (внутри материала влажность превышает равновесную). Начиная с этого момента и вплоть до установления равновесной влажности по всей толще материала, скорость сушки определяется скоростью внутр енней диффузии влаги из глубины материала к его поверхности. Одновр еменно вследствие высыхания все меньшая поверхность материала ост ается доступной для испарения влаги в окружающую среду и скорость сушки падает непропорционально уменьшению влажности да материала. [c.644]

Если вместо воды мы поместим влажный материал, то его температура в период испарения свободной влаги будет ниже или близка к температуре кипения при данном вакууме. При испарении гигроскопической влаги температура материала будет повышаться, приближаясь при устойчивой влажности к температуре сухого воздуха в нервом случае и к температуре горячей поверхности (или еще выше при большом лучеиспускании) в третьем случае. Параллельно с повышением температуры падает интенсивность испарения, прекрапгаясь совершенно при устойчивой влажности материала. Таким образом мы ясно видим, что так часто встречающиеся указания о том, что при сушке в вакууме температура материала низкая, и поэтому эти суишлки особенно пригодны для материалов, не переносящих высокую температуру, не совсем правильны. Вакуум действительно выгоден тогда, когда мы материал не досунпиием до низкой влажности, так как температура материала в этом случае тшзкая и интенсивность испарения высокая. [c.240]

В течение первого периода, начинающегося после нагрева каучука и характеризующегося постоянной скоростью испарения влаги, происходит испарение свободной влаги. Температура каучука в > течение первого периода сушки приближенно равна температуре адиабатического насышения воздуха (температуре мскрого термометра— психрометра с поправкой, зависящей от скорости движения воздуха) и будет ниже температуры воздуха в камере. Состояние [c.239]

Температура высушиваемого материала при определенных пределах его влажности будет ниже, чем в атмосфэрной сушилке. Низкая температура материала держится до испарения свободной влаги. При испарении гигроскопической влаги температура материала будет повышаться и при достижении устойчивой влажности приближаться к температуре горячей поверхности, которой обогревается вакуум-сушильная камера. [c.251]

Формула (17-6) дает несколько заниженное значение 7), так как не учитывает, что теплота Десорбции больше теплоты испарения свободной влаги, а л<С возй- [c.247]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология