Требования к разрешающей способности

Постоянное повышение требований к разрешающей способности спектрометров ЯМР объясняется сложной многокомпонентной структурой спектров ЯМР. Как уже указывалось ( 6), в жидкостях и газах прямые диполь-дипольные взаимодействия эффективно усредняются, так что естественная ширина линии достигает 0,01 Гц (т. е. уменьщается в миллион раз по сравнению с шириной линии ь кристалле). В этих условиях хорошо обнаруживаются слабые взаимодействия ядерного магнитного момента экранирование ядра электронами (химический сдвиг) и косвенное спин-спиновое взаимодействие (через электроны связей). Эти два взаимодействия определяются химической природой исследуемого вещества, что позволяет использовать спектры ЯМР как весьма эффективный метод установления структуры соединений. [c.34]

Требования к разрешающей способности. Мы установили, что чем больше регистрируемая глубина линии поглощения, тем меньше погрешность ее измерения и тем, следовательно, больше чувствительность обнаружения линии. Регистрируемая глубина линии увеличивается при сужении инструментального контура спектрального прибора. При бесконечно узком контуре регистрируемая глубина линии равна истинной. Рассмотрим в качестве примера линию поглош ения, истинный контур которой описывается гауссовской функцией [c.339]

При измерении эквивалентной ширины спектральных линий поглощения требования к разрешающей способности значительно менее строги. Как будет показано ниже, измеренное значение обычно не зависит от инструментального контура спектрального прибора. Действительно, пусть имеется схема измерения (рис. 13.1), с помощью которой экспериментально определяется спектральное распределение светового потока от источника сплошного спектра. Измерения ведутся до того, как создан поглощающий столб паров Фо (,), и после того, как в кювету введены поглощающие пары (Ф )- Предположим, что такие измерения проводятся дважды — первый раз на приборе с бесконечно большой разрешающей способностью (бесконечно узким инструментальным контуром) и второй раз на спектральной аппаратуре, инструментальный контур которой имеет конечную ширину и задан функцией Ф ( v). Тогда первый прибор дает истинные спектральные распределения Фох, и Фа, второй — искаженные Фох и Фгх. Эквивалентная ширина линии, вычисленная но данным, полученным на первом приборе, будет [c.341]

Считая 7 для газа 0,0003 (Г) и Ь = 250 мм, требование к разрешающей способности оптической системы проектора можно выразить следующим образом [c.221]

При рассмотрении оптических систем спектральных приборов с призмами и плоскими дифракционными решетками мы всегда предполагали, что и призмы и решетки устанавливаются в строго параллельных пучках лучей и потому не вносят никаких аберраций в изображение щели. Влияние призм и решеток на структуру световых пучков сводилось, таким образом, лишь к изменению увеличения оптической системы в меридиональной плоскости, т. е. в главном сечении призмы или решетки, и к искривлению монохроматических изобрал(ений прямой входной щели. Но на практике всегда имеют место некоторые отклонения от параллельности лучей, падающих на диспергирующий элемент, и при высоких требованиях к разрешающей способности спектрального прибора для оценки получаемого качества изображения следует принимать во внимание аберрации не только объективов, но и диспергирующего элемента. [c.248]

К преимуществам однолучевой схемы следует отнести ее простоту и устойчивость к вибрациям, а также сравнительно невысокие требования к разрешающей способности фотопластинок. Однако в однолучевых схемах восстановленное изображение наблюдается на фоне яркого свечения восстанавливающей волны, что во многих случаях нежелательно. [c.62]

К фотоматериалам, применяемым для записи голограмм, предъявляется ряд специфических требований. Основным из них является требование к разрешающей способности материала, которая должна во много раз превышать разрешающую способность материалов, используемых при фото- и киносъемке, т. е. светочувствительный слой должен состоять из достаточно мелких и близко расположенных зерен бромида серебра. Уменьшение их размеров приводит к снижению светочувствительности эмульсии и уменьшению рассеяния света в толще эмульсии. В свою очередь, уменьшение рассеяния света приводит к увеличению отношения сигнала к шуму. [c.90]

Выбор той или иной схемы съемки зависит от характера решаемой задачи, формы и размера образцов и от требований к разрешающей способности метода съемки. [c.40]

Требования к разрешающей способности. Мы установили, что чем больше регистрируемая глубина линии поглощения, тем меньше погрешность ее измерения и тем, следовательно, больше чувствительность [c.330]

Для получения максимальной интенсивности ионного пучка при определенном давлении число коллиматорных пластин должно быть уменьшено, а ширина щелей увеличена, насколько это позволяют требования к разрешающей способности. 8) Материалы, служащие для изготовления ионного источника, должны быть антимагнитными, не должны поглощать много газа или обладать склонностью к реакциям, при которых образуются непроводящие поверхностные пленки. Рекомендуется применение позолоченных электродов [64]. 9) Поскольку в газовых анализах характер полученных спектров очень часто зависит от температуры анализируемого газа, необходимо термостатирование, осуществляемое с таким расчетом, чтобы входящий в ионный источник газ успевал достигнуть температурного равновесия. [c.78]

Иначе оценивались перспективы изучения структуры кристаллов. Вследствие правильного расположения атомов или молекул и возникновения отражений Вульфа — Брегга от плоскостей криста.плической решетки требования к разрешающей способности прибора снижаются. Нирс [5] указывает, что, согласно динамической теории интерференции, при прохождении электронных лучей через кристаллическую решетку будут иметь место многократное преломление, колеблющаяся с толщиной кристалла проницаемость и селективная (в зависимости от направления пучка) абсорбция. Поэтому при соответствующих толщинах кристалла следует ожидать появления на электронных микрофотографиях поразительно контрастных изображений кристаллической решетки. [c.188]

Для линейчатого спектра испускания при отсутствии заметного сплошного фона в источнике излучения большая разрешающая способность прибора необходима лишь для разделения линий и не обязательна, если спектр беден линиями. Различие между требованиями к спектральным приборам, предназначенным для обнаружения линий поглощения и линий испускания, как уже отмечалось выше, исчезает, если превышение спектральной яркости линии испускания над фоном оносительно невелико (рис. 13.6). В этом случае и линия испускания, уширенная прибором, может сделаться незаметной на фоне сплошного спектра. Естественно, что при использовании для исследования поглощения источника линейчатого спектра требования к разрешающей способности прибора будут определяться только необходимостью разделения линий источника. [c.340]

Настоящая глава посвящена физическим и физико-химическим основам создания рельефных изображений в слое резиста с учетом возможностей техники литографии будущего, которая позволит получить в широком масштабе структуры субмикронных размеров. Достижение субмикронных размеров элементов необходимо прежде всего для использования литографии (в этом случае микролитографии) в микроэлектронике, в отличие от применяемой в полиграфии (макролитография), где требования к разрешающей способности существенно ниже [1]. [c.15]

Чем больше относительное отверстие объектива, тем труднее исправляются аберрации высших порядков как для изображения точки на оси (сферическая аберрация), так и для широких наклонных пучков вместе с тем возрастает и количество линз общая толщина всех линз объектива становится соизмеримой с его фокусным расстоянием. Светосильные пяти- и семилинзовые фотографические объективы типа Юпитер и Гелиос имеют относительные отверстия 1 2 и выше. Но далеко не всегда их можно непосредственно использовать как камерные объективы спектрографов. Прежде всего, область их ахроматизации обычно неширока, чаще всего Р—С (486,1—656,3 нм) или О —О (434,1—589,3 нм). Далее, они всегда рассчитываются при положении апертурной диафрагмы внутри объектива, и применение их в спектрографе, где апертурная диафрагма (оправа призмы или решетки) находится впереди объектива, неизбежно приводит к увеличению аберраций наклонных пучков и к значительному виньетированию этих пучков вследствие чего падает освещенность на участках спектрограммы удаленных от оси объектива, и его светосила не используется К тому же у некоторых мягко рисующих фотообъективов сфери ческая и хроматическая аберрация исправляются не очень тща тельно, что неприемлемо в спектральном приборе при высоких требованиях к разрешающей способности. [c.98]

У неахроматических объективов положение фокальных плоскостей с длиной волны изменяется значительно, и для того чтобы обе щели всегда находились в фокусах соответствующих объективов, конструкция монохроматора должна обеспечивать поступательное движение объективов вдоль их оптических осей, согласованное с вращением диспергирующего элемента. Необходимая точность механизма фокусировки объективов определяется требованиями к разрешающей способности монохроматора. [c.147]

Несмотря на большие аберрации, в отдельных случаях при невысоких требованиях к разрешающей способности спектрального прибора призма и плоская решетка могут быть установлены в непараллельном пучке лучей. Схема прибора получается простой и компактной она состоит из двух оптичесшх элементов — [c.256]

Чтобы представить себе требовани) предъявляемые к объективам, использующимся в производстве фотошаблонов, в табл. 2 показаны разрешение и размеры рабочего поля в сочетании с размерами кристаллов и шириной линий. На этапе предварительного уменьшения, когда создается промежугочный диапозитив с уменьшением 10 1, требования к разрешающей способности довольно умеренные и редко превышают величину в 50 лин/мм. Если размеры кристалла не больше 5,08 мм, размеры рабочего поля в 50,8X50,8 мм вполне приемлемы. Эти требования на конечной операции уменьшения значительно жестче. Следует отметить, что для того, чтобы воспроизвести линию шириной в 1 мкм, с ошибкой при подрезании в 5% или менее, оригинал необходимо уменьшить, по крайней мере, в 500 раз. Этого практически достигнуть не удается, если размеры кристалла гораздо больше и превышают возможности координатографа. При этом необходимо еще более строго сочетать разрешение нескольких сотен линий на 1 мм с размерами рабочего поля, которые равны 50,8X50,8 мм. Как уже известно, высокая разрешающая способность соответствует большей числовой апертуре, тогда как размеры рабочего поля выше для меньших значений апертур. [c.578]

Все продажные приборы с двойной фокусировкой снабжены искровым источником для анализа твердых тел и газовыми источниками для исследования органических структур. Требования к разрешающей способности 3000 и >20 ООО соответственно. Важна1я роль разрешающей способности [c.337]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология