Плотность окислов некоторых металлов

В литературе пока имеются лишь отдельные сведения о формировании окисных пленок на тугоплавких металлах и рассматривается этот процесс не с металловедческих позиций. Подробное освещение результатов этих работ выходит за рамки обсуждаемых вопросов и общей направленности данной книги. В связи с этим ограничимся некоторыми общими сведениями об окисных пленках, образующихся на тугоплавких металлах. Выше было сказано, что тантал, наиболее коррозионностойкий из тугоплавких металлов, весьма стоек во многих агрессивных средах вследствие устойчивости в этих средах его окисла Т 2 Об. Однако окисел Таг Об растворяется в плавиковой кислоте, чем и объясняется малая устойчивость тантала в этой кислоте. Окисел тантала растворяется также в щелочах с образованием танталатов. Таким образом, в тех средах, в которых окись тантала растворима, тантал нестоек. Для образования поверхностной пленки необходимо наложение анодного тока, причем, чем вьппе плотность тока, тем быстрее достигается потенциал вьщеления кислорода (линейный участок кривой на рис. 51). Тем не менее образование пленки наблюдается и без наложения [c.57]

Согласно представлениям Феттера в электролите, свободном от окислителей , скорость коррозии в стационарных условиях может определяться плотностью анодного коррозионного тока к, который должен протекать через металл для поддержания его в пассивном состоянии. Эта плотность анодного тока к вызывает образование слоя с той же скоростью, с какой он растворяется. В соответствии с данными рис. 316, процесс можно представить следующим образом некоторое количество ионов металла, которые, двигаясь через пассивирующий слой , подходят к фазовой границе окисел/электролит, переходят далее через фазовую границу в электролит (электрохимическая реакция [c.803]

Когда металл с грубой поверхностью нагревается на воздухе, то окисел в различных точках проникает в него неодинаково, и в исключительных случаях под действительной окисной пленкой может образоваться смешанная зона из окисла и металла. Конечно, просто толщиной невозможно выразить все особенности этого сложного явления. Чтобы дать некоторое понятие о толщине, часто применяются два параметра. Одним из них является средняя общая толщина, т. е. средняя длина отрезков, полученная в результате большего числа измерений, проведенных перпендикулярно к общей поверхности. Если мы знаем количество окисла на единицу площади, то средняя общая толщина получается делением количества окисла на его плотность. Другим параметром является средняя местная толщина, т. е. средняя длина отрезков, измеренных перпендикулярно к данному участку на неровной поверхности. Эта величина получается делением среднего общего отрезка на фактор шероховатости , т. е. на действительную поверхность участка, измеряемого в 1 см . Фактор шероховатости может лежать между 1 и 10 в зависимости от характера поверхности и зависит от метода его определения. [c.56]

Кроме того, также в этих случаях изменение скорости с температурой часто соответствует температурному коэффициенту для диффузионного процесса, а не температурному коэффициенту для химической реакции . Для этих случаев рост пленок на металлах с постоянной скоростью может быть объяснен следующим образом. В начальный период образования первичной пленки на чистой поверхности металла возникает тончайший сплошной слой псевдоморфного окисла. Этот слой является как бы кристаллографическим продолжением решетки металла, и в нем еще не реализованы, возникающие вследствие искажения истинных параметров решетки окисла, напряжения. Однако при достижении некоторой критической толщины этого псевдоморфного слоя окисла имеющиеся в нем внутренние напряжения реализуются, и он превращается в обычный окисел с присущими ему параметрами решетки и плотностью. Таким образом, офисный слой подразделяется на более тонкий внутренний сплошной слой, создающий основное торможение для диффузии реагентов, и, следовательно, для роста пленки, и слой внешний, обычно более толстый, но не сплошной и не вызывающий заметного тормо- [c.45]

С(1 в (М(0Н)2 и в процессе катодного восстановления С(1(0Н)2 до металлического С(1. Если объемный окисел Сс1(0Н)2, выпадая из раствора в результате 1 идролиза комплексного аниона кадмия, не будет создавать на поверхности металла плотного изолирующего слоя, то анодное растворение кадмия в щелочи должно было бы происходить до полного механического разрушения электрода. Однако в действительности, судя по кривым зависимости потенциала от количества прошедшего электричества, растворение кадмия происходит с постоянной скоростью и при постоянном потенциало лишь до определенного предела, завпсяхцего от концентрации щелочи и плотности тока. Затем наступает резкая пассивация электрода, не связанная с какими бы то ни было нарушениями механической прочности электрода. Очевидно, в процессе анодной поляризации, наряду с растворением кадмия, на поверхности электрода происходят изменения, в результате которых в некоторый критический момент прекращается дальнейший процесс анодпого растворения. Такими изменениями могут быть образованио пассивирующего слоя в результате накопления гидроокиси па поверхности металла или в результате образования поверхностного окисла. [c.572]