Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Фотолиз соединений

    В условиях фотолиза 2,5-циклогексадиеноны могут претерпевать множество разнообразных реакций, одна из них формально подобна ди-л-метановой перегруппировке [582]. Так, при фотолизе соединения 161 образуется бицикло[3.1.0]гекс-2-енон (166) [583]. Хотя формально эта реакция подобна превращению 156- 157, механизм ее отличается от механизма ди-я-метановой перегруппировки, поскольку облучение кетона может вызвать переход что, конечно же, невозможно для диена, [c.222]


    Анализ обширного экспериментального, материала, относящегося к к фотолизу соединений различных классов, приводит к заключению, что в действительности осуществляется как одна, так и другая схема фотолиза [1417]. [c.311]

    АВ- -Ь = АВ, АВ +М = А + В + М (индуцированная предиссоциация). Анализ обширного экспериментального материала, относящегося к фотолизу соединений различных классов, приводит к заключению, что в действительности осуществляется как одна, так и другая схема фотолиза [1081]. [c.355]

    Наличие значительного количества углеводородов в составе продуктов фотолиза соединений I—VI и явное преобладание водорода в составе продуктов фотолиза соединений V, VI (см. таблицу) подтверждают данные ЭПР о возможности разрыва под действием УФ-радиации связи 81—С во всех изученных соединениях и 81—Н-связи в соединениях V и VI. [c.225]

    Обнаружение в продуктах фотолиза соединений I—IV значительного количества молекулярного водорода показывает, что в этих соединениях одновременно с разрывом 81—С-связи имеют место процессы первичного разрыва связи С—Н с образованием радикала К—СНа. Приведенные в таблице значения величины р = —, характеризующей соот- [c.226]

    При фотолизе соединений Л соответствующие илиды 13 а-6 были [c.126]

    Более эффективным является фотолиз соединений (70) и (71), при котором также образуется дегидробензол [c.168]

    В конечных газообразных продуктах фотолиза соединений II и III обнаружено 62% Нг, 25% СН4 и 13% СгНе. [c.244]

    В составе конечных газообразных продуктов фотолиза соединения IV после полуторачасового облучения обнаружено 90% Нг и 10% СН4. Этана в заметных количествах не обнаружено. [c.244]

    Другим подтверждением рассмотренной схемы (1.II) — (6.II) является возможность оценки отношения метана и водорода в продуктах фотолиза соединений IV. Действительно, из (1.П) —(6.II) имеем [c.247]

    К)2=И0> кинетический закон, который в исследуемом интервале полной кинетической кривой (/<100 мин.) может быть аппроксимирован линейной зависимостью (Й)г= 1,2-10 t t — в сек.). Определенная по начальному участку полной кинетической кривой начальная скорость образования радикалов в соединении составляет 4-10 г -сек К В конечных газообразных продуктах фотолиза соединения обнаружено 87% Нг и 13% СН4. [c.248]

    Другие продукты, аналогичные продуктам фотолиза соединения 17 [c.357]

    Для объяснения фотолиза соединения Сг(СО)б в присутствии вещества М предложен следующий цепной механизм [c.161]

    Исключительное поведение органических соединений трехвалентного азота невозможно объяснить энергетически, так как энергия азот-угле-родной связи сопоставима с энергиями других углеродных связей и не превосходит некоторые из них. Сомнительно также, чтобы в случае прямого фотолиза соединения трехвалентного азота могли бы быть более стойкими, так как в спектрах поглощения этих соединений есть немало широких и интенсивных линий. Вероятными причинами относительной стойкости этих соединений могут быть процессы тепловой диссипации энергии в растворе или люминесцентное излучение. [c.200]


    Данные по фотохимии гетероциклов, включая оксазолы, приведены в книге [14]. Характерными процессами являются фотоизомеризация оксазольного цикла и фотохимическое взаимопревращение оксазолов и изоксазолов. При фотолизе наблюдается сложный ряд перегруппировок (схема 14) [14]. При фотолизе соединения (22) [c.447]

    Алкилирование соединений (297) тетрафторборатом триэтилоксония дает солн (299) (в.в.) [108] обработка анилином приводит к раскрытию цикла и образованию семикарбазидов (300) (с.в.) [121]. При фотолизе соединения (297 R = Ме, R = Ph) в ацетонитриле получается Л/-метилтиобензамид (301 R = Ме, Ri = Ph) (схема 67) (н.в.) [122]. [c.753]

    Реакции элиминирования, протекающие через промежуточное неустойчивое четырехцентровое состояние, упоминались в связи с фотолизом соединений типа СбНбСНХСНгУ и в связи с образованием замещенных гекса-триенов при фотолизе бензола в углеводородных растворителях (раздел II, 4). Устойчивые продукты присоединения к четырем центрам также хорошо известны в фотохимии они образуются из молекул, имеющих двойные связи в а-, р-положениях к карбонильной группе или ароматическому кольцу. Многие из этих реакций могут протекать только в твердой фазе, а в некоторых случаях указанный продукт получается только из одной кристаллической формы, но не из раствора или другой кристаллической формы [1181. [c.306]

    R — арильный остаток, а R, R"—атомы водорода, галогена, алкильные, алкоксильные или другие группы). Указывается, что соединения XXXIX, содержащие в п-хинондиазидном кольце одну (70] или две алкоксильные группы, значительно более светочувствительны, чем соединения типа XXXVIII, но в то же время уступают им в стабильности к термическим воздействиям [22 . Применение смесей этих соединений позволяет получить копировальные слои с высокой светочувствительностью, но продукты фотолиза их обладают различной устойчивостью к действию проявителей. Это приводит к ослаблению печатающих элементов вследствие частичного удаления продуктов фотолиза соединения XXXVIII из задубленного слоя. [c.190]

    Мас с-опектралыным анализом в конечных газообразных продуктах фотолиза соединения I обнаружено 40% На, 15% СН4 и 45% СгНе. Полученная на основании этих данных величина отношения [c.243]

    Фотолиз соединений в твердых средах при низких температурах требует использования реакционного сосуда, помещенного в сосуд Дьюара во избежание сильного теплоотвода, испарения, охлаждения и конденсации на стенках. В кювете, сконструированной Липшицем и Реннертом [68] (рис. 7-41), можно проводить фотолиз и спектральный анализ соединений в растворителе ЭПА (эфир, изопентан, этанол в отношениях 5 5 2, 3 3 5 и др.) или в других растворителях, образующих стекло при температуре жидкого азота (77,3° К). Кювету можно использовать при температуре жидкого азота в сочетании со спектрофотометром Бекмана DU или с другими спектрофотометрами. С помощью четырех плоских кварцевых окошек в стенках дьюара свет проходит через образец, который находится в спектрофотометрической кварцевой кювете толщиной 1 см. Верхняя и нижняя части сосуда Дьюара расположены выше и ниже видоизмененного отделения кюветы (длиной 10 см) спектрофотометра. Кювета, содержащая образец, и кювета сравнения укреплены на металлическом блоке внутри сосуда Дьюара. Передвижение кюветы с образцом и кюветы сравнения осуществляется вращением металлического блока (на рис. 7-41 не показано), который прикреплен к изолированной ручке, находящейся снаружи дьюара. Заполняя дьюар жидким азотом до уровня верхнего края кювет, можно получить стекло- [c.604]

    Обнаруженное явление, как показали эксперименты на других системах, носит довольно универсальный характер. Большие изотопные H/D-эффекты наблюдались при низкотемпературном фотолизе соединений других классов — спиртов, кетонов, галоидалкилов (см. таблицу). Следует отметить, что эффект сохраняется и в том случае, когда фоторазложение происходит по механизму двухквантового возбуждения (система С2Н5ОН -Ь 2D5OD -f анилин). [c.190]

    ЛЙ41ЙЫМИ скй )остями. По-видимому, оДййм из Этих п )оЦе( сой ямяется протекающее с высокой скоростью отщепление и окислительный фотолиз углеводородных радикалов, а низкая скорость соответствует разрыву азот-углеродных связей. Константы скорости фотолиза соединений со сложной кинетикой рассчитаны по углу наклона касательных к соответствующим ветвям кинетических кривых, и в таблице приводятся оба значения констант. Эти данные являются весьма приближенными, но тем не менее дают ценную информацию о соотношении скоростей. [c.200]


Библиография для Фотолиз соединений: [c.341]   
Смотреть страницы где упоминается термин Фотолиз соединений: [c.315]    [c.445]    [c.294]    [c.538]    [c.198]    [c.289]    [c.67]    [c.164]    [c.247]    [c.40]    [c.40]    [c.39]    [c.198]    [c.158]    [c.425]    [c.198]    [c.105]   
Успехи органической химии Том 2 (1964) -- [ c.388 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Фотолиз



© 2025 chem21.info Реклама на сайте