Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Кинетические неустойчивости плазмы

    КИНЕТИЧЕСКИЕ НЕУСТОЙЧИВОСТИ ПЛАЗМЫ [c.59]

    Результаты указанных выше исследований показывают, что гидродинамические неустойчивости высокотемпературной газоразрядной плазмы во многих случаях обусловлены собственным магнитным полем тока разряда. Высокотемпературной плазме присущи также и кинетические неустойчивости [5], для которых существенно различие в движении разных групп частиц, находящихся в одном и том же объеме. [c.186]


    Электрический пробой промежутка дуговая плазма — холодный электрод. Поскольку гидродинамические неустойчивости связаны с макроскопическим движением газа, время их развития относительно велико. Поэтому при больших скоростях роста разности потенциалов плазмы и электрода основную роль играют кинетические неустойчивости, приводящие к пробою электронными лавинами. [c.204]

    В изометрической плазме средняя кинетическая энергия частиц электронов, ионов, нейтральных и возбужденных атомов и молекул — одинаковая. При тепловом равновесии с окружающей средой такая плазма может существовать неограниченно долго. Газоразрядная плазма устойчива только при наличии в газе электрического поля, ускоряющего электроны. Температура газоразрядной плазмы выше, чем температура нейтрального газа. Таким образом, плазменное состояние является неустойчивым, и при прекращении действия электрического поля газоразрядная плазма исчезает в течение доли секунды, а именно 10 и 10 сек, так как за этот период возникает деионизация газов. Следовательно, плазма представляет собой, с одной стороны, состояние газа и, с другой — смесь нескольких газов. Она состоит из нормальных молекул, свободных электронов, ионов и фотонов. Совокупность частиц каждого рода образует свой собственный газ, состоящий из нейтральных молекул, электронов, ионов и фотонов. Все эти газы, вместе взятые, и образуют то, что называется плазмой. [c.51]

    Два рассмотренных выше примера синтезов фторидов проводились в термической плазме, характеризовавшейся высоким давлением и высокими энтальпиями, в которой реализовались условия локального химического равновесия. Термическая плазма представляет только одно из нескольких состояний, которые могут быть получены в электрических разрядах. Множество исследований других химических синтезов проводились в маломощных тлеющих разрядах низкого давления и маломощных дугах, в которых не устанавливалось равновесного химического состава. Для таких условий важную роль играет процесс передачи кинетической энергии электронов на внутренние степени свободы индивидуальной молекулы. Электроны, ускоренные приложенным электрическим полем, могут обладать кинетической энергией, достаточной для генерации при соударениях с молекулами возбужденных или ионизированных состояний этих молекул. Электроны, сталкивающиеся с молекулами, могут также вызвать диссоциацию их с образованием как нейтральных, так и ионизированных осколков. Реакция же протекает в результате взаимодействия этих неустойчивых соединений с соседними невозбужденными молекулами или другими возбужденными частицами. Физические условия, существующие в различных типах газовых разрядов, рассмотрены в гл. I. Механизмы возбуждения молекул электронным ударом подробно описаны Кондратьевым [62]. [c.212]


    Прикладная плазмохимия охватывает широкий круг процессов,, представляющих значительный интерес для различных областей народного хозяйства химической, металлургической, электронной, радиотехнической, электротехнической промышленности и-др. Кроме того, в последние годы сферы применения плазмохимических процессов постоянно расширяются, в частности, в технологии модифицирования поверхностей твердых тел, в химическом и физико-химическом анализах. Многие плазмохимические-процессы уже используют в промышленности, другие проходят опытные и опытно-промышленные испытания. Анализ результатов термодинамических и кинетических расчетов и экспериментальных исследований плазмохимических процессов свидетельствует о том, что процессы в низкотемпературной плазме особенно перспективны для промышленной реализации в тех. случаях, когда высокие выходы продуктов получаются в существенно неравновесных условиях в неравновесной плазме образуются уникальные соединения образуются чистые и высокочистые, например полупроводниковые, материалы равновесие смещено в сторону высоких температур скорости реакций резко возрастают с повышением температуры, что обусловливает резкую миниатюризацию техники используется широкодоступное, малоценное, неустойчивое по составу сырье сокращается число стадий в технологической линии. Практически невозмож- [c.327]

    Примечательным здесь является наличие "горба" на функции распределения или области энергий где >0. Это указывает на существование отрицательНЬ температур в области малых энергий электронов и может при0 развитию кинетической неустойчивости продольных электро плазмы. [c.262]

    Следует отметить, что уравнение (II.III.29) является в определенном смысле нсполньш. В частности, известно, что кинетические уравнения для волн содержат неоднородную часть, независящую от интенсивности колебаний и обусловленную спонтанным излучением (см., например, 37 книгн 17] или 70 книги (81). Отсутствие в нашем уравнении (П. 111,29) подобной неоднородной части делает его, строго говоря, пригодным лишь для описания процессов, в которых интенсивность волны значительно превышает уро-пень теплового шума. Именно такие задачи возникают в условиях раскачки колебательных неустойчивостей в плазме, а также и при взаимодействии пненишх интенсивных полн с искусственно воз- [c.322]

    Механизм реакций в процессе закалки. На рис. IX.17 приведен предполагаемый механизм, объясняющий наблюдаемый состав продуктов, образованных нз N и F N. Отсутствие кинетических данных для этой системы в диапазоне температур плазмы делает любой предполагаемый механизм предварительным. Оценки показывают, что скорости охлаждения в закалочном зонде с холодной стенкой превышают evadj K [5, 61. Поэтому типичный состав плазмы после перемешивания реагентов закаливается, начиная с температур, превышающих 2000 °К, и до температур 500 К в течение миллисекунд. Вероятно, что в течение такого короткого промежутка времени реакции протекают по относительно простому механизму. С учетом избытка свободного фтора реакции в процессе закалки, возможно, заключаются в последовательном фторировании неустойчивых промежуточных соединений, доминирующих в плазме. Также принимались во внимание некоторые побочные реакции димеризации. В широком диапазоне стехиометрических отношений реагентов при равновесных условиях твердой фазы не образовывалось. Поэтому образование твердой фазы в схеме реакций не учитывалось. [c.207]

    При внешних электрических, магнитных или акустических (механических) воздействиях выше пороговых значений имеют место дальнодействующие магнито-дипольные взаимодействия ассоциатов. При модуляции фазовой прочности в макроскопических ансамблях ассоциатов возникает неустойчивость, сопровождаемая нелинейными эффектами пиннинга (захвата) электромагнитных (абрикосовских) вихрей по цепочечным структурам парамагнитных центров, образуемых ион-радикала-ми ассоциатов. Возникает уникальный природный реактор по преобразованию рассеянной энергии в энергию неравновесной плазмы, электромагнитную и кинетическую энергию движения среды, который может быть описан с позиций нелинейной динамики куперовских пар в анизотропной среде. [c.357]


Смотреть главы в:

Качественные методы в физической кинетике и гидрогазодинамике -> Кинетические неустойчивости плазмы




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Плазма



© 2025 chem21.info Реклама на сайте