Испаритель электронно-лучевой

Есть несколько способов осаждения металлических покрытий в вакууме, но наиболее производительно термическое осаждение (испарение) металлов. Испаритель с металлом для покрытия помещают в вакуумную камеру. К испарителю подают тепловую энергию обычно с помощью электронно-лучевой пушки, металл разогревается до температуры, при которой давление его паров достигает 1,33 Па. Стальная полоса непрерывно движется над испарителем, и пары металла, конденсируясь, образуют на ней плотное однородное покрытие. Одно из важных достоинств вакуумной металлизации — отсутствие горячих и вредных цехов, большого количества сточных вод, что устраняет вредное влияние на окружающую среду, повышает культуру производства и улучшает санитарно-гигиенические условия труда. Однако вакуумный способ нанесения покрытий требует применения дорогого и сложного оборудования, что связано с техническими трудностями и требует высокой квалификации обслуживающего персонала. [c.82]

Широкое применение находят электронно-лучевые испарители, основанные на разогреве анода, содержащего испаряемое вещество, потоком электронов (рис. 48). [c.142]

Рис. 48. Принцип действия электронно-лучевого испарителя

Метод ионного осаждения покрытий в вакууме основан на термическом напылении защитного металлического покрытия на защищаемую деталь в газовом разряде [70]. При этом обрабатываемая металлическая деталь (подложка) является катодом, испаритель — анодом тлеющего разряда. Металл, используемый в качестве покрытия (подложка), напревают любым методом электрическим, электронно-лучевым и др. Пары [c.125]

Та Электронно-лучевой нагрев (вакуумный испаритель), вероятно, выше 2000 700 В основном поликристаллические пленки 10 мм рт. ст. [21] [c.243]

Рис. 21. Электронно-лучевой испаритель с испаряемым анодом

В мощных электронно-лучевых испарителях применяют электронные пушки с аксиальным пучком и с ленточным плоским пучком электронов. Отклонение электронных пучков (лучей) и управление ими осуществляется с помощью магнитных систем. Можно поочередно направлять луч на близко расположенные объекты (тигли, стержни, навески) и напылять послойно пленки из разных материалов. Сконструированы также двухлучевые прожекторы, с помощью которых можно одновременно испарять два различных материала и получать пленки из сплавов и смесей. Если необходимо, используют несколько электронных пушек. Процесс ведут в вакууме 6,7(10 2— Ю- ) Па [5(10 — 10 ) мм рт. ст.] [37]. [c.40]

Комбинация электронно-лучевого нагрева с разрядами в парах металлов реализована в электронно-лучевом плазменном устройстве. В последнее время создан электронно-лучевой плазменный испаритель, производительность которого в 6—8 раз выше обычного электронно-лучевого испарителя. В нем используют явление несамостоятельного электрического разряда в парах металлов. При этом благодаря значительной степени ионизации испаряемых веществ (31,2—32% против 0,13—1,0% при электронно-лучевом и [c.43]

Наилучшие энергетические характеристики и максимальный коэффициент использования геттера имеют электронно-лучевые испарители. В первых отечественных насосах на их базе (сорбционный титановый охлаждаемый насос модели СТОН и сверхвысоковакуумный агрегат на его основе АВТО-20М) использован жидкофазный электроннолучевой испаритель, в котором необходимый ресурс обеспечивается периодической подачей в зону расплава титановой проволоки. Испаритель представляет собой электронную пушку с прямонакальным вольфрамовым катодом и титановым анодным электродом-мишенью, помещенную в поперечное магнитное поле. Ускоряющее напряжение составляет несколько киловольт. Магнитное поле, формируемое с помощью электромагнита, поворачивает электронный пучок почти на 270°. Это позволяет полностью вынести катод и электродную систему пушки из зоны напыления титана, повысив, тем самым, их срок службы и эксплуатационную надежность. Титановая проволока диаметром 1,5 мм размещена на барабане механизма подачи ее запаса достаточно для работы испарителя в течение нескольких тысяч часов. [c.92]

Высокая интенсивность испарения титана жидкофазными испарителями при малом потреблении мощности позволяет создать автономные электронно-лучевые испарители со скоростью испарения титана до 1,5 г/мин для откачки термоядерных установок. Использование этих испарителей в термоядерной установке "Огра" позволило успешно решить проблему создания скоростей откачки установки около миллиона л/с. [c.8]

Наносят тонкие пленки в вакууме методами термического испарения и ионного распыления. При первом методе используют испарители с резистивным или электронно-лучевым нагревом, а при втором — системы диодного или магнетронного распыления. [c.3]

Процесс испарения и качество нанесенных пленок в значительной мере определяются типом и конструкцией испарителей, которые могут иметь резистивный или электронно-лучевой нагрев. Выбор типа испарителя зависит от вида испаряемого материала, его агрегатного состояния и температуры в процессе испарения, а также других факторов. [c.31]

ИСПАРИТЕЛИ С ЭЛЕКТРОННО-ЛУЧЕВЫМ НАГРЕВОМ [c.38]

Рис. 27. Электронно-лучевой испаритель

Электронно-лучевой испаритель (рис. 27) состоит из трех основных частей электронной пушки, отклоняющей системы и водоохлаждаемого тигля. [c.40]

Прежде чем рассмотреть магнетронные системы, необходимо ознакомиться с законами движения заряженных частиц в скрещенных (направленных под углом друг к другу) электрическом и магнитном полях. Раздельное воздействие электрического и магнитного полей на движение заряженных частиц было рассмотрено в 8 в связи с работой электронно-лучевых испарителей. Совершенно иначе ведут себя заряженные частицы при одновременном воздействии этих полей. [c.47]

Рис. 9.7. Принципиальная схема метода AVLIS 1, 4 коллекторы сбора урана, обогащенного и обедненного по нуклиду U-235 2 — лазер на красителе и лазер накачки на парах меди 3 — лазерный усилитель на красителе 5 — лазерный луч 6 — пары урана 7 — электронно-лучевой испаритель

Для откачки установок с пульсирующей газовой нагрузкой перспективны насосы с двумя типами испарителей, например резистивным и электронно-лучевым или резистивным и плазменным. Использование таких насосов придает вакуумной системе повьпиенную эксплуатавдон-ную гибкость при зшеличении газового потока включается дополнительно более мощный испаритель. [c.112]

Электронно-лучевые испарители могут быть одно-и многотигельной конструкции, с разворотом луча на 270 и 180 . При угле отклонения электронного луча до 270° исключается попадание испаряемого материала на катод и загрязнение наносимых пленок материалом катода, который во время работы также испаряется. [c.41]

С наружной стороны рабочей камеры 8, смонтированной в каркасе 4 установки, приварены трубки, по которым подается холодная вода при ее работе или горячая при обезгаживании, а также напуске воздуха (для снижения конденсащш паров воды из атмосферы на внутренних стенках камеры). В открывающейся на петлях дверце имеется смотровое окно. В верхней части камеры размещены кварцевый датчик 7 для измерения толщины наносимой пленки и карусель с тремя планетарными подложкодержателями 9, а в нижней - два электронно-лучевых испарителя 11 и две заслонки 10 с электромагнитным приводом, а также нагреватели и датчик температуры подложек. [c.85]

Блоки питания и управления электронно-лучевыми испарителями (для каждого испарителя отдельно), а также механизмами внутрикамерного устройства, вакуумной откачной системой и технологическим даклом нанесения пленок расположены в отдельных щкафах. [c.86]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология