Термическое напыление

Эффективную противокоррозионную защиту оборудование обеспечивают покрытия, для получения которых могут быть использованы основные методы нанесения покрытий в вакууме катодное распыление, термическое напыление и ионное осаждение. Из них наиболее перспективным вследствие высокой эффективности защитного действия является метод ионного осаждения в вакууме. [c.125]

Алюминиевые покрытия термического напыления используемые в морских конструкциях 44 347 [c.39]

Термически напыленные слои [c.125]

При термическом напылении в вакууме металл покрытия помещают в вакуумную камеру (давление 10 —10 Па) и нагревают до температуры, при которой давление его паров достигает порядка 1 Па. На пути потока паров металла помещают защищаемую поверхность, на которую они осаждаются. [c.140]

Электроды обычно изготавливаются путем вжигания серебряной пасты или же путем термического напыления в вакууме. [c.254]

Метод непрерывного термического напыления в вакууме отличается высокой производительностью, покрытия наносят на непрерывно движущуюся ленту и получают однородными с высокой степенью чистоты. Недостатком метода является сложность оборудования и технологии для получения и поддержания вакуума порядка 10-2 р] а испарения больших количеств металла. [c.140]

Метод ионного осаждения покрытий в вакууме основан на термическом напылении защитного металлического покрытия на защищаемую деталь в газовом разряде [70]. При этом обрабатываемая металлическая деталь (подложка) является катодом, испаритель — анодом тлеющего разряда. Металл, используемый в качестве покрытия (подложка), напревают любым методом электрическим, электронно-лучевым и др. Пары [c.125]

Стандарт устанавливает общие требования к выбору металлических и неметаллических неорганических покрытий деталей и сборочных единиц, наносимых химическим, электрохимическим и горячим способом Стандарт устанавливает обозначение, технические требования и методы контроля качества покрытий, получаемых методами термического напыления металлов и сплавов [c.615]

ИСПАРИТЕЛЬНЫЕ ГЕТТЕРНЫЕ И ИОННО-ГЕТТЕРНЫЕ НАСОСЫ С ТЕРМИЧЕСКИМ НАПЫЛЕНИЕМ ГЕТТЕРНЫХ ПЛЕНОК [c.86]

ФЭ дом изотермических кривых Фаулера в сильных электрических полях (до 5-10 в/см) и вакууме мм рт. ст. Термически напыленные на аморфную подложку плен- [682] [c.58]

ФЭ Термически напыленные слои [1288 [c.126]

Параметр ячейки германия равен 5,62 А, а кремния —5,42 А. Структура аморфного германия и кремния детально исследована Я. И. Стецивом и И. Д. Набитовичем методом дифракции электронов. Тонкие слои (200—300 А) получались термическим напылением на слюдяные подложки и отделялись от них дистиллированной водой. Электронограммы снимали при напряжении 80—100 кВ с применением вращающегося сектора, ширина выреза которого изменялась как УР (8). [c.303]

Тонкие пленки получаются многими способами [272], но из всех этих методов для нанесения покрытий на образцы, предназначенные для РЭМ я РМА, пригодны только термическое напыление в вакууме и катодное распыление. Прежде чем обсуждать эти методы, нужно рассмотреть свойства идеальной пленки. Такая пленка не должна обладать какими-либо структурными оо0 беипо1стям1и на уровне разрешения 3—4 нм, для того чтобы не создавать нежелательных артефактов на изображении. Идеальная пленка должна быть однородной по толщине независимо от топографии образца и не должна вносить изменений в измеряемый химический состав образца или ощутимо влиять на интбнсивн о сть рентгеновского излучения, испускаемого образцом. [c.185]

ССБТ. Оборудование и аппаратура для газопламенной обработки металлов и термического напыления покрытий. Требования безопасности. [c.216]

Недавние исследования пленок, полученных вакуумным испарением, подтвердили, что в зародышеобразовании и росте тонки.х пленок важную роль играют заряженные частицы. Например, Чопра [32] показал, что повышенная сплошность тонких термически напыленных металлических пленок получалась в том случае, когда они конденсировались в присутствии электрического поля, приложенного в плоскости под-чожки, Стирлэнд [33] установил, что электронная бомбардировка подложки нз каменной солн, предшествующая конденсации пленок золота, оказывает заметное влияние на проводимость эпитаксиальных пленок. Подложка облучалась электронами с энергией от 9 до 300 В. Согласно [33] пороговая энергия электронной бомбардировки, влияющая на рост пленок, лежит в интервале 12—75 эВ. [c.418]

В разряде постоянною тока картина образования пленок иная при мощности разряда менее 0,1 вт/см- на катоде образуются темные матовые пленки с сопротивлением более 10- ом-см, а при большой мощности — пленки с зеркальным металлическим блеском и сопротивлением около 10 5 ом-см. На аноде получалась прозрачная аморфная пленка полимера с хорошими электроизоляционными свойствами. Пленки с высоким сопротивлением, по. мнению авторов, представляют собой полимерную пленку, образующуюся в результате неполного разложения тетраэтилолова при малых мощностях разряда. Они обладают полупроводниковыми свойствами с электронным типом проводимости. Пленки с малым сопротивлением имели структуру, соответствующую эталонному олову, но отличались от структуры текстурироваппых пленок олова, термически напыленных в вакууме. [c.243]

Кириллов [78] обнаружил и подробно исследовал тонкую структуру в-спектре примесного поглощения галогенида серебра. Объектами исследования были пленки чистой соли, полученные вплавлением между кварцевыми пластинками или термическим напылением в вакууме, а также прозрачные слои мелкозернистых эмульсий липмановского типа. Препараты слабо окрашивали на одной половине засветкой монохроматическим или неразложенным светом поглощение засвеченной половины измеряли относительно незасвеченной в спектрофотометрической установке, разработанной Кирилловым [79]. Применение дифференциального метода позволило-в значительной мере устранить влияние собственного поглощения слоя. Сначала было исследовано хлористое серебро. Автор обнаружил тонкую структуру в видимом и инфракрасном спектре. [c.28]

Пленки нитрида алюминия толщиной до 2 мкм были получены нами пиролизом паров ТМА и аммиака в вакууме 0,8—2 мм рт. ст. в диапазоне температур 300—600°С по методике, предложенной ранее [9]. Подложками служили пластины кремния, прошедшие механическую и химическую полировку, ситалл с предварительно термически напыленным в вакууме подслоем алюминия и свежие сколы iNa l. Использовались очищенный до 99,999% аммиак и ТМА после двойной перегонки. [c.82]

По разнообразию конструктивно-физических решений насосы с термическим напылением геттерных штенок - наиболее многочисленный класс современных электрофизических средств откачки. Из нескольких десятков разработанных модификаций в промышленных масштабах выпускается лишь сравнительно небольшая часть. Требуемая скорость испарения геттера зависит от газовой нагрузки и необходимой степени разрежения. Ее можно варьировать от максимальной практически до нуля, уменьшая подводимую мощность и соответственно температуру геттера (табл. 3.1, рис. 3.1). [c.86]

Основным функциональным элементом ГН и ИГН с термическим напылением геттерных пленок является испаритель. В современных насосах используются как сублимационные испарители, в которых температура распыляемого геттера ниже точки плавления, так и жидко-фаэные испарители. Испаритель определяет максимальную производительность насоса и его ресурс. К числу важнейших параметров испарителей относятся скорость испарения геттера и пределы ее регулирования предельно допустимое давление, при котором возможно включение испарителя энергетическая эффективность коэффициент использования геттера, равный отношению массы испаренного геттера к концу эксплуатации испарителя к его начальной массе (см. табл. 3.1). [c.87]

Сравнительная оценка эксплуатационных характеристик насосов диодного и триодного типов позволяет сделать следующие вьшоды. Триодные насосы предпочтительнее при повышенных давлениях (5 10" Па и вьппе). При меньших давлениях более стабильны вакуумные параметры диодных насосов они имеют, в частности, больший ресурс в непрерывном режиме откачки. Триодные насосы целесообразно использовать в установках с частым напуском газа, а диодные — в сверхвакуумкых системах запуск диодных насосов при швы- шенных давлениях желательно сопровождать термическим напылением дополнительных геттерных пленок. Триодные насосы харак-. теризуются крайне слабым проязлением эффекта памяти по аргону даже после его длительной откачки и меньшей продолжительностью стартового периода. [c.195]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология