Фотолиз полиметилметакрилата

Исследование фотолиза полиметилметакрилата под влиянием длинноволновой части ультрафиолетового света (3030— 3130 А) в вакууме при 25°С 0,5 показало отсутствие в этих условиях цепного процесса . Квантовый выход при этом составил 0,23 Ю . По другим данным, при фоторазложении полиметилметакрилата (в вакууме) при температуре 160—200° С наблюдается значительно более высокая скорость процесса, нежели при чисто термической реакции . Квантовый выход для [c.111]

Фотолиз полиметилметакрилата протекает с заметной скоростью при облучении полимера ультрафиолетовым излучением с Л <250 нм. Поглощение полимером квантов света вызывает одновременное протекание реакций трех типов [c.358]

Для макрорадикалов, являющихся промежуточными продуктами в реакциях разложения полимеров, возможна изомеризация или другие превращения в более стабильные формы . Например, предполагают, что при фотолизе полиметилметакрилата возможно образование следующих макрорадикалов [c.74]

Метод времяпролетной масс-спектрометрии применяли [1743] для анализа летучих продуктов, образующихся в процессе механической деструкции полиметилметакрилата. Масс-спектрометрию также использовали [1744] при изучении фотолиза полиметилметакрилата. В работе [1745] при помощи статической масс-спектрометрии вторичных ионов изучали гомологические серии полиалкилметакрилатов и получили характеристические спектры, позволяющие идентифицировать отдельные гомологи. [c.349]

Изотактический полиметилметакрилат получен при радикальной полимеризации (фотолиз перекиси бензоила при комнатной температуре) в присутствии хлористого цинка. Стереорегулярность объяснена комплексообразованием последнего с эфирными группами мономера и с концом растущей цепи. [c.547]

Однако приведенную схему влияния карбонильной группы на фотодеструкцию полиолефина нельзя считать окончательно установленной. Более убедительным представляется механизм, предложенный в работе [161. Авторы показали, что ответственными за образование радикалов при облучении полипропилена являются не карбонильные соединения, а неконтролируемые малые примеси ароматических соединений (например, фенантрена). Процесс фотолиза идет по двухквантовому механизму. Весьма интересные данные получены при изучении механизма влияния добавок ряда ароматических соединений на фотолиз некоторых полимеров. На примере системы полиметилметакрилат — нафталин [17] показано, что фотодеструкция полимера обусловлена переносом энергии с высших триплетных уровней молекулы сенсибилизатора, т. е. идет по двухквантовому механизму. [c.114]

Аналогично поведение полистирола в радикальном полистироле переход от первой стадии деструкции (с энергией активации Е ) ко второй (с энергией активации Е ) происходит при глубине превращения 12% (по потере массы) в полимере, полученном анионной полимеризацией, этот переход смещается к г ю7и>— =1%. Искусственное создание дефектов, например окислением полимера или фотолизом (как в случае полиметилметакрилата, см. табл. 1.9), приводит вообще к исчезновению второй стадии деструкции в этом случае весь полимер распадается с низкой энергией активации. Глубина превращения, пни которой происходит изменение энергии активации от Е к Е , является мерой количества слабых связей и дефектов макромолекул. [c.300]

Известно [56], что многие полимеры, подвергнутые облучению УФ-светом в вакууме, деструктируют с образованием низкомолекулярных продуктов. Среди них имеются как продукты первичных фотохимических актов, так и вторичных превращений макромолекул. Если проводить опыты, в течение которых происходит накопи ление продуктов, то имеется опасность протекания побочных реакций, искажающих истинную последовательность фотодеструк-ционных процессов. МС позволяет проводить анализ этих процессов по ходу деструкции. В [57] исследован фотолиз полиметилметакрилата (изучен состав продуктов и энергии активации их образования), выявлены кинетические особенности выхода первичных продуктов (формиата) и вторичного метилметакрилата. В работе [40] рассмотрена фотоинициированная деструкция ультратонких пленок полиметилметакрилата, зарегистрирована кинетика деполимеризации макрорадикалов, замороженных в пленке после ее облучения УФ светом (рис. 16). [c.182]

Фотохимическая реакция под действием ультрафиолетового света была использована для синтеза привитых сополимеров полиакрилонитрила и полиметилвинилкетона [128]. Для получения привитого сополимера, содержащего 54% акрилонитрила, облучали раствор полиметилвинилкетона в мономере. В отсутствие полиметилвинилкетона мономерный акрилонитрил под действием облучения не полимеризуется. На основании известного поведения алифатических кетонов при фотолизе очевидно, что инициирование привитой полимеризации акрилонитрила может осуществляться двумя различными радикалами, как показано на схеме (Х-27). Подобным образом к полиметипвинилкетону были привиты полиметилметакрилат и поливинилацетат. При использовании сополимеров, содержащих относительно небольшое число кетонных групп, можно синтези- [c.283]

На фотохимич. реакции могут влиять условия Ф, Так, скорость Ф. полиметилметакрилата в присутствии N2 существенно ниже, чом в вакууме. Этот аффект можно объяснить замедлением эвакуации из пленки полимера продуктов фотолиза, ингибирующих Ф. Напротив, разложение полистирола в атмосфере N3 протекает интенсивнее, чем в вакууме. В этом случае замедляется диффузия атомов Н, к-рые обра уются в результате первичной фотохимич. реакции отрыва от третичных атомов углерода (в группах СН) основной цепи макромолекулы, и увеличивается вероятность отрыва под их воздействием атомов Н от соседних групп СНд. В результате возрастает вероятность образования участков сопряженных связей и, следовательно, способность полимера к поглощению света. [c.380]

Из немногочисленных исследований, проведенных в этом направлении, следует отметить работу П. Коули и Г. Мелвила з, осуществивших фотолиз тонких пленок полиметилметакрилата в высоком вакууме при 150— 180° С при помощи источника облучения с длиной волны 2537 А. В качестве стабилизатора был использован нелетучий в этих условиях динитрил тетрафенилянтарной кислоты [c.150]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология