Установки для распыления

Этот способ распыления является наиболее простым, надежным и экономичным, и на нем основана работа ряда выпускаемых промышленных сложных приборов, а также приставок для катодного распыления для вакуумных термических испарителей. Такие приборы, которые работают при энергиях от 1 до 3 кэВ, иногда называют установками для диодного распыления, а также установками для распыления при постоянном токе. Установка для распыления при постоянном токе состоит из небольшого стеклянного колпака, в котором находится мишень — катод и охлаждаемый водой держатель образца — анод и который помещается на контрольном блоке, включающем измеритель вакуума, высоковольтный источник питания, клапан напуска воздуха и небольшое реле времени (рис. 10.10,6). Детальное описание режима работы этого устройства и его использование описано в [292]. Одна из возможных проблем, связанная с распылителем такого типа, заключается в том, что непрочные образцы могут термически повреждаться. [c.201]

На рис. 8 изображена современная установка для распыления металлов в вакууме. Вертикальный, охлаждаемый водой, катод помещен в центре цилиндрической рабочей камеры, причем с этого катода металл распыляется в обе стороны. На каждом конце камеры установлены двери, на которых крепят покрываемые изделия. Двери и камера охлаждаются водой. Для откачивания применяется систе.ма из двух насосов — фор-вакуумного и диффузионного. Такая система позволяет поддерживать высокую скорость откачивания во время покрытия материалов, выделяющих газы, а также пополнять потерю инертного газа во время распыления. При объеме камеры в 60 л время откачивания равно 7 минутам. [c.75]

Р и с. 8. Установка для распыления металлов в вакууме [c.76]

Для лучшей теплопередачи колено 2 можно разделить на несколько ветвей или же увеличить поверхность каким-либо другим способом. В больших циркуляционных испарителях, выпускаемых на заводе стекла в Иене [460—462], трубку 2 снабжают особой обогревательной рубашкой, через которую при требуемом давлении проходит нагретая жидкость или соответствующий пар. Как только возникает опасность кристаллизации, раствор необходимо удалить из циркуляционного выпарного аппарата, и если он не кристаллизуется при охлаждении, то его следует затем перерабатывать в простом выпарном аппарате, подобном эксикатору или колбе, или же в установке для распыления. [c.467]

Рнс. 7.23. Установка для распыления порошкообразного ингибитора [c.206]

В установках для безвоздушного распыления нагретых лакокрасочных материалов, как и в установках для распыления холодных материалов, используются плунжерные насосы в виде мультипликаторов. Изменение давления в гидравлической системе колеблется в пределах 15%, при этом неравномерность толщины покрытия может составлять около 7%. [c.40]

На рис. 1-7 показана принципиальная схема установки для распыления материалов в плазме газового разряда низкого давления с искусственным катодом. В верхней части вакуумного колпака помещается анод ], в нижней —вольфрамовый катод 2. Третьим электродом или зондом Ленгмюра служит мишень 3, используемая в качестве источника распыляемого материала. [c.23]

Имеются также установки для распыления шликера в электростатическом поле без применения сжатого воздуха [330]. [c.230]

Установка для распыления с подогревом. Для нанесения лакокрасочных материалов пневматическим распылением их доводят растворителями или разбавителями до рабочей вязкости. Но снизить вязкость (табл. 6.1) можно [c.132]

Эмаль может наноситься кистью, валиком, пневматическим распылением с помощью специальных распылителей высоковязких составов или установкой для распыления высоковязких двухкомпонентных составов с подогревом компонентов, разработанной НПО Лакокраспокрытие . Толщина слоя покрытия не менее 100 мкм. До пуска в эксплуатацию необходима выдержка покрытия в течение 7 сут. [c.54]

На установке для распыления в реакторе большой емкости (рис. 26) травильный раствор подается из травильной ванны 1 насосом 2 через фильтр 3 в верхний сборник 4, из которого раствор равномерно через вентиль 5 поступает горячий газ из реактора. Движение газа и раствора противоточное. [c.138]

Синтетические моющие средства в виде очень тонких порошков поглощают воду из влажного воздуха (воздух, выходящий из распылительного помещения), становятся пластичными и расплываются. Из-за этого мешки фильтров легко забиваются. Устранить забивку можно с помощью устройства для непрерывного выколачивания мешков удаленную из ткани пыль собирают. В установках для распыления синтетических моющих средств для отделения пыли из воздуха редко пользуются фильтровальными мешками. [c.394]

Все установки для распыления лакокрасочных материалов под высоким давлением (табл. 19) выполнены по одному и тому же принципу и состоят из пневмонасоса высокого давления, распылителя с набором распыляющих устройств, шлангов высокого давления и бака для краски. [c.61]

Плохой вакуум в установке для распыления алюминия [c.302]

Одной из наиболее общих причин плохой работы откачивающей системы в установках для распыления и испарения является продолжительное обезгаживание образца и клейкой ленты, используемой для прикрепления его к держателю. Биологичес- [c.202]

Компрессоры применяются как побудители тяги в пылесосных и пневмотранспортных установках, для распыления воды или поплива сжатым воздухом. [c.4]

Механические насосы. Больишнство современных насосов предварительного разрежения — механические насосы разной конструкции, с весьма различной быстротой откачки. Последняя определяется объемом, вытесняемым подвижной частью насоса за единицу времени, и, следовательно, зависит от числа оборотоп мотора насоса. Производятся насосы с быстротой откачки от нескольких десятых до 300 д/сек. Самые маленькие насосы ставятся на течеискатели, масс-спектрографы, установки для распыления металлов и т. д., а самые большие обслуживают различные производственные объекты. [c.68]

Испарение фоторезистов. Самым универсальным методом удаления защитного покрытия фоторезиста взамен растворения является превращение этого фоторезиста в летучие окислы. Нагревание покрытия фоторезиста до температур 300—500° С в теченне 20 мин в атмосфере кислорода приводит к тому, что поверхносгь пленки становится совершенно свободной от каких-либо остатков органического материала [82]. Однако условия проведения операции удаления фоторезиста очень жесткие и зачастую могут привести к окислению поверхности пленки или к нежелательному взаимодействию материалов подложки и пленки. Во избежание затруднении были разработаны методы, в которых окисление осуществляется при более низки.х температурах с помощью применения физически активированного кислорода. В одном из таких методов испарение покрытия фоторезиста проводится в высокочастотно.м разряде в токе кислорода при давлении 5 мм рт. ст. [118]. Удаление покрытия фоторезиста ионной бомбардировкой облегчается при образовании высокореакционноспособного атомарного кислорода. Применения внешних нагревателей не требуется. Подложки, подвергающиеся воздействию разряда, нагреваются до температур 100—300°С, в зависимости от давления кислорода и ВЧ энергии. Промышленностью выпускаются установки для распыления, полностью автоматизированные, на которых удаление фоторезиста осуществляется полностью в течние 5—10 мин [118]. Скорость удаления фоторезиста, по данным Ирвинга [119], 1000—2000 А мин при температуре подложки 75—120° С. [c.614]

Примечания, а —жизнеспособность при нанесении иа установке—0,5 ч, кистью—3 чг б —установка для распылення высоковязких двух-компонентных систем с подогревом компонента I до 50 С в—перед применением добавляют 15% (масс.) кварцевого аеска сЛюберецкий с зернистостью не более 0,3 мм г —перед применением добавляют ускоритель УП-606/9 (0,7 масс. ч. на 100 масс. ч. эмали) [c.95]

Эмаль наносят валиком, кистью, пневматическим распылением краскораспылителем Р-68 или с помощью установки для распыления высоковязких двухкомпонентных составов с подогревом НПО Лакокр скопОкрытие . Толщина одного слоя покрытия — не менее 100 мкм. Пос,ие высыхания при 18—22 °С в течение 24 ч или при 80 °С в течение 1,5 ч дается выдержка покрытия до эксплуатации в течение 7 сут. Эмаль рекомендуется наносить по грунтовке ЭП-057 или щпат-левке ЭП-0010 в один или два слоя. [c.103]

Хотя Шооп в те годы, когда он изобрел процесс металлизации, считал возможным использовать для расплавления металла при распылении электрическую дугу, прошло сорок лет, прежде чем этот метод нашел промышленное применение. Первые установки для распыления с использованием электродугового плавления металла были созданы в ФРГ, СССР и Японии. В Японии используют переменный ток, однако из-за невыносимого шума, который сопровождает этот процесс, в других странах применяют постоянный ток, получаемый от генераторов. Основная идея плавления металла в электрической дуге проста две проволоки, тщательно изолированные одна от другой, непосредственно перед отверстием выхода сжатого газа (обычно воздуха) перемещаются до места встречи в точке, где зажигается дуга. Расплавленный в электрической дуге металл немедленно рассеивается в мелкодисперсные капельки, которые струей газа направляются с бол1щей скоростью на обрабатываемую поверхность. В Великобритании этот процесс имел ограниченное применение для распыления металлов с высокой температурой плавления с целью восстановительных работ, но когда получили распространение металлические выпрямители и понижающие трансформаторы, то будущее электродугового распыления было гарантировано. Трансформатор, преобразующий трехфазный ток в однофазный, и выпрямитель, способный дать на выходе постоянный ток до 600 А при напряжении около 27 В, являются идеальным комплектующим оборудованием для распыляющей установки. Как правило, частицы металла, полученные плавлением в электрической дуге, несколько крупнее, чем получаемые в лучших газовых пистолетах, но вследствие высокой температуры этих частиц происходит их слабое сплавление с рабочей поверхностью и поэтому адгезия такого покрытия является высокой. К сожалению, пока потери металла при распылении с использованием электродугового плавления заметно выше по сравнению с распылением из газовых пистолетов, и при распылении цинка дуговой способ с экономической точки зрения, по-видимому не имеет преимущества перед пламенными пистолетами. В настоящее [c.379]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология