Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Титан сублимация

    При увеличении числа связей, образуемых данным ионом металла с соседями, возрастает прочность металла и повышается энтальпия испарения (сублимации). Полинг, рассматривавший структуры решеток металлов с позиций теории ВС, отметил, что прочность металлов возрастает при переходе от металлов, имеющих малое число валентных электронов, к металлам переходного характера с его точки зрения металлы, имеющие частично незаполненные d-зоны, располагают большим числом электронов для осуществления межионных связей, а потому и должны быть прочнее. Энтальпия сублимации, отнесенная к одному электрону, действительно изменяется в ряду металлов от I до V группы таким образом, что ее максимальное значение приходится на титан, цирконий и гафний, а энергия, отнесенная к одному электрону, колеблется в пределах 84—168 кДж/моль, что близко к обычным энергиям химической связи. Необходимо, конечно, учитывать, что распределение энергии по большему числу связей скажется на падении ее значения на одну связь. Значение энтальпии испарения металлов имеет, в общем, тот же порядок, что и у ионных кристаллов, однако проводить сравнения трудно из-за влияния природы анионов. Соответствующие значения для хлоридов калия, натрия, магния лежат в пределах 125—168 кДж/моль, а энтальпия испарения металлического натрия равна 100,3. [c.285]


    Титан (Т1) 1700 1750 Та С, ТЬОа Вступает в реакцию с тугоплавкими металлами. Скорости сублимации небольшие при джоулевом нагреве стержней или проволок. Предпочтительно электронно-лучевое испарение [c.55]

    Испарители прямого подогрева наиболее просты и их применяют в том случае, когда температура испарения металла (температура, при которой давление насыщенных паров 10 мм рт. ст.) ниже температуры его плавления, т. е. при сублимации. Такими металлами являются железо, титан, хром (см. табл. 2). [c.51]

    Основные зависимости скорости распыления от параметров высокочастотного разряда (рис. 4) качественно не отличаются от наблюдаемых в тлеющем разряде постоянного тока. В обоих видах разряда медь распыляется быстрее, чем титан, что согласуется с величинами теплот сублимации этих металлов (3,2 эв для меди и 4,2 эв для тита-]1а). Однако абсолютные величины измеренных нами скоростей распыления в высокочастотном разряде оказались значительно более вы. сокими. Так как опыт не показал заметного различия величин ионных токов на распыляемый электрод в тлеющем и высокочастотном разрядах, причину различия скоростей распыления нужно искать в энергиях нонов. Следует отметить, что при сильном нагреве электродов происходит их термическое распыление. Однако расчет, произведенный с учетом измеренных нами температур электродов (- 500°С в тлеющем разряде и до 1000°С в высокочастотном разряде), показал, что термическим распылением можно пренебречь даже для меди во всем интервале условий наших экспериментов. [c.113]

    Насосы ГИН откачивают газ благодаря поглощению его пленкой титана, непрерывно или периодически напыляемой на охлаждаемые водой до температуры 10—20° С внутренние стенки корпуса насоса и внедрению ионов газа в напыляемый на стенки корпуса титан. Инертные газы откачиваются только в ионизированном состоянии при отсутствии ионизатора инертные газы насосом типа ГИН не откачиваются. Испарение титана в насосе происходит из твердой фазы (сублимация). Разогрев испарителя производится в зависимости от конструкции либо пропусканием через него тока, либо электронной бомбардировкой. Насос может работать длительное время без смены испарителей, а наличие внутреннего нагревателя сокращает время запуска насоса. [c.420]

    Поэтому позже стали делать вольфрамовый нагреватель, обмотанный титановой проволокой. В этом случае электрический ток протекал по достаточно устойчивому к перегревам вольфраму, нагревая его, а титан нагревался до температуры сублимации теплопередачей от вольфрама. Довольно широко применяется в качестве испарителя и просто твердофазный титан. Такая конструкция показана на рис. 5.7,а. Нагреватель 1, введенный в откачиваемый объем через изолятор 2, нагревает титановый цилиндр 3 до необходимой для распыления температуры. Распыляется титан с поверхности цилиндра периодически, малыми порциями, и срок службы такого испарителя по расходу титана достаточно велик. [c.125]


    Иногда с целью перевода основы в легколетучее соединение пробу подвергают химической обработке. Так, для определения микропримесей в двуокиси титана пробу обрабатывают газообразным фтористым водородом, нагревая ее до 350—400 °С. При этом получается четырехфтористый титан с температурой сублимации 284 °С. Достигнуто 100-кратное обогащение примесей и соответствующее повышение чувствительности анализа [330]. При анализе цинка высокой чистоты используют вакуумную сублимацию основы, достигая 300—500-кратного обогащения [331]. [c.128]

    Сам факт, что улетучивание титана в замкнутой трубке намного больше, чем сублимация в высоком вакууме (при работающем насосе), является доказательством того, что титан в опытах Эрлиха, а также Хана и Несса переносился при помощи транспортной реакции под действием температурного перепада. Для того чтобы решить, какое газообразное вещество обусловливает этот перенос, необходимо провести новые эксперименты. Возможно, здесь играет роль некоторое количество хлорида, остающегося в титане ири его получении. [c.125]

    Титан обладает высокой стойкостью в технологических средах производства брома и иода, содержащих галоген-ионы и свободные галогены, где нестойки все нержавеющие стали, сплавы, большинство полимеров. Титановое оборудование для иодо-бромной промышленности экономически выгодно и перспективно. К этому оборудованию относятся хлораторы, насосы, башни десорбции и абсорбции, вентиляторы, аппараты для вакуум-выпарки растворов бромистого железа, колонны для отгонки брома паром, кристаллизаторы, центрифуги, сушилки иода, выпарные аппараты для упарки растворов хлорного железа, фильтры бромидных и иодидных концентратов. Так, например, использование титановых центрифуг АГ-630Т и сушилок кристаллов иода в кипящем слое позволило не только механизировать процесс и улучшить условия труда, но и получать иод марки 4 без сублимации. Экономический эффект от внедрения этих аппаратов составил более 900 тыс. руб. [385]. [c.122]

    При получении хлористого алюминия из алюминиевых руд вместе с ним при хлорировании образуются хлорное железо, четыреххлористый кремнш и четыреххлористый титан. Последние два вещества легко удаляются, так как их точки кипения лежат ниже температуры возгонки хлористого алюминия. Несмотря на то, что многие из описанных методов получения хлористого алюминия специально направлены к тому, чтобы избегать загрязнения хлорным келезом, технический хлористый алюминий обязательно содержит эту примесь в том или ином ютличестве. По мнению Ральстона [135], повторной сублимацией практически нельзя удалить хлорное железо. Однако описано несколько методов сублимации хлористого алюминия для применения его в реакциях Фриделя—Крафтса [136]. [c.872]

    Насос, получивший название орбитрон , показан на рис. 366. Внутри корпуса насоса размещен анод с титановым цилиндром. Вольфрамовый катод укреплен на керамическом стержне. Токовводом и экраном катода служит танталовая проволока. Корпус насоса заземлен и на анод подается положительный потенциал до 5 кВ. К катоду приложено положительное напряжение от 50 до 250 В относительно корпуса. Катод и токоввод расположены таким образом, чтобы нарушалась симметрия электрического поля, в результате чего электроны, эмиттируемые катодом, имеют осевую, радиальную и тангенциальную составляющие скорости. Направление движения электронов непрерывно меняется и они, двигаясь по орбитам , проходят относительно большие расстояния, вызывая ионизацию газа. Испарение титана (сублимация) приводит к запылению внутренней поверхности корпуса титаном, поглощающим откачиваемый газ. Пре-дельнбе давление составляет 5- мм рт. ст., скорость откачки инертных газов увеличена благодаря увеличению длины пути электронов. [c.423]


Смотреть страницы где упоминается термин Титан сублимация: [c.1433]    [c.572]    [c.210]    [c.213]    [c.301]    [c.13]    [c.109]   
Технология тонких пленок Часть 1 (1977) -- [ c.208 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Сублимация



© 2025 chem21.info Реклама на сайте