Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Температура затвердевания расплава

    Диаграммы плавкости веществ, образующих твердые растворы. На рис. 130 показана диаграмма плавкости твердых растворов. Температура плавления твердого раствора данного состава не совпадает с температурой затвердевания жидкого раствора (расплава) того же состава. Поэтому на диаграмме плавкости наблюдаются две кривые верхняя отражает температуры затвердевания расплава, нижняя — температуры плавления твердого раствора. На рисунке начало плавления твердого раствора с содержанием 60% Аи соответствует точке б, а начало затвердевания расплава того же состава — точке г. [c.193]


Рис. 37. Зависимость верхней температуры затвердевания расплава прустита от температуры начала кристаллизации аЪ — кривая равных температур Рис. 37. <a href="/info/1784265">Зависимость верхней</a> <a href="/info/14237">температуры затвердевания</a> расплава прустита от <a href="/info/149345">температуры начала кристаллизации</a> аЪ — кривая равных температур
    Температура затвердевания расплава определяется соотношением между величинами свободных энергий твердой Отв и жидкой Ож фаз. Это схематически показано на рис. 53. В точке плавления 7 пл Отв — Ож. Для того чтобы началась кристаллизация, необходимо некоторое переохлаждение АТ. Однако в действительности при малых переохлаждениях кристаллизация не происходит. При понижении температуры стали увеличивается переохлаждение АГ и поэтому стремление жидкости к самопроизвольному затвердеванию увеличивается. Какова же наименьшая величина АТ, при которой может начаться кристаллизация Оказывается, что кристаллизация любой жидкости происходит не сразу. Сначала в ней образуются микроскопические скопления частиц, в которых уже имеется определенная упорядоченность, характерная для твердого состояния. Эти скопления образуются, вследствие случайных отклонений от равномерного распределения, которые всегда имеются в системах с очень большим числом частиц. [c.212]

Таблица 1.1. Зависимость температуры затвердевания расплава е-капролактама 1 (в °С) от содержания в нем Сн о (в %) Таблица 1.1. <a href="/info/12832">Зависимость температуры</a> <a href="/info/1673863">затвердевания расплава</a> е-капролактама 1 (в °С) от содержания в нем Сн о (в %)
    Получение монокристаллов из раствора в расплаве. Понижение температуры затвердевания расплава в присутствии постороннего [c.256]

    Если вещества образуют жидкие и твердые растворы, то температура затвердевания расплава (точка а) определенного состава выше температуры плавления твердого раствора (точка Ь) этого же состава (рис. 6.5). Соответственно при одной и той же температуре состав жидкой фазы (точка а) и твердой фазы (точка с) различаются. С изменением состава сплава постепенно изменяются его свойства. [c.157]

Рис. 1.13. Распределение примеси в расплаве перед фронтом растущего кристалла для к< 1 (а). Изменение температуры затвердевания расплавов, состав которых соответствует рис. 1.13, а, и действительная температура расплава (б). Рис. 1.13. Распределение примеси в расплаве <a href="/info/1584930">перед фронтом</a> растущего кристалла для к< 1 (а). <a href="/info/263079">Изменение температуры</a> <a href="/info/1673863">затвердевания расплавов</a>, состав которых соответствует рис. 1.13, а, и действительная температура расплава (б).

    Диаграмма плавкости системы, представляющей твердый раствор исходных металлов. На рис. 77 в качестве примера показана диаграмма плавкости системы серебро — золото. В результате сплавления этих металлов получается твердый раствор. Поэтому на диаграмме плавкости 1ет эвтектической температуры. Но точка плавления твердого раствора данного состава не совпадает с точкой затвердевания жидкого расплава того же состава. Вследствие этого диаграмма плавкости системы серебро — золото имеет две кривые верхняя показывает температуры затвердевания расплава, а нижняя — температуры плавления твердого раствора. Например, начало плавления твердого раствора, содержащего 60% (мае.) золота, отвечает точке в, а начало затверде- [c.271]

    Так как число экспериментально определяемых кривых охлаждения в методе СТА составляет 50—100, то при малых перегревах расплава всегда находятся такие кривые охлаждения, которые имеют очень малое переохлаждение. В этом случав верхняя температура затвердевания расплава точно соответствует линии ликвидуса. При более глубо- [c.98]

Рис. 41. Зависимость верхней температуры затвердевания расплава 90 % N03 — 10% Ь1Юз от температуры начала кристаллизации (Гд — точка ликвидуса). Рис. 41. <a href="/info/1784265">Зависимость верхней</a> <a href="/info/14237">температуры затвердевания</a> расплава 90 % N03 — 10% Ь1Юз от <a href="/info/149345">температуры начала кристаллизации</a> (Гд — точка ликвидуса).
    Для гранулирования полиэтиленовых восков не могут ( iib использованы обычные приемы и средства, применяемые дяя гра> нулировааия полиэтилена, ибо, как уже отмечалось, расплав воска имеет пониженвую вязкость, а также потому, что температурный интервал затвердевания воска предельно сужен, в отличие от довольно большого aaiepBafla температур затвердевания расплава полиэтилена (вследствие относительно большой его полидисперс-аости). Поэтому для гранулирования воска выбран метод разбрызгивания расплава с последующим охлаждением и затвердеванием образовавшихся капель в токе воздуха. Такой метод применим для расплавов, вязкость которых находится в пределах 30 -700 сот. [c.3]

    Одним из процессов, приводящих к нарушению монотонного распределения примеси вдоль слитка, является его ячеистый и дендритный рост, обусловленный явлением концентрационного переохлаждения, которое было обнаружено в 1953 г. Г. П. Иванцовым, а также Руттером и Чалмерсом. Обычно это явление объясняют уменьшением температуры затвердевания расплава по мере увеличения в нем относительного содержания примеси с /с < 1. При этом часть расплава, примыкающая к фронту кристаллизации, оказывается в переохлажденном состоянии (заштрихованная область на рис. 10), причем максимальное переохлаждение наблюдается на некотором расстоянии от границы раздела фаз. Плоская поверхность растущего слитка теряет устойчивость, на ней образуется множество бугорков, которые превращаются в выступы, быстро продвигающиеся в область более высокого переохлаждения. Когда участки роста отдельных выступов перекрываются, они образуют на поверхности энергетически более выгодную ячеистую структуру. При [c.32]

    Существует также точка зрения [7, с. 94], согласно которой концен-тращюнное переохлаждение объясняется не снижением температуры затвердевания расплава из-за повышенного относительного содержания примеси у фронта кристаллизации, а присутствием примесных частиц перед растущим кристаллом, которое вызывает отставание одних участков растущей поверхности от соседних. В результате стремления системы к снижению свободной энергии происходит ячеистый и дендритный рост слитка, который захватывает примеси, открывая себе возможность для дальнейшего более свободного роста . Изложенная модель позволяет объяснить возникновение концентрационного переохлаждения под влиянием инородных частиц. [c.33]

    Зависимости фактической скорости роста КГ от степени кристаллизации (рис. 116 и 61) качественно не отличаются от аналогичной зависимости для металлического расплава (см. разд. 2.3, рис. 11а). При кристаллизации NaI -2H20 увеличению скорости роста в конце слитка предшествует ее падение до /снижением температуры затвердевания расплава, содержащего значительный избыток воды. Соответствие между зависимостями/— g (рис. 116, 61) и (HjO) — g (рис. 59) в конце кристаллизации подтверждает определяющее влияние состава расплава на кинетику роста слитка КГ. [c.115]

    Как будет показано ниже (часть П, раздел 1.5.2), содержание в полимере экстрагируемых водой соединений может быть уменьшено путем снижения температуры полимеризации ниже 220°. Так, содержание низкомолекулярных фракций в поликапроамиде, используемом для получения щелка, после дополнительного прогрева в течение 50 час при 179° составляет около 5,7% [51]. Очевидно, что этот способ не может быть использован при получении расплава полиамида в трубе НП и формовании волокна непосредственно из расплава по непрерывной схеме. Аппаратура, обеспечивающая при проведении полимеризации в производственных условиях снижение температуры на заключительной стадии этого процесса, должна иметь систему обогрева, которая дает возможность проводить полимеризацию по крайней мере при двух различных температурах — при температуре собственно полимеризации, которая должна быть возможно более высокой, для того чтобы обеспечить достаточно высокую производительность установки, и при более низкой температуре, при которой выдерживают расплав готового полимера для снижения содержания в нем низкомолекулярных соединений. С этой целью расплав выдерживают примерно при 215°, т. е. при температуре, близкой к температуре затвердевания расплава. Технологические затруднения, которые возникают при проведении процесса в этих условиях, совершенно очевидны. Однако если снижение температуры будет небольшим, например с 250—260° до 240—250°, то содержание низкомолекулярных соединений понизится также очень незначительно. Поэтому должна быть тщательно продумана практическая целесообразность увеличения продолжительности процесса полимеризации. С другой стороны, нельзя отказываться и от использования мономера, остающегося в волокне поэтому необходима установка по регене рации лактама из промывных вод. [c.158]


    Повышение температуры снижает потенциал разложения, но переход границы в 1200° К повел бы к новым затруднениям из-за летучести Mg l2 кроме того, при очень высоких температурах недолговечны материалы, из которых конструируют ванны и электроды. Все это вместе взятое приводит к тому, что снижение температуры электролиза становится необходимым. Предел снижению кладет температура кристаллизации Mg lz, т. е. 714° С, если не повлиять на нее добавкой какой-либо посторонней соли, снижающей температуру затвердевания расплава. [c.245]

    В силу этого только часть введенного кремнезема образует частицы новых видов. Кроме того, на формирование новой сложной частицы иногда необходима не одна молекула SIO2. Именно этими обстоятельствами, а не обособленными существованием димеров (Si02)2 вызывается меньшее понижение температуры затвердевания расплава. [c.251]


Смотреть страницы где упоминается термин Температура затвердевания расплава: [c.139]    [c.156]    [c.32]    [c.412]    [c.99]    [c.389]    [c.251]    [c.257]    [c.139]    [c.33]    [c.436]    [c.76]   
Производство поликапроамида (1977) -- [ c.0 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Температура затвердевания

Температура затвердевания расплава капролактама

Температура расплава



© 2025 chem21.info Реклама на сайте