Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Паров, давление, при наличии кривизны поверхности

    На давление насыщенного пара, помимо температуры, оказывает влияние также форма (кривизна) поверхности жидкости и наличие на ней электрического заряда. В 141 мы рассмотрим влияние кривизны поверхности. Пока же будем принимать, что поверхность жидкости является плоской и не обладает зарядом по отношению к окружающей среде. [c.171]


    Таким образом, скорость конденсации с повышением температуры возрастает пропорционально корню квадратному из температуры, т. е. значительно медленнее, чем скорость испарения. Поэтому с повышением температуры сильно возрастает плотность газовой фазы, а следовательно, и давление пара. Согласно правилу фаз система с одним компонентом и двумя сосуществующими фазами имеет только одну степень свободы. Давление пара над плоской поверхностью стабильного химического вещества определяется только температурой и не зависит от количества взятой жидкО Сти (твердого тела), от количества пара и от наличия и концентрации воздуха или другого газа, инертного по отношению к другому пару. На давление пара, помимо температуры, оказывает влияние также форма (кривизна) поверхности жидкости (твердого тела) и наличие на нем электрического заряда. Термодинамика равновесных фазовых переходов приводит к уравнению Клапейрона — Клаузиуса (для плоской поверхности) [c.156]

    На давление насыщенного пара, помимо температуры, оказывает влияние также форма (кривизна) поверхности жидкости и наличие на ней электрического заряда. В 141 мы рассмотрим влияние кривизны поверхности. Пока же будем принимать, что [c.168]

    Проведен анализ влияния поверхностно-активных веществ (ПАВ) на давление пара растворителя в капиллярных системах. Рассмотрены полностью равновесные состояния при постоянстве кривизны поверхности в открытых системах, а также при наличии гравитационного поля, когда кривизна поверхности закономерно меняется с высотой. Проанализированы процессы изменения давления пара в процессе адсорбции ПАВ в закрытой однофазной и двухфазной системе. Сформулированы условия устойчивости для таких систем в отношении к поверхностному натяжению, поверхностной эластичности, адсорбции ПАВ и их концентрации в растворе капиллярного объекта, и, наконец, в отношении к кривизне поверхности малого капиллярного объекта. [c.106]

    Фишер [Л. 34] и Банков [Л. 7а] провели анализ возможности существования углубления, которое продолжало бы функционировать, как центр парообразования даже в случае наличия только лишь чистого пара. На рис. 16 показаны два конических углубления. На рис. 1б,а граница раздела жидкость — пар выгнута кверху, а на рис. 16,Ь — в противоположную сторону. В обоих случаях, если температура поверхности меньше рассчитанной по уравнению (5) для данного радиуса углубления, поверхность раздела погружается в углубление, и радиус кривизны уменьшается. Равновесная разность давлений увеличивается в соответствии с уравнением (2). В углублении (рис. 16,а) давление пара всегда больше давления жидкости, так что, если систему сильно охладить, пар значительно переохладится и полностью сконденсируется. С другой стороны, во втором случае (рис. 16,Ь) при сильном охлаждении системы, хотя поверхность раздела еще больше уйдет внутрь углубления, г при этом уменьшается, а давление пара продолжает падать ниже давления жидкости. Однако даже при низкой температуре пузырь может никогда полностью не исчезнуть. Этот пар в последующем может сыграть роль зародыша, аналогично случаю нерастворимого газа. [c.224]


    Над выпуклой поверхностью, которую имеют мелкие капли жидкости (и вообще центры конденсации), давление насыщенного пара больше, чем над плоской поверхностью, и увеличивается с уменьшением радиуса кривизны. Поэтому необходимым условием конденсации пара в объеме и образования тумана является наличие пересыщенного пара. [c.15]

    Необходимым условием капиллярной конденсации является наличие вогнутого мениска жидкости в порах адсорбента. При этом, чем больше кривизна мениска, тем ниже давление насыщенного пара над ним, и, наоборот, с ростом радиуса пор поверхность мениска спрямляется и упругость пара над ним растет, приближаясь в пределе к давлению над плоской поверхностью. Иначе говоря, пар, еще не достигший давления насыщения по отношению к плоской поверхности, может находиться в состоянии насыщения или даже пересыщения по отношению к жидкости в тонких капиллярах. Отсюда следует, что последовательность заполнения пор по мере возрастания давления пара будет протекать в направлении увеличения их радиуса, и лишь при pips— 1 весь сорбционный объем пористого вещества заполняется жидкостью. Вследствие этого характер капиллярной конденсации и вид изотерм сорбции при прочих равных условиях всецело определяются типом пор и распределением их объема по радиусам, т. е. зависит от г поры и давления (р) адсорбата. [c.95]

    В цилиндрической поре, открытой с обоих концов (рпс. И.З, б), при малых значениях давления на стенках поры образуется адсорбционный слой с вогнутым ци-л и ндр и чес к и м ме и иском. При дости>кеппи давлення насыщенного пара начинается капиллярная конденсация, в процессе которой толщина слоя жидкости на стенках поры увеличивается и радиус цилиндрического мениска умень-п]ается. Конденсация адсорбтива происходит при постоянном давлении, и при полном заполнении поры жидкостью на ее открытых концах образуются шаровидные мениски. При дальнейшем повышении давления происходит конденсация некоторого количества пара на поверхности шаровидного мениска, в результате чего кривизна мениска уменьшается до нуля. При десорбции процесс вначале идет обратимо, испарение происходит с поверхности шаровидного мениска возрастающей кривизны, а затем с новерх-ности шаровидного мениска Постоянного радиуса кривизны, равного радиусу цилиндрического мениска поры. В связи с этим испарение жидкости наблюдается при меньших давлениях по сравнению с конденсацией и на изотерме появляется петля капиллярного гистерезиса (рис. П.4), Капиллярный гистерезис возникает при наличии в порах следов адсорбированного воздуха, препятствующего 1юлному смачиванию стенок конденсатом, а также в связи [c.34]

    Центрами К. могут служить очень мелкие капельки жидкости (зародыши), самопроизвольно образующиеся в результате ф,пуктуаций плотности газовой фазы, взвешенные в ной частички твердых примесей (пыли) или газовые частицы, имеющие электрич. заряд (ионы). Так как равновесное давление пара над поверхностью частиц с очень малым радиусом кривизны выше давления пара того же вещества над плоской поверхностью (см. Капиллярные явления), К. в объеме и при наличии центров К. может начаться. чишь при определенном пересыщении пара П > Hj,p = pjpiv Pli — равповесное давлепио пара над зародышами. Величину Hj.p наз. критич. пересыщением пара. При П < nj.p образующиеся в объеме зародыши конденсированной фазы вновь испаряются, а при П > возникает устойчивая К. После того как К. нача.лась, к результате роста капель я идкости быстро достигается равенство г .Критич. пересыщение составляет, напр., для водяного пара в воздухе, освобожденном от взвешенных твердых частиц и ионов, от 5 до 8. С увеличением теми-ры, а особенно при пали- [c.341]


Смотреть страницы где упоминается термин Паров, давление, при наличии кривизны поверхности: [c.245]    [c.245]   
Физика и химия поверхностей (1947) -- [ c.27 , c.32 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Давление поверхности



© 2025 chem21.info Реклама на сайте