Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Отклонение от параллельности прямых в плоскости

    Перпендикулярность осей посадочных мест под втулки цилиндров и вертикальную передачу к оси опор верхнего коленчатого вала проверяют вертикальным мостиком 3. На конце мостика установлено зеркало, обе отражающие плоскости которого строго параллельны. Ось опор коленчатого вала принимают за базу и от нее измеряют отклонения осей цилиндров от прямого угла. Положение вертикального мостика, закрепляемого в расточках горизонтальных листов блока, контролируют взаимным расположением вертикальных линий отраженного и окулярного перекрестий в окуляре автоколлиматора 7. Отсчет неперпендикулярности проверяемого места под втулку цилиндра или вертикальную передачу берут по вертикальному лимбу автоколлиматора 7 в угловых значениях. Алгебраическая полусумма двух отсчетов одного и того же посадочного места при двух положениях вертикального мостика (через 180°) является неперпендикулярностью оси отверстий к оси опор вала в угловых секундах. Для большей точности измерения выполняют двойной отсчет. Прямолинейность привалочных плоскостей втулок цилиндров и блока и их параллельность оси опор коленчатого вала проверяют аналогично, используя зеркальную марку 5 и зеркальный мостик 2. [c.71]


    Если исследуемый контур плоский, то мы получим фронтальные проекции ряда параллельных прямых, лежащих в одной плоскости и пересекающихся с прямой ММ. Построив горизонтальные проекции всех отмеченных точек, проведем прямые через точки 1, 2х, З1 и Л], В1, С. Если эти прямые при их продолжении пройдут через точки 0, Е, Е и при этом будут параллельными, то это означает, что все показанные прямые в пространстве лежат в одной плоскости. Отклонение какой-либо прямой от параллельности показало бы в данном случае, что исследуемый контур в одной из точек А, В или С) отклоняется от плоскости. В рассматриваемом случае (рис. 19, в) эти иря-мые параллельны, но на продолжение прямой С1< 1 не попала точка Ох. Следовательно, на участке точки О в пространстве контур отклонился от плоскости, в которой лежат остальные его участки. Для исправления неплоскостности необходимо, чтобы точка О заняла другое положение, например соответствующее горизонтальной проекции О .  [c.16]

    Основными видами отклонений расположения профилей, осей (или линий) являются отклонение от параллельности прямых в плоскости — разность Д наибольшего и наименьшего расстояний между прямыми на длине нормируемого участка (рис. 11,о)  [c.448]

    Наличие текстуры позволяет объяснить характер доменной структуры, наблюдающейся в наноструктурном Со. Полосчатая доменная структура в этом состоянии отличается от упомянутой доменной структуры в крупнокристаллическом состоянии в основном тем, что стенки доменов не образуют строго прямых линий. Средняя щирина доменов практически одинакова в обоих случаях. Существование преимущественных ориентировок (кристаллографической текстуры) и высокий уровень обменной энергии приводят к тому, что магнитные моменты соседних микрокристаллитов благодаря не столь высокой разориентации их осей легкого намагничивания располагаются параллельно под влиянием сил обменного взаимодействия. В то же время местные отклонения осей легкого намагничивания от направления усредненного магнитного момента приводят к локальным изменениям в ширине доменов и направлении стенок доменов. Следует отметить, что разориентации микрокристаллитов в плоскости, перпендикулярной преимущественному направлению осей легкого намагничивания (т. е. в плоскости образца), не играют существенной роли в формировании доменной структуры. В этой связи в целом характер доменной структуры наноструктурного образца близок к тому, что наблюдался в случае крупнокристаллического образца. Это, с другой стороны, позволяет предполагать, что механизм формирования доменной структуры одинаков в обоих случаях и определяется фундаментальными магнитными законами (постоянными). [c.228]

    До сих пор мы обсуждали интерферограммы, состоящие из полос, сформированных на бесконечности. Но информацию о разности хода можно также получать другим способом, во многих отношениях более удобным. Если вторую пластину Савара, повернутую на 90° относительно первой, поместить в области схождения или расхождения третьей линзы (ячейка заполнена раствором однородного состава), то такая система даст в плоскости изображения набор вертикальных и параллельных конечных полос [46]. Ширина этих полос зависит от фокусного расстояния третьей линзы - чем короче фокусное расстояние, тем чаще расположены полосы. Для получения строго прямолинейных полос необходимо склеить две полуволновые пластины Савара, как описано в [47, 35]. Типичная интерферограмма диффузионной системы, полученная двойной пластиной Савара, показана на рис. 6. Оптическая разность хода между соседними полосами соответствует разности хода в одну длину волны. Зафиксировав некоторую прямую основную полосу, из интерферограммы можно легко определить ДР(г )/А. Для этого измеряют отклонение полосы от зафиксированного положения и делят его на расстояние между соседними параллельными полосами. Преимущество метода состоит в том, что он позволяет проследить частичный сдвиг полосы со временем, тогда как система с одной пластиной Савара ограничивает его целым числом полос. Несмотря на отличные возможности этого метода для точных измерений, о нем опубликовано сравнительно мало работ [41, 48]. [c.154]


    При рассмотрении оптических систем спектральных приборов с призмами и плоскими дифракционными решетками мы всегда предполагали, что и призмы и решетки устанавливаются в строго параллельных пучках лучей и потому не вносят никаких аберраций в изображение щели. Влияние призм и решеток на структуру световых пучков сводилось, таким образом, лишь к изменению увеличения оптической системы в меридиональной плоскости, т. е. в главном сечении призмы или решетки, и к искривлению монохроматических изобрал(ений прямой входной щели. Но на практике всегда имеют место некоторые отклонения от параллельности лучей, падающих на диспергирующий элемент, и при высоких требованиях к разрешающей способности спектрального прибора для оценки получаемого качества изображения следует принимать во внимание аберрации не только объективов, но и диспергирующего элемента. [c.248]

    Для численного моделирования отклоняющих электрических полей и исследования отклоняющей электрической силы разработаны математические модели, алгоритмы и программы. Для моделирования и расчета плоско-параллельных отклоняющих электродных систем разработана модель на базе метода конформных отображений. Модель реализована на ЭВМ. Помимо прямого назначения, модель использовалась для всестороннего исследования влияния краевых эффектов (на влете, вылете и по боковым кромкам) на эффективность отклонения и точность позиционирования капель в плоскости печати (рис. 4.3). Установлено, что краевые эффекты простираются до носителя записи. В частности, вдоль оси полета величина отклоняющей напряженности в центре конденсатора достигала максимума (100%), а в точках (начало координат на срезе) (-с/ 0 Ъd  [c.85]

    Астигматизм призмы. Важный тип искажения, присущий призме,— астигматизм. Он появляется тогда, когда призма установлена не в минимуме отклонения. Следствием астигматизма является то, что каждая точка щели в фокальной плоскости изображается отрезком прямой, параллельной щели. Это, вообще говоря, приводит к ухудшению разрешающей [c.56]

    Отклонение от параллельности оси (или прямой) и плоскости - разность ЕРА наибольшего и наименьшего расстояний между осью (прямой) и плоскостью на длине нормируемого участка  [c.425]

    Непараллелъность (отклонение от параллельности) прямых и плоскости — разность наибольшего и наименьшего расстояний между прилегающими прямыми на заданной длине (рис. 13). [c.326]

    В случае одномерного поля можно использовать описанную в начале наклонную щель или эквивалентную ей диафрагму, вырезающую сравнительно большой треугольный пучок параллельных лучей. Прямая линия или сторона треугольника (х/ = onst) определяет начальные координаты [ха, уо) в плоскости входа световых лучей Б область шлиры для каждой точки на фотографии отклоненных лучей. В этом случае дифракция также ограничивает чувствительность метода и точность расшифровки. Щели и стороны треугольника на фотографиях получаются размытыми вследствие образования дифракционных максимумов, которые ограничивают возможную информацию, в особенности при большом отклонении и когда границей щели является поверхность модели. [c.56]

    В случае моноклинной системы кристалл устанавливают на гониометрической головке по оси моноклинности Ь, при этом, если ось а вертикальна, на рентгенограмме получаются развертки плоскостей Нкп, если ось с вертикальна — развертки плоскостей пк1, где п — номер слоевой линии. Для триклинных кристаллов одну ось обратной решетки устанавливают перпендикулярно пучку, затем фотометодом находят отклонение одной из прямых осей от положения, параллельного пучку, и, если это необходимо, изменяют юстировку. [c.106]

    При изучении влияния олигонуклеотидов на спектры поглощения ряда красителей в видимой области было получено доказательство, подтверждающее тот факт, что плоскости пуриновых и пиримидиновых оснований в этих полимерах расположены друг над другом. Широко изучено связывание нуклеиновыми кислотами некоторых плоскостных основных красителей и аминоакридинов [35— 51]. Основные красители, проявляющие метахроматизм при взаимодействии с полиэлектролитами, характеризуются тем, что их водные растворы не подчиняются закону Ламберта — Бера. Это отклонение обусловлено агрегацией молекул красителя в концентрированных растворах. Долгое время считали, что агрегация происходит за счет того, что молекулы ароматического соединения укладываются друг над другом так, что их плоскости параллельны, причем нити агрегатов удерживаются вместе за счет лондоновских дисперсионных сил, возникающих между я-электронными системами, вследствие чего появляются изменения в спектре поглощения в видимой области. Связывание таких красителей нуклеиновыми кислотами в разбавленном растворе приводит к аналогичным эффектам (рис. 8-2). Прямая корреляция метахроматичности красителей (за счет определенной упаковки молекул) с гипохромизмом олигонуклеотидов вытекает из тех наблюдений [52, 53], которые показывают, что силы, действующие между циклами соседних ионов в агрегатах красителей в концентрированных растворах, характеризуются равновесным расстоянием 3—4 А. Отрицательный дихроизм окрашенных волокон ДНК (при использовании толуидинового голубого) в видимой области указывает на то, что в таких случаях плоскостные поглощающие группировки красителя расположены в основном под [c.528]


    Рефлексы от кристаллических вытянутых волокон, расположенных под прямым углом к узкому пучку рентгеновских лучей, обычно представляют собой короткие дуги (см. рис. 41), и длины этих дуг служат мерой отклонения осей молекул в кристаллах от идеально параллельного их расположения по от1Юше-нию к оси волокна. К количественной интерпретации надо подходить очень осторожно, особенно если нужно определить распределение ориентаций по распределению интенсивностей в дугах. Для этого прежде всего надо избегать дуг, пересекающих меридиан такие дуги являются отражением от плоскостей кристаллов, которые перпендикулярны или почти перпендикулярны к оси молекулярной цени в кристалле но нужно отметить, что в хорошо ориентированных кристаллах (в которых оси молекул параллельны оси волокна) плоскость кристалла, перпендикулярная оси молекул, вовсе ие отражает лучей (рис. 51), а отражают только такие плоскости кристаллов, которые наклонены к оси волокна под углом, равным или большим брэгговского угла (последний определяется формулой sin Q ll2d, где X—длина волны рентгеновских лучей я d — расстояние между плоскостями кристалла). [c.243]

    Отклонение от параллельности осей (ИЛИ прямых) в общей гьюскостн - отклонение (>г параллельности ЕРА проекций осей ( Лрямых) на их общую плоскость  [c.427]


Смотреть страницы где упоминается термин Отклонение от параллельности прямых в плоскости: [c.449]    [c.12]    [c.163]    [c.448]    [c.448]   
Справочник технолога-машиностроителя Том 2 (1985) -- [ c.448 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Отклонения



© 2025 chem21.info Реклама на сайте