Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Тантал поликристаллический

    Робертс показал, что очень чистые поверхности тугоплавких металлов можно получить, нагревая в вакууме электрическим током проволоку из данного металла для испарения поверхностных слоев и всех загрязнений, за исключением наиболее прочно удерживаемых. Так, например, в случае вольфрама окисел ШОз испаряется при температурах выше 1200°, а поверхностный слой атомов кислорода — выше 2000° ири температурах иа несколько сот градусов выше легко удаляется кислород, растворенный внутри. Можно удалить даже кремний. Такая обработка методом вспышек приводит к образованию поликристаллической поверхности, экспонирующей множество кристаллических плоскостей, среди которых могут преобладать плоскости (100), (110) и (111). Было проведено много исследований но хемосорбции на поверхностях вольфрама, тантала и родственных металлов, приготовленных этим методом, причем последний используется также для очистки вольфрамового острия в опытах с электронным проектором. [c.183]


    Поверхностное натяжение жидкого тантала прн 3273 К а=2,4 мН/м. Поверхностная энергия v=2388 мДж/м . Энергия дефекта упаковки 110 мДж/м1 Параметры самодиффузии поликристаллического тантала в интервале 1423—2473 К предэкспоненциальный множитель >о= =0,12-10- м /с, энергия активации =413,2 кДж/моль в интервале 2073—2773 К Do=2,0-10— м с, =460,5 кДж/моль. Параметры диффузии некоторых элементов  [c.330]

    Модуль нормальной упругости Е поликристаллического тантала в зависимости от температуры  [c.332]

    В качестве материала тиглей могут использоваться многие тугоплавкие металлы, как, например вольфрам, рений, тантал, молибден (как в виде монокристаллов, так и в поликристаллическом состоянии), а также большое число карбидов, оксидов, нитридов, имеющих высокие температуры плавления [16]. Следует отметить, что смачиваемость жидких металлов при возрастании температуры увеличивается, и они могут выползать из тиглей, нарушая (растворяя) при этом конструкцию источника, поэтому подбор тигля под кон- [c.379]

    В число веществ, полученных в виде кристаллов, входят вольфрам, рений, молибден и тантало-ниобиевые и молибдено-рениевые сплавы [86]. В качестве исходных материалов необходимо иметь поликристаллические стержни высокой плотности. Если плотность стержня недостаточна или если велико газовы-деление, то трудно поддерживать зону. [c.226]

Рис. 10.2-16. ОЭС Анализ тонкопленочной структуры микроэлектронного устройства методом ОЭС и поперечного среза этой структуры методом ПЭМ. а—ПЭМ-фотография системы слоев до отжига, на которой видна последовательность слоев сверху вниз) приблизительно 20 слоев Та и 20 слоев 81 толщиной 5 нм каждый, полученные распылением, слой поликристаллического кремния 275 нм толщиной, слой 8102 толщиной около 50 нм, кремниевая подложка б — ПЭМ-фотография образца после отжига при 900° С, на которой видны образовавшиеся новые слои (сверху вниз) поликристаллический силицид тантала толщиной около 200 нм, слой поликристаллического кремния толщиной около 250 нм, слой 810г толщиной около 50 нм, кремниевая подложка в — количественное распределение по глубине, полученное методом ЭОС, кислорода, кремния и тантала, свидетельствующее о формировании слоя оксида кремния на поверхности стехиометрического Та812 [10.2-4]. Рис. 10.2-16. ОЭС <a href="/info/140658">Анализ тонкопленочной структуры</a> <a href="/info/577705">микроэлектронного устройства</a> методом ОЭС и <a href="/info/713810">поперечного среза</a> этой <a href="/info/24750">структуры методом</a> ПЭМ. а—ПЭМ-фотография <a href="/info/330630">системы слоев</a> до отжига, на которой видна <a href="/info/957907">последовательность слоев</a> <a href="/info/1721851">сверху вниз</a>) приблизительно 20 слоев Та и 20 слоев 81 толщиной 5 нм каждый, <a href="/info/73484">полученные распылением</a>, <a href="/info/386289">слой поликристаллического</a> кремния 275 нм толщиной, слой 8102 толщиной около 50 нм, <a href="/info/880129">кремниевая подложка</a> б — ПЭМ-фотография образца <a href="/info/677295">после отжига</a> при 900° С, на которой видны образовавшиеся новые слои (<a href="/info/1721851">сверху вниз</a>) поликристаллический <a href="/info/999585">силицид тантала</a> толщиной около 200 нм, <a href="/info/386289">слой поликристаллического</a> кремния толщиной около 250 нм, слой 810г толщиной около 50 нм, <a href="/info/880129">кремниевая подложка</a> в — <a href="/info/572850">количественное распределение</a> по глубине, <a href="/info/3912">полученное методом</a> ЭОС, кислорода, кремния и тантала, свидетельствующее о <a href="/info/56193">формировании слоя</a> <a href="/info/144210">оксида кремния</a> на поверхности стехиометрического Та812 [10.2-4].

    ПЫХ для эталонных веществ следует использовать достаточно осторожно. Гопкинс и Ривьер [57] измерили абсолютные значения работы выхода для некоторых отсчетных электродов и других напыленных пленок и показали, что, например, для поликристал- лических пленок серебра, нанесенных на стекло, вольфрама и тантала, используемых в качестве подложек, работа выхода составляет 4,30, 4,32 и 4,44 эВ соответственно. Эти цифры можпо сравнить со значениями 4,29 и 4,62 эВ для поликристаллического лгассивного серебра и его монокристалла [грань (100)]. Имеются веские основания, позволяющие отнести все данные по КРП к работе выхода (4,54j эВ) для чистой, прошедшей длительное старение вольфрамовой фольги [56], для которой имеются более надежные данные, чем для любых других веществ. [c.128]

    При повышении содержания углерода в системе решетка металла становится кубической плотноупакованной и образуется новая фаза, в которой атомы углерода занимают промежуточные положения в гранецентрированной кубической решетке атомов металла. Предельный состав этой фазы — M j oo У кубических монокарбидов область гомогенности гораздо больше, чем у гексагональных субкарбидов. Кроме того, хотя и можно получить соединения с составом, близким к M j oo- но при их нагревании до высокой температуры в атмосфере гелия или в вакууме углерод теряется. Кемптер и Надлер [16] изучали термическое разложение поликристаллического монокарбида ниобия при 2000—3200° С и монокарбида тантала при 1890—3320° С в атмосфере гелия под давлением 1 атм и нашли, что оба карбида теряют углерод вплоть до состава, при котором соотношение углерод металл изменяется по экспоненциальному закону С/М = Л — В ехр (It), где А, В к X — константы, г f С — макси- [c.136]

    Итак, стабилизированные стали должны содержать достаточное по отношению к углероду количество карбидобразующего элемента (достаточная стабилизация), который должен связать углерод в специальные карбиды и этим сделать невозможным выпадение карбидов хрома. В этом случае стали ведут себя приблизительно так, как если бы они почти совсем не содержали углерода. Напомним (см. 4.1), что стабилизация стали 1Х18Н9 титаном и ниобием в соответствии с эмпирическими формулами, приведенными выше (табл. 18), в большинстве случаев полностью подавляет склонность к межкристаллитной коррозии того типа, который проявляется у нестабилизированных сталей после сварки (см., например, рис. 31). Изделия, изготовленные с применением сварки из правильно стабилизированных сталей [226, 244], оказываются и без последующего отжига стойкими к межкристаллитной коррозии в зонах, подвергшихся термическому влиянию. Однако, нри более длительных выдержках в условиях критических температур и стабилизированные таким образом стали становятся также в различной мере склонными к межкристаллитной коррозии в зависимости от степени стабилизации. Действительно, ранее было установлено, что растворяющий отжиг при температуре 1150° С уже может оказать влияние на стойкость стали с более низким содержанием титана и ниобия. При этой температуре еще не может произойти значительный рост зерна, поэтому увеличение количества карбидов хрома, выделяющихся но границам зерен в зоне термического влияния сварного соединения, нельзя в этом случае объяснить только уменьшением всей поверхности границ за счет роста зерна. Точно так же гипотеза о значительной поверхностной активности углерода по отношению к хромоникелевому аусте-ниту, основанная на современных представлениях о роли поверхностных слоев кристаллов твердого раствора при термообработке поликристаллических веществ и очень хорошо описывающая распределение углерода в аустените, не объясняет процесс освобождения связанного в специальном карбиде углерода во время растворяющего отжига при высоких температурах. Чтобы в поверхностных слоях аустенитных зерен могла повыситься концентрация углерода, прежде всего должна произойти диссоциация присутствующих в структуре карбидов титана, ниобия или тантала, а для этого углерод и карбидобразующий элемент должны перейти в твердый раствор. Реально ли это с термохимической точки зрения, можно вывести [c.128]

    Сплавы для исследования, состав которых указан в таблице, приготовляли из йодидного циркония (99,9%), тантала (99,48%), карботерми-ческого ванадия (99,84%). Сплавы выплавляли в дуговой печи с вольфрамовым электродом в лунках медного водоохлаждаемого поддона в атмосфере очищенного аргона. Химический анализ показал удовлетворительное согласование с шихтовым составом. Проведена закалка сплавов в ледяную воду после отжига при температуре 900° в течение 150 час. Отжиг сплавов производили в двойных эвакуированных кварцевых ампулах, внешняя ампула заполнялась циркониевой стружкой. Для исследования фазового состояния закаленных сплавов применены методы металлографического и рентгеновского фазового анализов и измерения твердости. Измерение твердости сплавов производили иа твердомере типа ТП при нагрузке 10 кГ, травили шлифы смесью азотной и плавиковой кислот, взятых в различных соотношениях. Рентгенограммы снимали с поликристаллических цилиндрических образцов, которые стравливали до 00,3 мм. Съемку рентгенограмм производили в камере типа РКД диаметром 57,3 мм с асимметричной закладкой пленки на медном нефильтрованном излучении, для уменьшения фона от характеристического излучения ванадия служила вторая пленка, которую накладывали на основную. Ввиду того, что, как это указывается в работе [4], образование м-фазы начинается в двойных сплавах циркония с электронной концентрацией -фазы 4,07—4,10 эл1атом, а -фаза стабилизируется в сплавах, электронная концентрация которых не ниже [c.98]


    С появлялась фаза поликристаллического р-Та205. Полученные в работе [09] аморфные пленки нятиокисей ниобия и тантала [c.360]


Смотреть страницы где упоминается термин Тантал поликристаллический: [c.345]   
Эмиссионные и адсорбционные свойства веществ и материалов (1975) -- [ c.91 , c.94 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Поликристаллический

Тантал



© 2025 chem21.info Реклама на сайте