Адионы поверхностная концентраци

Если выделение металла совершается, па твердом катоде, то в результате разряда. ионов образуются первоначально адатомы металла (или его адионы), которые лишь на следующей стадии переходят в решетку твердого металла. В этом случае сох=см +, а св=сма, где сма — концентрация адатомов металла. Если поверхностная концентрация адатомов очень мала, то всю поверхность катода можно считать активной, и уравнение (ХУГ-67) может.быть написано в его обычном виде. Так, например, электрохимическое перенапряжение при выделении цинка на цинковом электроде [c.375]

III. ПОВЕРХНОСТНАЯ КОНЦЕНТРАЦИЯ АДИОНОВ [c.267]

Поверхностная концентрация адионов [c.270]

Поверхностная концентрация адионов при обратимом потенциале определяется непосредственно из уравнения (18), где — наклон быстрой гальваностатической кривой потенциал — время при t, значительно превосходящем время нарастания в условиях, когда скорость лимитируется стадией переноса заряда, но значительно меньшем времени достижения стационарного состояния. Уравнение (16) может привести к соотношению [c.270]

Приведенные выше уравнения были использованы Мелом и Бокрисом [15] для первого определения поверхностной концентрации адионов (табл. 2). [c.271]

Величины плотности тока обмена равновесной поверхностной концентрации адионов Сц и потока поверхностной диффузии (, для серебра в растворах АйСЮ [c.272]

Равновесная поверхностная концентрация адионов в значительной степени зависит от состояния поверхности. Так, для электродов, подвергающихся первой поляризации после предварительного прокаливания в гелии [14, 21], величина См в несколько десятков раз меньше, чем для активных электродов. Табл. 3 иллюстрирует характерный разброс значений с",с1 в зависимости от предварительной обработки электрода . [c.272]

Влияние предварительной обработки поверхности на величину поверхностной концентрации адионов на серебряных электродах при обратимом потенциале [c.273]

Обсуждение ограничивается сопоставлением констант скоростей переноса заряда и поверхностной диффузии, а также сопоставлением величин поверхностной концентрации адионов при обратимом потенциале для различных подложек. Имеются сравнительные данные для поверхностей, приготовленных методом предварительного прокаливания в водороде и гелии, предварительно электроосажденных или растворенных, а также для поверхностей, которые частично были покрытыми окисной пленкой. [c.292]

До сих пор еще пе ясно, какой из вариантов является наиболее вероятным все же предпочтение, по-видимому, следует отдать двум иоследним. Существование адатомов (или адионов) было доказано рядом независимых методов, которые позволили также определить их концентрацию. Поверхностная диффузия частиц должна играть наибольшую роль в тех случаях, когда участки роста (дислокации, двухмерные зародыши) занимают лишь незначительную долю поверхности. Тогда, вследствие большого расстояния Ха, на которое должны переместиться адсорбированные частицы до места их включения в решетку, градиент концентрации Асив.с1х,1, а следовательно, и скорость поверхностной диффузии будут малы. Поверхностная диффузия может оказаться замедленной стадией при электроосаж-деыии металлов. Эти условия реализуются на бездефектных гранях (или гранях с малым числом дефектов) и в области низких поляризаций (малые илотности тока), когда число зародышей невелико. [c.342]

До сих пор еще не ясно, какой из вариантов является наиболее вероятным все же предпочтение, цо-видимому, следует отдать двум последним. Существование адатомов (или адионов) было доказано рядом независимых методов, которые позволили также определить их концентрацию. Поверхностная диффузия частиц должна играть наибольшую роль в тех случаях, когда участки роста (дислокации, двумерные зародыши) занимают лишь незначительную долю поверхности. Тогда, вследствие большого расстояния ха, на которое должны переместиться адсорбированные частицы до места их включения в решетку, градиент концентрации Асаа1Хс1, а следовательно, и скорость поверхностной диффузии будут малы. Поверхностная диффузия может оказаться замедленной стадией при электроосаждении металлов. Эти условия реализуются на бездефектных гранях (или гранях с малым числом дефектов) и в области низких поляризаций (малые плотности тока), когда число зародышей невелико. При повышении поляризации доля активной поверхнрсти увеличивается в результате возрастания исла двумерных зародышей,и перехода ранее неактивных участков роста в активные (депассивация). Кроме того,- при смещении потенциала в отрицательную сторону повысится концентрация частиц. Все это приведет к увеличению градиента концентрации, в результате чего поверхностная диффузия перестанет быть замедленной стадией. Скорость процесса осаждения начнет лимитироваться иной стадией, наиболее вероятцо — стадией переноса заряда. При еще больших поляризациях замедленной стадией сделается доставка разряжающихся ионов к поверхности электрода, и потенциал электрода будет определяться перенапряжением транспортировки. [c.357]

Если поверхностная диффузия лимитирует скорость процесса, то на растущей ступени кристалла обмен между адионами и атомами, которые уже являются составной частью решетки, происходит сравнительно быстро и, следовательно, концентрация адионов [c.279]

Изменение активности вызывается выравниванием концентрации адионов между плоскостями, так же как и в первом случае, однако это выравнивание происходит с помощью поверхностной диффузии, а не через раствор. Тогда [c.291]

До сих пор рассмотрение различных механизмов доставки адионов к участкам роста проводилось для систем с токами обмена порядка миллиампер на 1 см и выше. Было найдено, что поверхностная диффузия определяет скорость процесса нри потенциалах, близких к обратимому для растворов, содержащих сравнительно высокие концентрации примесей, эта область распространяется до более катодных потенциалов. При обычных плотностях тока, [c.297]

При наложении на электрод с идеально плоской поверхностью некоторого постоянного перенапряжения через двойной слой протекает поток ионов однако это происходит до тех пор, пока концентрация адионов не достигнет определенной величины. В идеальном случае, т. е. в отсутствие эффектов удаления адионов диффузией к растущим ступеням с включением в решетку, ток в дальнейшем протекать не будет, если концентрация адионов при данном потенциале недостаточна для образования центров кристаллизации. Количественные расчеты с использованием уравнения (116) показывают, что в случае серебра, например, значительного образования центров кристаллизации следует ожидать при перенапряжении порядка 80—100 мв (рис. 25). Экспериментально найдено, что на медных нитеобразных кристаллах (полагают, что поверхности последних близки к идеально плоским и не имеют ни ступеней, ни участков роста) электроосаждение не происходит до тех пор, пока перенапряжение не достигнет примерно 100 мв (Вермилиа [60]). Однако плотность тока, наблюдаемая в начале образования центров кристаллизации, не соответствует величине, подсчитанной по уравнению (116). Этот ток определяется поверхностной диффузией или лимитируется переносом и может достигнуть значительных [c.316]

Поверхностная энергия металла, контактирующего с электролитом, иная, чем при контакте с паром этого металла. Адсорбированные из раствора частицы уменьшают поверхностную энергию. Вследствие гидратации ионов равновесная концентрация адионов металла при контакте его с раствором должна быть больше, чем концентрация адатомов при контакте того же металла с его парами (при невысоких температурах). Подвижность адионов будет затрудняться присутствием на поверхности других адсорбированных частиц, особенно молекул воды. Гидратация адионов ослабляет их связь с субстратом и снижает энергию активации поверхностной диффузии этих частиц. Наоборот, присутствие адсорбированных молекул воды будет приводить к тому, что энтропия активации будет более отрицательной. Адсорбция частиц на поверхности и параметры двойного слоя будут зависеть от состава раствора и от тока, проходящего через двойной слой. А это может прямо или косвенно, путем изменения концентрации адионов, их подвиж- [c.328]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология