Получение защитных рисунков

Для изготовления крупногабаритных изделий, имеющих одинаковую толщину стенок (налример раковины умывальника, сидения стула, маски большого телевизора, больших абажуров, навесного шкафа, корпуса приемника, защитного кожуха для машины, рассеивателя для светильников или даже бытовой ванны), единственным реально осуществимым и достаточно технологичным способом в настоящее время является пневматическое формование. Любой другой способ требует применения очень тяжелого оборудования, дорогих и сложных прессформ, окупающихся только при выпуске большого количества изделий одного размера и рисунка. Капитальные затраты на сверхмощные прессы или на особо крупные литьевые машины настолько велики, что даже при массовом выпуске себестоимость изделий, отлитых на них, выше, чем изделий, полученных методом пневматического формования. Как говорилось выше, оборудование для литья иод давлением крупного изделия обходится в 10—15 раз дороже, чем оборудование для пневматического формования того же изделия. [c.60]

ПОЛУЧЕНИЕ ЗАЩИТНЫХ РИСУНКОВ [c.215]

Для получения защитного рисунка на другой стороне заготовки операцию повторяют. Защитный слой краски не должен закрывать отверстия и проводники. Если отпечаток получается нечетким или смазанным, краску удаляют (под тягой ) ватным тампоном, смоченным растворителем (ацетон, хлорированные углеводороды), а затем операцию повторяют. После нанесения защитной краски следует обезжиривание в растворе (см. приложение //, табл. I), промывка в горячей и холодной воде и гальваническое осаждение меди толщиной 25—30 мкм (см. табл. 15.2, раствор № 3) и сплава ПОС толщиной 15—20 мкм (см. табл. 8.2, раствор № 4). [c.107]

Установки для получения защитного рисунка. Установка нанесения сухого пленочного фоторезиста ламинатор) выполнена в виде настольного варианта. [c.57]

Способ декалькомании. Этот способ позволяет свести к минимуму оборудование технологического участка печатных схем на радиотехническом предприятии, максимально упростив технологию получения защитного рисунка. [c.134]

Типичный рецепт эмульсии для получения защитного рисунка фотоспособом следующий. [c.135]

При фокусировке аэрозольного потока с помощью износостойкого сопла диаметром 0,5 мм и при скорости потока около 300 м сек появляется возможность тонкой избирательной шлифовки при изготовлении пленочных микросхем путем удаления лишних участков пленки через защитную маску (трафарет) для получения заданного рисунка. В этом случае должны использоваться относи- [c.21]

Для примера приведем полученные этим методом зависимости при испытании систем покрытий при погружении в 3%-ный раствор хлорида натрия рис. 5.3 и 5.4). Как видно из рисунков, сопротивление и емкость покрытия из двух слоев грунтовки и трех слоев эмали (кривые I) мало изменяются под влиянием коррозионной среды, следовательно, это наиболее стойкая из изу ченных систем. У системы из пяти слоев грунтовки и одного слоя эмали (кри вые 2) после испытания появляется площадка на кривой, выражающей зави симость сопротивления от частоты переменного тока (рис. 5.3, кривая 2 ) Проявляется и слабая зависимость емкости от частоты (рис. 5.4, кривая 2 ) Следовательно, эта система обладает худшими защитными свойствами, чем система из двух слоев грунтовки и трех слоев эмали. [c.102]

Суспензии высокодисперсных пигментов или их смесей с наполнителями в лаках. Образуют защитные покрытия с декоративными св-вами (напр., глянцевые, матовые) или с характерным рисунком. Примен. для окраски самолетов, автомобилей, станков, приборов, холодильников и др. О получении см. Краски, о методах нанесения — Лакокрасочные покрытия. [c.708]

Полученная зависимость состав—скорость коррозии представлена на рис. 1. Как следует из рисунка, наименее стойкими оказались покрытия, содержащие более 50% сурьмы. Причем сурьма и индий в чистом виде в этих условиях практически не растворяются. Следовательно, можно допустить в данном случае стимулирующее влияние сурьмы на процесс разрушения сплава. Однако такое влияние проявляется только при достижении определенного содержания сурьмы в сплаве (50%), т. е. для сплавов, более богатых индием, последний создает защитный слой вокруг частичек сурьмы. [c.13]

До сих пор мы говорили о бесцветных лаках. Их используют, если с помощью защитной лакировки хотят сохранить собственный цвет предмета или его рисунок. Но чаще употребляют цветной лак. Для его получения к бесцветному лаку добавляют соответствующий красящий порошок, который после тщательного размешивания равномерно распределяется в нем. Выбирая соответствующие пигменты, можно получить все известные нам оттенки цветов. [c.133]

Значения полученных величин I и Е наносят на полулогарифмическую шкалу, причем на шкале абсцисс откладывают логарифмы тока, а на шкале ординат — значения потенциала труба— почва при этих токах, измеренные по медносульфатному электроду. Полученный график для почвы с низким или средним сопротивлением приведен на рис. 120. Как видно из графика, первоначальное увеличение тока не вызывает понижения величины потенциала. Однако такое явление наблюдается только до некоторых значений величины тока, после которых увеличение тока вызывает одновременно значительное снижение потенциала. Эта вторая зависимость имеет линейный вид. Переход от первой прямой ко второй происходит по некоторой плавной кривой, показанной на рисунке. Точку необходимого защитного тока и отвечающего ей же защитного потенциала находят дополнительным [c.203]

Сеткографический способ. Сеткографический способ на сегодняшний день является наиболее рентабельным для массового производства печатных плат с шириной линий и зазоров монтажного рисунка соединений не менее 0,5—1 мм. Для получения защитного слоя применяют кислотоупорную краску, наносимую на фольгу продавливанием краски резиновым скребком — рёкелем через трафарет. Трафаретный негативный рисунок из прочной пленки закреплен на сетке из натурального шелка, имеющей 50 отверстий на 1 см длины. Отношение площади, занимаемой нитями, к суммарной площади отверстий составляет 1 1. Для того чтобы нити в сетке не смещались, применяют полугазовое перевивочное переплетение. [c.133]

К числу растений-источников красок добавились водоросли (лакмус), чистотел (желтый), шафран (желто-оранже-вый), черника и др. Из числа методов следует отметить набивку тканей, выполнявшуюся в Египте. Расширился и ассортимент минеральных красок, среди которых искусственно полученные ярь-медяшса (ацетат меди), свинцовые белила (ацетат свинца или хлорид свинца) и др. Отметим, наконец, что рисунки древнеегипетских художников на стенах храмов и на поверхности саркофагов, отличающиеся яркостью цветов, покрьшались сверху защитным слоем высокопрочных лаков типа олифы. Китайская тушь и китайские весьма прочные лаки также бьши известны с древнейших времен. [c.19]

Сеткография. Сеткография относится к методам трафаретной печати и применяется для получения рисунков схемы на партиях плат одинаковых рисунков при минимальном количестве в партии 30—40 шт. Трафарет в виде металлической или капроновой сетки с мелкими ячейками (Л Ь 38—52 ) натянут в жесткой рамке, рисунок схемы на трафарете получают способом фотопечати, используя жидкий фоторезист типа фотосет . Защитная краска с помощью ракеля из полиуретана продавливается через открытые ячейки сетки на подложенную под сетку плату и создает на ней рисунок схемы, негативной по отношению к трафарету. [c.217]

Некоторые специфические особенности имеет процесс изготовления липких пленок медицинского назначения, связанные с необходимостью придания им воздухо- и влагопроницаемос-ти. Эта задача наиболее просто решается путем нанесения на основу липких пленок перфорации (отверстий). Отверстия наносят с помощью вырубных или просечных штампов с периодической (шаговой) подачей материала от размоточного до намоточного устройства. Недостаток этого способа — получение слишком больших отверстий (диаметром не менее 0,5мм). Более удачным является способ нанесения перфорации так называемым прижимным проплавлением . Липкую пленку защищают с двух сторон тонкими защитными пленками из термостойкого полимера и пропускают между двумя вращающимися нагретыми валками, один из которых имеет рифленую гравированную поверхность, соответствующую рисунку требуемой перфорации. Таким образом можно нанести до 75 отверстий на 1 см= липкой пленки при общей площади отверстий 6% [248, с. 30]. [c.151]

Тщательное регулирование установки для экспонирования должно выполняться посредством тестовых рисунков [32]. Чтобы обеспечить воспроизводимость, энергопитание источника света должно быть тщательно отрегулировано. Для получения хорошей четкости тонких линий интенсивность излучения при экспонировании не должна отклоняться от оптимального вначения больше чем на 5—10% [65]. Следовательно, интенсивность излучения по всей поверхности подложки должна либо регулироваться непрерывно, либо проверяться периодически. Несмотря на то, что фоторезисты позволяют изменять экспозицию в широких пределах, явления дифракции, влияющие на качество фотошаблонов, вызывают необходимость поддерживать упомянутую выше точность. Передержка, например, приводит к образованию в слое фоторезиста поперечных связей на некоторых участках под защитным рельефом фоторезиста, вне зоны максимальной плотности. Расширение экспонированных участков под слой рельефа производится также и за счет диффузии рассеянного света в слое фоторезиста из-зя отражения от поверхности пленки или подложки, находящейся под ней. В результате этих явлений линии расширяются, иногда на величину до 2,5 мкм. С другой стороны, недодержка приводит к образованию более опасных дефектов, чем те, к которым приводит образование поперечных связей При проявлении изображения может быть вытравлен весь рисунок. В случае позитивных фоторезистов, наоборот, недостаточно экспоин-роваиный pH ynoiK целиком остается под вуалью нерастворенного полимера. Эти выводы также указывают на то, что продолжительность оптимальной выдержки зависит от толщины. [c.601]

Нитрид кремния. Пленки SisN4 химически инертны и с большим трудом поддаются травлению. Наиболее подходящим травителем является концентрированная (48%) HF при этом скорость травления изменяется от 150 А мин [110] до 500 я 1000 А мин- [98], в зависимости от метода получения пленок и их толщины. Буферные растворы HF взаимодействуют с гораздо меньшей скоростью, около 15 А мин [ПО]. Еще одним травителем может быть раствор, состоящий из 3 мл концентрированной HF и 10 мл концентрированной HNO3 травление осуществляется при температуре 70° С i[98]. Общий недостаток всех этих реактивов состоит в том, что все существующие фоторезисты не выдерживают взаимодействия с ними достаточно продолжительное время, чтобы вытравить несколько сотен ангстрем пленки 31з 4. Для преодоления этого препятств.чя с помощью рельефа рисунка по покрытию фоторезиста изготавливают защитные пленки из молибдена [ПО] или сплава хром — серебро [98]. Эти металлы не взаимодействуют с HF и она не проникает под пленки этих металлов, так что таким способом могут быть изготовлены сравнительно бездефектные рисунки. Сообщают об изготовлении таким способом отверстий диаметром около 7,5 мкм и прямых линий с четкими и резкими краями, [110]. Известно, что в качестве маскирующего покрытия применяют пленки ЗЮг и пленки 51зМ4. которые затем травятся горячей, концентрированной серной кислотой [113]. [c.610]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология