Испарение оксидного слоя

Испарение оксидного слоя. [c.222]

Лампа СВД с воздушным охлаждением представляет собой толстостенный шарик из плавленого кварца, в который впаяны два вольфрамовых электрода, обмотанных тонкой, покрытой оксидным слоем, проволокой, служащей источником эмиссии электронов в атмосфере аргона. После испарения заключенной в колбе капельки ртути в лампе развивается давление в 50 ат благодаря этому сокращается светящийся объем и достигается высокая яркость свечения. [c.7]

Ртутно-кварцевые лампы сверхвысокого давления (СВД, ДРШ) выпускаются с воздушным и водяным охлаждением. Лампы с воз-душным охлаждением представляют собой толстостенный шарик из плавленного кварца, в который впа- 8 ЯНЫ два вольфрамовых электрода, обмотанных тонкой, покрытой оксидным слоем проволокой, служащей источником эмиссии электронов в атмосфере аргона. После испарения заключенной в колбе капельки ртути в лампе развивается давление более 50 атм, благодаря чему уменьшается светящийся объем и достигается высокая яркость свечения. В спектре ламп сверхвысокого давления имеются яркие линии, наложенные на непрерывный фон излучения. Лампы сверхвысокого давления с воздушным охлаждением выпускаются мощностью до 1000 вт. Более мощные лампы имеют водяное охлаждение. Характеристики ламп сверхвысокого давления приведены в табл. 4, а распределение энергии в спектре излучения показано на [c.25]

Технологический процесс получения эмиттирующей ленты состоит в образовании пленок (лент) в результате испарения жидких компонентов суспензии. Суспензию из бака I (см. рис. 81) с мешалкой через трубку 2 подают в воронку 3, которая в нижней части имеет регулируемую щель для вытекания суспензии на поверхность барабана 4. При вращении барабана нож воронки формует оксидный слой. Подсушенный слой смачивается смесью глицерина с бутиловым спиртом, который наносится с помощью валика 5. Влажную пленку отделяют ножом 6 и подают на спе- [c.207]

Опасностью испарения металла керна как внутрь оксидного слоя, так и на изолирующие части лампы, что может вызвать ряд неприятностей. [c.175]

Испарением более летучей окиси бария из смеси окисей бария и стронция, благодаря чему концентрация окиси бария в оксидном слое, уменьшается и он постепенно [c.175]

Перед впаиванием остеклованного молибдена в стеклянную трубку или непосредственно в стеклянный прибор, если спай оксидный, свободную от стекла часть ввода иногда хромируют электрохимическим способом, защищая окисную пленку от испарения пленкой хрома толщиной 0,1 мм. После впаивания и охлаждения слой хрома удаляют, растворяя в концентрированной соляной кислоте или смывая раствором нитрата натрия. В других случаях свободную от стекла поверхность (предварительно очищенную от окислов) остеклованных вводов защищают, впаивая вводы в токе инертных газов (см. 50). [c.137]

Нижняя температурная граница обусловливается, помимо требования достаточного запаса эмиссий, в основном, большей чувствительностью катода к отравлению при низких температурах. Верхний же предел ограничивается испарением оксидного слоя или его активной металлической компоненты ( 57, 1), испарением металла керна в оксидны слой и спеканием оксидного слоя. Скорость испарения оксидного слоя или одной из его компонент можно легко вычислить на основании известной скорос ги испарения окиси бария (рис. 100) . Так, например, в случае слоя весом в 5—10 мг/см время, щ течение которого испаряе гся половина слоя, при температуре катода, равной 1200° К, оказывается равным по меньшей мере от 1000 до 2000 часов. Пои средней тем-цературе в 1000 К для этого необходимо уже 100 000 часов. По данным испарения материалов керна, приведённым в 22, при верхней температурной границе следует ожидать долговечности порядка нескольких тысяч часов. Влияние третьего фактора, а именно спекания оксидного слоя, снижающего его эмиссионную способность, как показывает опыт, имеет место, но количественно оно ещё не изучено. Установлено лишь, что это влияние в значительной мере усиливается с увеличением температуры. [c.236]

Всех этих недостатков лишен метод диффузии в потоке газа-носи-теля ( метод открытой трубы ). В процессе проведения диффузии по этому методу пластины и источник диффузии помещаются в открытую с одной стороны трубу, которая находится в печи, обеспечивающей регулирование и поддержание температуры в двух зонах зоне диффузии и зоне испарения диффузанта. Пар ди( к()узанта доставляется в зону диффузии газом-носителем, в качестве которого используют инертные газы, кислород, их смеси (иногда прибегают и к увлажнению). Использование в качестве газа-носителя таких компонентов, как кислород и водяной пар, способствует образованию нё поверхности сравнительно тонкого оксидного слоя, предохраняющего поверхность от эрозии. [c.158]

Для анализа без пробоотбора, т. е. практически без разрушения, следует использовать плоские или близкие к плоскости поверхности полупродуктов или готовых изделий. Такие поверхности диаметром по крайней мере 10 мм нужно выбирать так, чтобы они были доступны для возбуждения и чтобы свет от источника возбуждения имел беспрепятственный проход по оптической оси спектроскопа. На готовых изделиях и уже смонтированных деталях можно выбирать только поверхности, несущественные для работы детали. Использование для анализа краев и углов изделий возможно только в исключительных случаях (разд. 7.5). Науглероженные и азотированные поверхности сталей не пригодны, поскольку при их использовании меняются условия испарения вещества в плазму разряда. Поверхности, обработанные сварочной горелкой или расположенные рядом со сварочным швом, не подходят для анализа вследствие возможных изменений химического состава материала на поверхности, обусловленных отжигом или разбрызгиванием расплавленного металла. Масса анализируемой детали должна быть достаточно большой для того, чтобы избежать при возбуждении нагрева поверхности до красного свечения. При обработке выбранной поверхности проб или готовых изделий следует принимать во внимание следующее. Поверхность должна быть свободна от всех посторонних веществ, таких, как оксидный слой, металлическое покрытие, слой смазки, краска и т. д. При анализе сталей интенсивность линий железа уменьшается в присутствии ржавчины. В результате этого увеличиваются величины отношений интенсивностей линий аналитических пар и полученные значения концентраций, т. е. искажаются [c.273]

Соответствующие снимки показали структуру чистой окиси стронция. Следовательно, поверхность такого оксидного слоя имеет другой состав, нежели его внутренность. В то время как внутри оксидного СЛ0Я ионы бария и стронция находятся на рас стояниях, соответствующих постоянной решётки смешанного кристалла BaO/SrO, на поверх юсти находятся одни лишь ио ы стронция, расстояние которых друг от друга определяется постоянной решётки чистой окиси стронция. Причиной отсутствия ионов бария в поверхностном слое является, повидимому, большая скорость испарения окиси барйя ( 29, 1), благод чему при прокаливании катода до высоких температур, во время превращения карбонатов в окислы и активирования, с поверхнобти испаряется преимущественно окись бария. При нормальном про цессе производства, это явление ограничивается лишь самой верхней частью слоя, тогда, как при ( лее продолжительвом яа каливании До высокой температуры ( 26) окись бария испаряется также и из более глубоких слоёв, вызывая при этом значительное падение эмиссии. [c.377]

При работе катода у границы оксидного слоя с вакуумом происхсдят лишь процессы, уменьшающие количество избыточного бария , причём при не слишком высоких рабочих температу-рах i( я 900—11 Ю°К) главную роль может играть отравление кислородом, в то время как при очень высоких температурах, (iii 1200 К) может сказываться, испарение избыточного бария. "Гак как практически можно считать, что в случае никелевого иерна не образуется промежуточгного слоя, то у границы оксид- . яого слоя с керном происходит совершенно противоположный процесс. При достаточно высоких температурах либо непрерывно,. [c.448]

При нагреве катода до высоких температур барий восстанавливается из окиси и диффундирует в оксидном покрытии к поверхности катода. Связывание кислорода атомами присадки, т. е. процесс активирования присадками, проходит на границе между керном и оксидным покрытием. Токоотбор с катода вызывает удаление из оксидного покрытия ионов кислорода в результате их диффузии сквозь оксид под действием электрического поля. Скорости активирующих процессов возрастают с ростом температуры, однако при высоких температурах (выще 1000°С) скорости дезактивирующих процессов, таких, как испарение окиси бария с катода, спекание оксида и образование крупнокристаллической структуры, резкое увеличение сопротивления промежуточного слоя, превышают скорости процессов активирования. Оптимальный режим активирования, заключающийся в выборе величин температурно-временной обработки катода и значений токоотбора с него, зависит от применяемых материалов для керна катода, оксида и режима предыдущей обработки на откачке. В связи с тем, что основной процесс активирования катода на тренировке осуществляется за малое время (минуты), его иногда называют кратковременной тренировкой в отличие от длительного процесса стабилизации параметров, носящего название длительной тренировки. Основной мерой борьбы с нестабильностью параметров является уменьшение газосодержания деталей арматуры и очистка их от окислов и других химических соединений. При работе благодаря нагреву и электронной бомбардировке электродов адсорбированные газы (углерод и продукты разложения окислов) выделяются во внутреннем объеме, снижая вакуум, а отравление катода возрастает со снижением вакуума и резко уменьшается с ростом температуры катода. Так как газопоглотитель работает медленно, то в начале процесса очистки электродов повышают температуру катода для уменьшения возможности отравления катода, а затем снижают по мере очистки и повышения вакуума до нормальной температуры в конце очистки. Очистка электродов проводится в режиме перегрузки по рассеиваемой мощности и напряжениям. Перегрузка электродов по температуре в режиме тренировки обычно составляет не менее 100—200°С. Очистка электродов сопровождается дальнейшим активированием катода. Для импульсных и долговечных ламп, у [c.281]

Бесфлюсовая форвакуумная пайка припоями, содержаш,ими легкоиспаряющиеся элементы, не восстанавливающие AI2O3 и не связывающие Н2О. Висмут, кадмий и цинк не способны восстанавливать AI2O3 и связывать Н2О. Однако будучи введенными в алюминиевые припои, они при испарении в форвакууме усиливают разрушение пленки AI2O3 на плакированном слое из прнпоя и химически адсорбируются на паяемом металле в местах несплошности оксидной пленки, выросшей в условиях форвакуума, и тем самым способствуют ее диспергации перед фронтом растекающегося припоя [15]. [c.285]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология