Реакции молекулярного наслаивания

Как мы видим, молекулярное наслаивание производится путем чередования актов хемосорбции не менее чем бифункциональных молекул на твердом теле, поверхность которого служит матрицей для сборки структурных единиц синтезируемого твердого вещества, причем монослои заданного состава образуются один за другим в той или иной заданной последовательности. Однако нет необходимости каждый раз собирать именно монослои, хотя такой способ синтеза позволяет легко контролировать состав наслаиваемого вещества, так как хемосорбция в проточных условиях, при постоянном поступлении реагентов и уносе газообразных продуктов хемосорбции приводит к одному и тому же результату к образованию монослоя, т. е. конечного продукта хемосорбции, имеющего сравнительно простой стехиометрический состав. Можно собирать и не простые монослои, а, пользуясь соответствующими методами, наносить на разные участки поверхности при синтезе каждого данного монослоя структурные единицы, т. е. посредством хемосорбции производить химическую сборку различных структурных единиц, расположенных на матрице в заданном порядке, и таким образом получать не многослойное твердое вещество, а такое твердое вещество, в объеме которого структурные единицы размещены, а если требуется, то и сгруппированы по определенной программе, разумеется, сообразующейся с теми законами, которым подчиняется строение вещества. Речь идет, таким образом, о химической сборке твердого вещества регулярного, в общем случае непериодического строения. Этим методом можно, как мы видим, синтезировать сплошные и равномерные слои вещества заданной толщины с точностью до одного монослоя путем проведения необходимого числа циклов реакций молекулярного наслаивания [c.212]

Реакции 1а, 2, За являются основными при осуществлении нового класса реакций синтеза твердых веществ — реакций молекулярного наслаивания. [c.31]

Специфика реакций молекулярного наслаивания позволяет наносить на поверхность твердого тела монослои разных веществ в заданной последовательности, используя на раз№ых стадиях процесса наслаивания вещества различной химической при- [c.105]

Для контроля за протеканием реакций молекулярного наслаивания на кристаллических матрицах применяют эллипсометрический метод исследования образцов (см. работу 9.4). [c.112]

Каковы особенности проведения реакций молекулярного наслаивания на поверхности монокристаллических матриц [c.114]

Работа 5.6. Изучение действия активатора в реакциях молекулярного наслаивания оксида кремния на металлической матрице [c.115]

К настоящему времени в реакциях молекулярного наслаивания систематически обследован широкий круг соединений элементов III — VIII групп периодической системы. При этом в качестве матриц, на которых осуществлен синтез, использовались материалы различной химической природы и структуры как простые, например кремний, так и сложные (кремнезем, алюмосиликаты), являющиеся диэлектриками, полупроводниками. Синтез методом молекулярного наслаивания в надлежащих условиях одинаково успешно идет на поверхности монокристаллов и пористых материалов (силикагель), а также высокодисперсных порошков. [c.215]

В чем заключается принцип активирующего действия триэтиламина в реакциях молекулярного наслаивания [c.116]

После осуществления заданного числа циклов реакций молекулярного наслаивания (4, 6, 10,. . ., 20) снимают ИК-спектры МНПВО и определяют эллипсометрические параметры полученных образцов. [c.148]

Определяют положение максимума и интенсивность полосы, обусловленной антисимметричными валентными колебаниями Si—О в области 1000—1100 см- , в зависимости от числа циклов реакций молекулярного наслаивания. Идентифицируют синтезированный оксид, грипп.мая во внимание, что положение максимума полосы и ее полуширина чувствительны к составу, структуре и плотности исследуемого вещества. [c.148]

Обработка хлорированной поверхности парами воды с целью гидроксилирования поверхности, что необходимо для осуществления следующего цикла реакции молекулярного наслаивания. [c.198]

Помещают образцы внутрь реактора установки вакуумного синтеза и по методике, изложенной в работе 5.5, осуществляют 10 циклов реакций молекулярного наслаивания. [c.198]

Предусмотреть возможность использования выбранного аппаратурного оформления ддя проведения других реакций молекулярного наслаивания, обеспечив тем самым гибкость новой технологии и оборудования. [c.268]

Многократное чередование реакций (1) и (2) приводит к постепенному образованию на поверхности кремнезема слоя окисла другого элемента. В виду того что в результате каждого цикла указанных реакций за счет образования направленных ковалентных связей на поверхности наращивается один монослой окисла, реакции такого рода были нами названы [И 1 реакциями молекулярного наслаивания. Их протекание и характер получаемых при этом соединений зависят от концентрации в образовавшемся после реакции с хлоридом продукте функциональных хлор-групп [И, 12] и способности последних к гидролизу парами воды [13]. Химический состав продуктов, получаемых на каждой стадии реакций молекулярного наслаивания, позволяет судить о химическом строении нарощенного окис-ного слоя. В табл. 1 показан состав нарощенного слоя при использовании [c.30]

В табл. 1 показано, что отношение общего количества присоединенного [по реакции (5) ] кислорода к содержанию титана (О Т1) в образцах растет по мере наслаивания от 1.5 до 2.0, т. е. до соотношения, имеющего место в двуокиси титана. Наличие двуокиси титана в продуктах реакции молекулярного наслаивания подтверждено с помощью ИК-спектров с увеличением содержания титана в образцах наблюдается усиление поглощения у 800 см , соответствующего валентным колебаниям Т1—О—Т1 [14]. Рентгенограммы образцов, начиная с IV, содержат пинии, характерные для анатаза. Поскольку чувствительность рентгеновского метода достаточна для выявления двуокиси титана уже в обр. I, можно полагать, что структура окисного слоя, свойственная анатазу, появляется лишь тогда, когда в соответствии с механизмом реакций молекулярного наслаивания над поверхностью кремнезема оказывается 4 атома Т1, чего достаточно для образования элементарной ячейки ТЮд. [c.31]

Изменение параметров пористой структуры кремнезема в результате проведения реакции молекулярного наслаивания [c.60]

В результате двух последовательных реакций на поверхности углерода наращивается один титаноксидный слой, причем вновь образовавшаяся поверхность снова содержит функциональные гидроксигруппы и, следовательно, подготовлена для проведения следующего цикла реакций молекулярного наслаивания. [c.101]

Цель работы—изучение метилхлоридного цикла в реакциях молекулярного наслаивания и изменения удельной поверхности пористого вещества на каждой стадии синтеза углеродного слоя. [c.102]

Синтез на поверхности элемент-кислородных слоев, рассмотренный в работах 5.1 и 5.2, основывался на гидроксилхлорид-ном цикле реакций молекулярного наслаивания. Получение углерода — простого вещества — на поверхности оксида кремния связано с проведением метилхлоридного цикла реакций, в результате которых в синтезируемом слое образуются углерод-углеродные связи. Поэтому на поверхности оксидной матрицы необходимо изменить химический состав функциональных групп — заместить гидроксильные группы, например, на ме-тильные. [c.102]

В отличие от матриц с высокоразвитой поверхностью, где выводы о механизме протекания реакций молекулярного наслаивания можно делать непосредственно на основании химического анализа продуктов реакции, на кристаллических матрицах с поверхностью в несколько см прямой химический анализ в настоящее время крайне затруднителен. Поэтому заключение о5 образовании в процессе наслаивания тех или иных структурных единиц и функциональных структурных групп делают или используя для реакции модельную высокодисперсную матрицу, илн косвенно, иапример, ио результатам эллипсометрнмоских измерений синтезированных образцов (см. главу 9). Полезную информацию о составе продуктов молекулярного наслаивания на поверхности кристаллических матриц можно получить с по- [c.110]

Для получения зависимости толщины слоев титаноксида от количества циклов реакций молекулярного наслаивания операции 3—5 повторяют по указанию преподавателя необходимое число раз. Синтезируют слой толщиной 7—10 нм, т. е. осуществляют 25—35 циклов попеременной обработки подложки парами хлорида титана и воды. Рассчитывают постоянную роста слоя оксида титана о = й/п, где с1 — толщина пленки, п — количество циклов реакций молекулярного наслаивания. Полученные результаты вносят в таблицу. [c.114]

Цель работы—синтез методом молекулярного наслаивания слоя оксида титана на поверхности монокристаллического кремния и эллиисометрическое определение толщины и показателя преломления синтезированного слоя в зависимости от числа циклов реакций молекулярного наслаивания. [c.197]

В условиях полного завершения вышеуказанных реакций на поверхности кремния образуется монослой титанкислородных структурных единиц [1104/2], химически связанных с поверхностными атомами исходного вещества, а многократное повторение цикла этих реакций приводит к образованию слоя оксида заданной толщины. Особенности осуществления реакций молекулярного наслаивания на поверхности кристаллических матриц рассмотрены в работе 5.5. Синтез оксида титана на поверхности монокристаллического кремния осуществляют в специальном вакуумном реакторе для молекулярного наслаивания. Схема установки вакуумного синтеза приведена на рис. 5.4, а конструктивные особенности и методика работы на установке изложены в работе 5.5. [c.198]

Приведенные экснериментальные и расчетные данные показывают, что последовательное нанесение заданного числа титанкислородных монослоев на поверхность силикагеля позволяет целенаправленно регулировать пористую структуру сорбента. Равномерный ход наслаивания в разобранном случае обусловлен тем, что начиная с третьего слоя дальнейшая хемосорбция молекул Т1С14 осуществляется за счет двух гидроксилов. Это обеспечивает постоянство степени гидроксилирования поверхности образцов в течение всего дальнейшего синтеза (равномерная реакция молекулярного наслаивания). Синтез на поверхности кремнезема гидридполисилоксана [И ] и пятиокиси фосфора [10] является примером затухающих реакций моле- [c.31]

Специфика реакций молекулярного наслаивания принципиально позволяет наносить монослой определенного окисла в заданной последовательности с другим окислом. Например, в реакции (1) можно использовать Т1С14 а в реакции (3) — РС1з и наоборот. [c.33]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология