Полистирол фотоокисление

Подобный механизм распада макромолекулы предложен для ряда полимеров с боковыми заместителями в цепи, например при фотоокислении полистирола [2, 227]. [c.34]

Полистирол оказывается очень неустойчивым к фотоокислению, в результате которого полимер быстро желтеет и становится хрупким. Фото деструкция может быть замедлена с помош,ью специальных антиоксидантов или УФ-абсорберов, при этом значительно увеличивается срок службы полимера. [c.388]

Наиболее подробно исследовалось фотоокисление полиэтилена и полистирола.. Судя по данным определения инфракрасных спектров, в результате фотоокисления полиэтилена наблюдается увеличение числа двойных связей в макромолекуле и уменьшение общего количества метиленовых групп в боковых цепях. [c.116]

Интересны данные о возможности активирования ультрафиолетовыми лучами темпового окисления в глубинных слоях, в том числе, если процесс начинается около освещенной поверхности полимера . Сравнительно высокая светоустойчивость полистирола объясняется наличием ароматических колец, относящихся к структурам, способным рассеивать энергию без ее длительной концентрации на какой-либо одной связи . Способность полистирола к фотоокислению зависит от наличия в полимере некоторого количества остаточного мономера, который более склонен к окислению и, кроме того, интенсивно поглощает ультрафиолетовые лучи. [c.119]

Результаты опытов по фотоокислению полистирольных пленок при 105—110° С в присутствии воздуха с последующим анализом продуктов реакции при помощи масс-спектрометра указывают на сложный состав продуктов реакции. Были идентифицированы следующие соединения вода, двуокись углерода, бензол, водород, метилэтилкетон, стирол (очень мало), толуол, алкилбензольные углеводороды, бутан, гептан, окиси циклопарафинов, диметиловый эфир, ацетальдегид, формальдегид, муравьиная и уксусная кислота. При нагревании полистирола в условиях облучения ультрафиолетовым светом и в присутствии кислорода содержание последнего в полимере может достигать 1,4%. При этом образуются гидроперекиси, затем происходит деструкция полимера при одновременном образовании трехмерных структур . [c.119]

Облучение полистирола УФ-светом сопровождается изменением его диэлектрических свойств [86, 87]. Частотная или температурная зависимости диэлектрических потерь и диэлектрической проницаемости оказываются достаточно чувствительными к фотолизу или фотоокислению, развивающимся в тонком поверхностном слое, [c.99]

ЧТО позволяет рассматривать методы определения диэлектрических свойств полистирола как инструмент, с помощью которого можно следить за его старением под действием света. На рис. 3.18 приведена зависимость диэлектрических потерь, определенных на пленках толщиной 0,1 мм после их облучения монохроматичным светом с длиной волны 254 мкм при интенсивности потока 1,6-10 Е/(см2-с), от продолжительности облучения. С увеличением интенсивности светового потока возрастает скорость диэлектрической релаксации (рис. 3.19). При облучении полистирола УФ-светом с длиной волны более 300 мкм на графике зависимости диэлектрических потерь от продолжительности облучения появляется индукционный период, причем обнаруживается различие в поведении полистирола, полученного анионной и радикальной полимеризацией. Влияние давления кислорода на индукционный период фотоокисления и последующую скорость релаксации показано в табл. 3.10. [c.100]

Характер зависимости тангенса угла диэлектрических потерь от частоты и температуры указывает на то, что в процессе фотоокисления пленок из полистирола образуются кислородсодержащие группы типа [c.102]

Установленная связь между диэлектрической релаксацией и выходом продуктов фотолиза или фотоокисления указывает на то, что фотолиз в вакууме при облучении УФ-светом с длиной волны Я>300 мкм не сопровождается заметными изменениями диэлектрических свойств пленок из полистирола. При облучении, при прочих равных условиях, светом с длиной волны Х,=254 мкм наблюдается повышение диэлектрической проницаемости в области низких частот. [c.103]

Заметные изменения тангенса угла диэлектрических потерь в области высоких частот после фотоокисления под действием УФ-излучения с длиной волны Я ЗОО мкм обусловлено образованием карбонильных диполей вследствие распада пероксидных соединений. Высокая чувствительность тангенса угла диэлектрических потерь к появлению кислородсодержащих диполей позволяет рассматривать его как показатель, с помощью которого можно эффективно следить за фотоокислением полистирола. [c.103]

При исследовании фотоокисления полистирольных пленок (6=50—80 мкм) под действием света ксеноновой лампы в интервале температур от 293 до 343 К было установлено [88], что энергия активации образования карбоксильных групп составляет 28 кДж/моль, что значительно меньше аналогичного значения при термоокислении. Сопоставление энергий активации образования карбоксильных групп при фото- и термоокислении показывает малый вклад процесса термоокисления в изменение свойств полистирола, подвергающегося облучению светом при температурах, близких к 293—298 К. Таким образом, пожелтение и растрескивание поверхности изделий из неокрашенного полистирола, по-видимому, можно объяснить фотохимическими превращениями и связанными с ними изменениями структуры поверхностных слоев и микро- и макросвойств. [c.103]

Этот метод контроля участия синглетного кислорода в фотоокислении полимеров является надежным и однозначным, исключающим возможные побочные и осложняющие процессы. При исследовании фотоокисления твердого полистирола этим методом было показано, что синглетный кислород не играет заметной роли в общем процессе. Этот вывод является существенным представляет интерес проверить его общность на других полимерах [c.50]

Яркие примеры усреднения наблюдались в реакциях фотоокисления нафтацена и антрацена в полистироле [86], которое протекает по следующей схеме [c.112]

Медные хелаты — хорошие светостабилизаторы для разных типов синтетических полимеров. Производные шифровых оснований, получаемых из салицилового альдегида и амина, испытывались для стабилизации термопластиков , а хелаты 2-(фенилазо)-п-крезола или 2-(фенилазо) нафтола — для стабилизации полиэтилена, полистирола и поливинилхлорида Найдено, что медные и никелевые хелаты — единственные соединения, равноценные саже в отношении стабилизации полиэтилена к фотоокислению, однако в некоторых случаях окраска является их недостатком [c.288]

Перекиси (в частности, перекись бензоила), 2,2-азобисизобути-ронитрил и геминальные хлор- и бромнитрозосоединения при фотовозбуждении распадаются с образованием соответственно алкоксильных, алкильных и галоген-радикалов. В результате происходит свободнорадикальное инициирование деструкции полимеров за счет отрыва возникшими радикалами водородного атома от макромолекул. Так, в частности, сенсибилизируется фотодеструкция цис-1,4-полиизопрена. Многие ароматические конденсированные углеводороды (нафталин, антрацен и т. п.) являются сенсибилизаторами деструкции полимеров вследствие образования синглетного кислорода. Так, нафталин ускоряет фотоокисление полиметилметакрилата, а антрацен — полистирола и 1,4-полибутадиена. Эти же сенсибилизаторы могут действовать и по механизму переноса энергии от их высших возбужденных состояний к полимеру эффективная фотодеструкция полиэтилена в присутствии фенаитрена, например, объясняется Т—Г-поглощением последнего (время жизни -состояний около 3 с) и переносом избыточной [c.183]

Полистирол чувствителен к фотоокислению. После 200 ч облучения лампой 8-1 при 60° С полимер становится хрупким, желтеетр и частично сшивается 2. Пожелтение ускоряется, если в полимере содержится мономерный стирол [585]. [c.15]

Для подавления фотоокисления -вводят также 0,2—0,5% УФ-аб-сорберов, особенно эффективны 2,4-дигидроксибензофенон, 2-гид-рокси-4-метоксибензофенон, 2-(2 -гидрокси-5 -метилфенил)бензотри-азол или сложный продукт yasorb UV 1376. Со стабилизаторами такого рода полистирол можно применять как прозрачный материал для осветительной техники [629]. [c.388]

Ана.логичный характер имеет кинетика расходования тетрацена в ходе фотоокисления в твердом полистироле. На рис. 2 кривая 1 в полулогарифмических координатах является кинетической кривой расходования тетрацена. Видно, что реакция сильно затормаживается. В растворе такой эффект не наблюдается. Торможение процесса можно объяснить тем, что тетрацен расходуется в тех областях, где по структурным причинам вероятность фотоокисления выше в других областях фотоокисление ие идет, и квантовый выход в ходе реакции постепенно падает. Однако, как видно [c.86]

Карбонильные группы в этих условиях способствуют разрыву по ближайшим ослабленным их присутствием С—С-связям29>. Энергия кванта поглощенного света, определяемая длиной волны соответствующего излучения, играет в данном случае очень важную роль. Например, полистирол в результате продолжительного пребывания на рассеянном свету при 100° С Может остаться неизменным. В то же время, под влиянием ультрафиолетовых лучей уже при 60° С (в присутствии кислорода воздуха) наблюдается его пожелтение с поверхности. По данным определения инфракрасных спектров полимера, подвергавшегося фотоокислению, можно установить появление в его макромолекулах как карбоксильной, так и карбонильной групп . [c.114]

Данные по гашению люминесценции были сопоставлены с данными по кинетике фотоокисления полистирола в присутствии тинувина И . Из работы (4) и наших данных следует, что начальная скорость накопления карбонильных групп при фотооблучении полистирола монохроматическим светом л = 2540А прямопропорциональна интенсивности облучения 1о [c.420]

Рис. 111.20. Зависимость относительной скорости фотоокисления ш (х)/и (0) от времени термоактивации нафтацена в полистироле при 70 °С (о) и в поли-метилметакрилате при 52 °С (б)

Справочник химика 21

Химия и химическая технология