облучение образование

Электрическое поле Земли Магнитное поле Земли при последующем охлаждении Радиоактивное облучение Образование микро- и макротрещин Деформация растяжения или сжатия 7 10-= 6 10-=, 5 10-2 1 10- 5,25 10 4.5 10 3,76 10 7,54 Ю о 7.5 10= [c.139]

Реакция метиленирования насыщенных углеводородов представляет собой гомолитическое присоединение метилена по связи С—Н (инициируется ультрафиолетовым облучением). Образование метилена происходит при фотолизе диазометана [c.159]

Ионизацию обнаруживают по возникновению у вещества способности проводить электрический ток после облучения. (Образование возбужденных молекул можно проследить иногда по свечению облученного вещества в темноте.) [c.423]

Границы применимости метода облучения определяются физическими изменениями в образце, вызванными облучением. Образование поперечных связей и другие химические изменения, происходящие в полимере при облучении, осложняют кристаллизацию и, следовательно, понижают температуру плавления . Замедляя разупорядочение полимерных цепей, химические изменения могут вызвать некото рый перегрев кристаллов (см. выше). Кроме того, существует опасность, что при высоких дозах облучения будет происходить разрушение кристаллов, что также должно приводить к понижению температуры плавления (см. J например, рис. 4.19). По-видимому не может быть универсальной предельной дозы облучения, выше которой процессы перестройки кристаллов полностью подавляются, но которая практически не вызывает разрушения кристаллов и не влияет на поведение макромолекул в расплаве. В связи с этим для каждых вновь полученных кристаллов должна существовать своя оптимальная доза облучения, и для определения ее необходимо исследовать плавление этих кристаллов, облученных в самой различной степени. Из рис. 9.11 видно, что доза облучения 30 - 50 Мрад не совсем достаточна для полного устранения про- [c.202]

При использовании уравнения (94) полученные данные надежны только в том случае, если распределение по молекулярным весам в образце полимера не изменяется в результате облучения и если не происходит изменения формы молекул, например образования разветвленных структур. Если в исходном образце распределение по молекулярным весам было статистическим и в процессе облучения образование разрывов молекулярных цепей происходило случайно, то распределение по молекулярным весам остается статистическим. [c.438]

Наличие свободной внешней поверхности кристалла способствует удалению газообразного галогена за счет диффузии из кристалла, что одновременно препятствует окислению восстановленного металла. Таким образом, при непрерывном облучении образование и уход атомарного или молекулярного галогена приводит к тому, что вблизи поверхности создается некоторое, поддерживаемое облучением распределение концентрации избыточных анионных вакансий и атомов металла. [c.110]

Б. М. Коварская и др. [445] получили привитые и блоксополимеры путем пластификации фенольно формальдегидной смолы с сополимером бутадиена и акрилонитрила. В. А. Каргин и Н. А. Платэ [446] показали, что под действием механического разрушения удается привить органические мономеры даже на неорганические кристаллы. В случае применения излучений высокой энергии и УФ-облучения образование макрорадикалов происходит за счет разрыва цепей, отрыва атомов водорода и т. п. или образования нестойких перекисных и гидроперекисных групп. Макрорадикалы, как и в других случаях, служат активными центрами, по которым происходит прививка мономера [447]. [c.275]

Фотомодификация открытоцепного соединения (I) сопровождается на первоначальном этапе облучения образованием олигомерных производных бензпинаконов [10] из фотовозбужденного триплета (I), с последующей их димеризацией. При дальнейшем облучении полиэфирных олигомеров они так же как и соединения (II) подвергаются фотоперегруппировке Фриса с возникновением о-оксиарилкетонов и жесткой димерной структуры, вклю- [c.148]

Сущность процессов раднацноиного сшивания макромолекул заключается в их возбуждении прн облучении, образовании из возбужденных макромолекул свободных радикалов (реакция 1) и их рекомбинации (реакция 2) [c.180]

Из ароматических углеводородов наиболее тепло- и радиацион-нестойкими оказались дифенил, о-, м- /г-терфенилы и нафталин. Их тепловая стойкость сохраняется до 490 °С. Действие быстрых электронов на полифенилы при 350 °С приводит к образованию от 0,05 до 0,5 молекулы полимера н от 0,003 до 0,03 молекулы газов на 100 эв поглощенной энергии, т. е. состав вещества изменяется незначительно. При действии быстрых нейтронов образуется в 3—6 раз больше полимера и в 10 раз больше газа на 100 9в поглощенной энергии. Получающийся при облучении ароматических углеводородов полимер представляет собой смесь полифенилов, а получающийся газ на 75% состоит из водорода. Образуются также олефиноароматические углеводороды. В начальной стадии облучения образование полимера отмечается по увеличивающейся вязкости углеводородной смеси, а в завершающей стадии — по появлению коксоподобного материала. [c.173]

При у-облучении ПММА при комнатной температуре так же, как и при фотолизе, наблюдаются ацилалкилнитроксильные радикалы [32]. В этом случае регистрируются также иминоксильные радикалы, но их количество существенно меньше, чем в ТАЦ при у-облучении. Образование нитроксильных радикалов как в ходе фотолиза, так и радиолиза ПММА и ТАЦ в атмосфере NO описывается следующей схемой [c.200]

Strahlungsvernetzung f радиационная сшивка, сшивка под влиянием облучения, образование поперечных связей под влиянием радиации [облучения] [c.656]

Если материнский элемент продукта деления имеет период полураспада, не очень малый по сравнению с продолжительностью облучення, накопление такого продукта деления не может быть описано уравнением (4), так как скорость его образования равна постоянно меняющейся скорости распада материнского элемента. Во. многих случаях период полураспада дочернего элемента мал по сравнению с периодом полураспада материнского элемента, и систему можно рассматривать как находящуюся в вековом или неустановившемся радиоактивном равновесии. Но в ряде случаев периоды полураспада материнского и дочернего элементов соизмеримы и расчеты сильно усложняются. Примером может служить образование Nb J (/" /г =35 суткам) из Zr 5(Г /2 =63 суткам) и для непродолжительного времени облучения образование Хе (Г]/2 = 9,2 ч) из (71,2 = 6,7 ч). [c.67]

С увеличением дозы поглощение в видимой и близкой УФ-области в чистом ПВХ возрастает. При освещении видимым и близким УФ-светом это поглощение уменьшается. При этом сигнал ЭПР в чистом ПВХ почти не меняется по форме, но несколько уменьшается по амплитуде (см. рис. 3, нижний ряд.) При последовательном освещении через узкополосные фильтры с максимумами пропускания при все более коротких волнах 7-облу-ченных образцов ПВХ, содержащих 0,3 мол. % хлоранила, наблюдается возрастание сигнала анион-радикала хлоранила, причем для каждого фильтра прирост достигал предельного значения (см. рис. 3, верхний ряд). Одновременно в спектрах поглощения возрастает поглощение анион-радикала хлоранила при 448 ммк. При освещении образцов УФ-светом с длиной волны не более 300—320 ммк наблюдается уменьшение сигнала ЭПР и поглощение анион-радикалов хлоранила, что, вероятно, связано с фото-эжекцией электронов из последних. Аналогичные наблюдения отмечались при освещении ПММА, содержащего хлоранил. В образцах, не подвергавшихся у-облучению, образование анион-радикалов при освещении не происходило. При различном содержании хлоранила в полимерах прирост после отбеливания был большим для меньшей концентрации добавки. Следует отметить, что последовательное увеличение концентрации анион-радикалов при освещении через узкополосные фильтры имеет место в свежеоблученных и неподвергавшихся воздействию дневного света образцах. В противном случае прирост наблюдается лишь при отбеливании светом в области 320—450 ммк до той же конечной величины концентрации. При отбеливании у-облученных полимеров, содержащих добавки элек-тронодонорного характера — трифениламии и дифениламин,— наблюдается сильное уменьшение поглощения соответствующих катион-радикалов. Мы предполагаем, что эти эффекты, как и поглощение в близкой УФ-области и видимой, объясняются присутствием электронов, захваченных в у-облученных полимерах, возможно, по механизму 1. [c.221]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология