Осаждение при термическом испарении в вакууме

ОСАЖДЕНИЕ ПРИ ТЕРМИЧЕСКОМ ИСПАРЕНИИ В ВАКУУМЕ [c.140]

Есть несколько способов осаждения металлических покрытий в вакууме, но наиболее производительно термическое осаждение (испарение) металлов. Испаритель с металлом для покрытия помещают в вакуумную камеру. К испарителю подают тепловую энергию обычно с помощью электронно-лучевой пушки, металл разогревается до температуры, при которой давление его паров достигает 1,33 Па. Стальная полоса непрерывно движется над испарителем, и пары металла, конденсируясь, образуют на ней плотное однородное покрытие. Одно из важных достоинств вакуумной металлизации — отсутствие горячих и вредных цехов, большого количества сточных вод, что устраняет вредное влияние на окружающую среду, повышает культуру производства и улучшает санитарно-гигиенические условия труда. Однако вакуумный способ нанесения покрытий требует применения дорогого и сложного оборудования, что связано с техническими трудностями и требует высокой квалификации обслуживающего персонала. [c.82]

ТИТАНИРОВАНИЕ — нанесение на поверхность металлических и неметаллических изделий покрытий из титана или диффузионное насыщение поверхности титаном. Повышает коррозионную стойкость изделий из желееоуглеродистых сплавов, латуни, цинка и др. металлов и сплавов. По отношению к железу титан является катодом и при незначительной пористости покрытия эффективно защищает сталь. Пористость титановых покрытий зависит от предварительной обработки поверхности и условий осаждения. При прочих равных условиях она уменьшается с ростом толщины покрытия. Т. осуществляют термическим испарением, диффузионным насыщением, газопламенным и плазменным напылением, термодис-соционным методом, электролитическим осаждением или плакированием. Термическое испарение титана в вакууме — наиболее часто используемый метод. Этим методом титановые покрытия значительной толщины (десятки и сотни микрометров) наносят на полосовую сталь и изделия различной конфигурации при сравнительно низкой т-ре поверхности ( 500° С). Для получения покрытия титан нагревают в вакууме (Ю " — 10 мм рт. ст.) до т-ры, обеспечивающей интенсивное его испарение ( 1900° С), после чего он осаждается на подогретую поверхность в виде однородного кристаллического слоя (см. также Вакуумные покрытия). На полированной стали такой слой представляет собой зеркальное декоративное покрытие, поверхность которого при небольшой толщине почти полностью повторяет ее рельеф. Термическое испарение титана в [c.571]

Отметим, что весьма перспективными для получения электропроводящих полимерных материалов являются пластмассы, проводящими компонентами которых являются химически стойкие металлы. Методы введения металлических частиц, в пластмассу различны. Наибольшее распространение среди существующих методов введения металлических проводящих частиц в полимер получили следующие мелкодисперсные порошки металлов в заданных соотношениях смешивают с полимерным связующим, а затем полученную массу заливают в формы,-в которых производится ее отверждение гранулы, полимера покрывают слоем металла и полученный порошок прессуют при яагреве наносят металл на гранулы полимера путем термического испарения, катодного распыления, термического или химического восстановления солей металлов смешивают растворы полимера и органической соли выбранного металла после осаждения из раствора исходных компонентов смесь подвергают термообработке в вакууме, при которой происходит восстановление соли с выделением чистого металла проводящие металлические частицы размельчают в шаровой мельнице в присутствии различных мономеров, в результате полимер покрывает поверхность частиц, обеспечивая их равномерное распределение по объему материала. [c.96]

С целью улучшетя декоративных и некоторых физико-механических свойств изделия из этролов можно металлизировать гальваническим методом (электрохимическим осаждением металла) и напылением парами металлов или термическим испарением при глубоком вакууме. [c.102]

Металлизация изделий из этролов в вакууме или термическое осаждение металлов в вакууме включают последовательное нанесение лакового подслоя, собственно металлизацию и нанесение защитного лакового покрытия [57]. Металлизацию обычно проводят в вакуумных камерах диаметром 0,3 - 2,0 м с вертикальным или горизонтальным расположением испарительной камеры со спиральными или точечными испарительными элементами. При этом изделие может вращаться вокруг испарительного элемента для равномерного нанесения металла. Остаточное давление в вакуумной камере составляет 1,33 - 133 Ш1а. Чаше всего на изделия из этролов напыляют алюминий высокой частоты (с содержанием алюминия 99,60 - 99,99%). Испарителями слзщат спирали из вольфрамовой проволоки, которые для испарения алюминия требуется нагревать до 1400 - 1800°С. [c.103]

Однослойные пленки на полупроводниковых материалах могут быть получены термическим испарением в вакууме сульфидов и селенидов, а также реактивным распылением некоторых металлов в атмосфере кислорода и осаждением окисных пленок разнообразными химическими методами. Наиболее удовлетворительные покрытия образуют ZnS, AS2S3 и SbzSg, прозрачные для ИК излучения до Л = 12 мкм [81, 299, 300]. Для просветления германия и кремния часто используют ZnS, при этом пропускание германия может быть повышено с 45 до 95 /о [76, 80, 301—304]. Пленки сульфидов и селенидов обладают показателем преломления в пределах [c.135]

Металлические покрытия, в качестве которых используют алюминий, медь, никель, хром, серебро, золото, железо и другие металлы, наносят на полисти-рольные, ПММА и другие органические стекла. В настоящее время освоено несколько методов металлизации стекол термическое испарение металлов в вакууме (ваку,умная металлизация), электролитическое и химическое осаждение металлов, катодное распыление, распыление расплавленных. металлов струей воздуха или газ и др. Наибольшее распространение получил метод термического испарения металлой в вакууме, включающий следующие операции нанесение лакового подслоя, собственно металлизацию и нанесение защитного лакового покрытия.. В некоторых случаях лаковый подслой и защитное покрытие не "наносят. Лаковый подслой позволяет вьгровнить изъяны поверхности, повысить ее адгезию к металлу и уменьшить газовыделение с поверхности в вакууме. Изделия технического назначения покрыва1от лаком, который сушат в течение 1—3 ч при 80—180°С, что обеспечивает повышение адгезии металлических покрытий к стеклу, прочности, коррозионной стойкости и стойкости к истиранию. Металлизацию проводят в вакуумной камере (остаточное давление 13 10 —13- 10-5 кПа). [c.39]

Колориметрический метод определения влаги основан на гидратации кобальтовых солей. Например, безводный бромид кобальта (И) имеет бледно-серую окраску, переходящую при образовании гексагидрата в темно-красную (см. гл. 6). Гардинер и Кейт [146] использовали дибромид кобальта (II) в новом гравиметрическом методе, позволяющем определять свободную и связанную воду в почти сухих кристаллах рафинированного сахара. В первом варианте анализа свободную, или поверхностную, воду экстрагируют безводным хлороформом и затем осаждают в форме СоВг2 6Н.,0. Во втором варианте безводный дибромид кобальта непосредственно смешивают с тонкоразмолотой пробой (удельная поверхность 3500 см /г) под слоем хлороформа или четыреххлористого углерода. При этих условиях дибромид реагирует со связанной водой in situ. Данный метод не является абсолютным и требует построения градуировочных графиков по известным количествам воды в присутствии сухой порошкообразной сахарозы. При этом градуировочные графики зависимости количества воды от количества гидратированного дибромида кобальта оказались линейными. Данные Гардинера и Кейта [146] показали, что высушивание в сушильном шкафу при 105 °С вызывает термическое разложение сахара. Считается, что более точно соответствуют количеству свободной влаги результаты, получаемые при высушивании в вакуумном сушильном шкафу при 70 С или методом экстракции и осаждения дибромидом кобальта. Испарение в вакууме и прямое определение воды с дибромидом кобальта позволяет до- [c.188]

Пленки бора получают различными методами, из которых следует отметить метод термического разложения трихлорида бора в присутствии водорода с осаждением на нагретую до 997—1017 °С грань <111> р-кремния, метод вакуумного испарения и конденсации на нагретую до различных (20—797°С) температур подложку из плавленого кварца, слюды, каменной соли, сапфира или стекла, метод электронно-лучевого испарения и конденсации в вакууме 1,33-10- Па иа подложки из тантала илн ниобия (с подслоем йз вольфрама, хлористого бария или без подслоя), разогретые до 297—1197°С, и т. п. Ультрачистые пленки бора получают расплавлением и испарением капли на вертикальном стержне бора. Варьируя температуру капли от 697 до 2497 °С, можио изменить скорость испарения в широких пределах, управляя таким образом скоростью осаждения бора на подложке и совершенством образующихся пленок. Известен также способ получения пленок путем мгновенного охлаждения из жидкости. Применяют следующие схемы закалки прокатка жидкой капли, центрифугирование и захлопывание летящей капли двумя медными шайбами и т. д. Кристаллическое строение пленок бора определяется условиями кристаллизации. Так, пленкк, получаемые методом термического разложения трихлорида, имеют главным образом моно- и поликристалличсское строение, методом вакуумного испарения —в основном аморфное при применении в качестве подложек кремния и сапфира строение пленок зависит от температуры подложки — до 797 °С аморфное, при температуре до 897 "С кристаллическое и т. д. При получении пленок путем закалки из жидкой фазы скорости охлаждения составляют Ю —10 с-, а толщина пленок 40—120 мкм. В этом случае пленки имеют преимущественно кристаллическое строение для получения аморфного бора необходимы более высокие скорости. Метод осаждения бора из газовой фазы на подложку используют также для получениях борных нитей. В этом случае осаждение производят иа сердечник из вольфрама диаметром 15—16 мкм, толщина получаемого при этом борного слоя составляет до 50 мкм. В процессе осаждения происходит борирование вольфрама подложки и образуются бориды различного состава. В борном слое обнаружены аморфная и а- и Р-модификации, имеющие монокрнсталли-ческое строение с размерами кристаллитов 2—3 нм. Заметное влияние иа структуру бора оказывают примеси, попадающие в слой из газовой фазы или подложки. Так, присутствие углерода способствует образованию тетрагонального бора вместо Р-ро.мбоэдрического. [c.149]