Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Гелевый слой

    Зависимость гидравлического сопротивлении гелевого слоя на мембране от давления (трубчатая мембрана, 1%-ный водный раствор латекса)  [c.274]

    Образование геля происходит в результате роста и агрегатирования коллоидных частиц поликремниевой кислоты в свободном объеме пор. В гидрофильных пористых средах гелевый слой может возникать и на поверхности породы, т.к. химические свойства поверхности кварцевого песка и поверхности частиц золя кремниевой кислоты близки. Как и для растворов ранее изученных коллоидных реагентов, конкуренция между этими процессами объясняет увеличение остаточных факторов сопротивления по мере роста проницаемости пористых сред. [c.161]


    Скорость, с которой через мембрану проходят отдельные компоненты, зависит от энергии активации при взаимодействии переносимых частиц с материалом мембраны, а также от подвижности отдельных звеньев мембранной матрицы и от свойств диффундирующих компонентов разделяемой смеси. Следует отметить, что скорость диффузии тем выше, чем слабее связаны между собой отдельные звенья полимерной цепи в гелевом слое, т. е. чем сильнее набухает мембрана. Поэтому для изготовления диффузионных мембран наиболее приемлемы полимерные лиофильные материалы. [c.315]

    Некоторые растворенные вещества образуют гелевый слой быстрее, чем другие. Способность молекулы к геле-образованию определяется главным образом ее коэффициентом диффузии — величиной, зависящей от формы молекулы и ее молярной массы. Молекулы меньшего размера диффундируют быстрее, чем молекулы большего размера, а сферические — быстрее, чем линейные, имеющие ту же молярную массу. На скорость гелеобразования влияет концентрация вещества, склонного к гелеобразованию. С достижением определенной концентрации молекулы таких веществ начинают быстро образовывать гелеобразный слой у поверхности мембраны, удаляясь при этом из раствора если же их концентрация достаточно низка, то предел растворимости вещества не будет достигнут и образования такого пограничного слоя не произойдет. [c.219]

    Показано, что суммарный потенциал стеклянной мембраны возникает за счет двух источников. Во-первых, из-за различия потенциалов на поверхностях раздела фаз, связанного с ионообменными процессами на внутреннем и внешнем гидратированных гелевых слоях, находящихся в контакте с водой. Во-вторых, из-за диффузионных потенциалов схожих с жидкостными диффузионными потенциалами, которые обусловлены различной подвижностью протонов и ионов лития (или других катионов щелочных металлов) внутри внутреннего и внешнего гидратированных гелевых слоев. Однако, если протоны полностью насыщают все ионообменные центры, на обеих поверхностях гидратированных гелевых слоев, как и должно быть в правильно функционирующем электроде для определения pH, и если обе поверхности гелевых слоев идентичны по своим физическим характеристикам, то два диффузионных потенциала должны компенсироваться. Тогда суммарный потенциал стеклянной мембраны будет представлять собой сумму двух потенциалов на поверхностях раздела фаз Е и Е2, показанных на рис. 11-4, т. е. [c.374]


    Тогда, если поверхности двух гидратированных гелевых слоев идентичны по числу центров, доступных для ионов водорода, и если все центры заняты протонами, (ан+)1 = (<з н+)2> последнее выражение приобретает упрощенный вид  [c.374]

    Таким образом, любые изменения потенциала стеклянного мембранного электрода можно отнести к изменению потенциала на поверхности раздела фаз между внешним гидратированным гелевым слоем и примыкающим раствором. Поэтому, если с внешним гидратированным гелевым слоем стеклянного мембранного электрода соприкасается раствор пробы, pH которого неизвестен, по результирующему потенциалу на поверхности раздела фаз можно найти pH раствора этой пробы. Теперь покажем, как проводят измерение pH на практике. [c.375]

    В общую э. д. с. гальванического элемента входит так называемый потенциал асимметрии стеклянной мембраны. Этот потенциал составляет 1 или 2 мВ и появляется в связи с тем, что внутренний и внешний гелевые слои отличаются адсорбционной способностью воды и ионообменной емкостью для ионов водорода. Эти различия часто зависят от времени и появления в результате неодинаковых деформаций двух поверхностей стеклянного шарика из-за неравномерного разогревания шарика в процессе его изготовления, в результате химического травления и механического истирания за время использования электрода, вследствие покрытия наружной поверхности мембраны пленками жира, а [c.375]

    Удаляют титруемый раствор, промывают электроды и конец бюретки растворителем для титрования, затем пропан-2-олом и заканчивают промывку дистиллированной водой. Погружают электроды в дистиллированную воду не менее чем на 5 мин перед следующим титрованием для восстановления водного гелевого слоя стеклянного электрода. [c.427]

    Авторы работы [451] изучали влияние концентрации фермента на активность гелевого слоя на примере гелей с концентрацией уреазы [c.155]

    В соответствии с элементарной теорией изгиба гомогенных материалов модуль упругости при изгибе имеет такую же природу, как и модуль упругости при растяжении. Следовательно, формулы, выведенные ранее для расчета модуля упругости при растяжении с учетом объемных долей компонентов, должны быть справедливы и при расчете модуля упругости при изгибе. Однако следует учитывать ошибки, которые вытекают из негомогенности материала, как, например, в случае листовых стеклопластиков с покрытием из слоя отвержденной полиэфирной пасты или композиционных материалов со смешанным типом наполнителя, когда армирующий наполнитель состоит из компонентов с резко различной жесткостью. Так, для листового полиэфирного стеклопластика с хаотическим распределением волокон, имеющего на поверхности слой отвержденной полиэфирной пасты (гелевый слой), расчетный модуль упругости при изгибе на 7% меньше расчетного модуля упругости при растяжении (см. раздел 4.8.4). [c.188]

Рис. 4.5. Зависимость модулей упругости при растяжении (/,2) и изгибе (3, 4) от объемной доли стеклонаполнителя для слоистых материалов с хаотическим распределением наполнителя и поверхностным гелевым слоем Рис. 4.5. <a href="/info/955757">Зависимость модулей упругости</a> при растяжении (/,2) и изгибе (3, 4) от <a href="/info/13923">объемной доли</a> стеклонаполнителя для слоистых материалов с <a href="/info/391358">хаотическим распределением</a> наполнителя и <a href="/info/1714950">поверхностным гелевым</a> слоем
    Если внешний слой (или слои) изготовлен из материала с относительно более низким модулем упругости, как в случае гелевого слоя на поверхности листового стеклопластика, то модуль упругости при изгибе будет несколько ниже модуля упругости, при растяжении, когда все слои деформированы одинакова. [c.193]

    Наличие гелевого слоя на поверхности листовых стеклопластиков, как уже отмечалось ранее, приводит к незначительному понижению их модуля упругости при изгибе по сравнению с модулем упругости при растяжении. Величину этого эффекта можно [c.200]

    Четырехслойный листовой полиэфирный стеклопластик с хаотическим распределением волокон без гелевого слоя [c.202]

    Поверхностный гелевый слой [c.203]

    Следовательно, при нанесении гелевого слоя на поверхность листового стеклопластика жесткость при изгибе увеличивается на 12%. [c.203]

    Строго говоря, нельзя рассчитывать модуль упругости при изгибе листового стеклопластика с поверхностным гелевым слоем, как и любой другой слоистой системы, однако на практике часто полагают, что тонкое защитное покрытие из низкомодульной смолы, нанесенное на поверхность стеклопластика, оказывает малое [c.203]

    Толщина стеклопластика с учетом поверхностного гелевого слоя равняется ( /1- - 2 = 5,176 мм. Жесткость при изгибе, отнесенная к единице ширины, > = 74 799 Н-мм /мм. [c.204]

    Следовательно, модуль упругости при изгибе Е= 20 = = 6473 Н/мм по сравнению с модулем упругости стеклопластика без гелевого слоя, равного 7381 Н/мм  [c.204]

    Следовательно, модуль упругости при изгибе при нанесении поверхностного гелевого слоя на листовой стеклопластик уменьшается на 12%. [c.204]


    Таким образом, нанесение гелевого слоя на поверхность стеклопластика оказывает противоположное влияние на его жесткость и модуль упругости при изгибе. Жесткость при изгибе стеклопластика возрастает (как и должно быть) при добавлении дополнительного слоя даже в том случае, если он имеет более низкий модуль упругости. В отличие от жесткости модуль упругости при изгибе уменьшается, так как добавляемый материал имеет более низкий модуль, чем основа из полиэфирного стеклопластика с хаотическим распределением волокон. По той же причине происходит уменьшение модуля упругости при растяжении (на 5% от 7043 Н/мм в соответствии с правилом смеси), однако модуль упругости при изгибе падает более резко, чем модуль упругости при растяжении, поскольку добавляемый низкомодульный материал весь находится на поверхности, которая оказывает наибольшее влияние на модуль упругости при изгибе. [c.204]

    На рис. IX. 1 представлена зависимость относительной концентрации Ыа (Сг. сл/С ст где Сг. сл — концентрация натрия в гелевом слое С — то же в толще стекла) от толщины снятого слоя. Можно видеть, что величина С . (.УС растет от очень малых значений на границе стекла с раствором до значений, характерных для толщи стекла. Повышение температуры ускоряет образование поверхностного слоя. Кривые, приведенные на рис. IX.2, показывают, что отсутствие ионов водорода в растворе в том случае, когда стекла вымачивали в этаноле, приводит [c.276]

    К образованию очень тонкого гелевого слоя мало измененной структуры. Те же результаты получают при выщелачивании литиевых стекол водой при повышенных температурах (рис. IX.3). Небольшие щелочные ошибки электродов, изготовленных из литиевых стекол, вероятно, объясняются замедлением процесса обмена между ионами щелочных металлов раствора и ионами водорода в стекле. [c.276]

    Установлено [290], что колебания температуры или концентрации дисперсионной среды способствуют перекристаллизации мелких частиц дисперсной фазы путем их растворения. Показано, что это явление имеет место при кристаллизационном структурообразова-нии вяжущих и обусловливает изменение прочности цементного камня. Учитывая, что интенсивность перекристаллизации увеличивается с уменьшением концентрации дисперсной фазы (в данном случае новообразований), можно полагать, что она имеет место и в указанном периоде твердения. Особенно сильно растворяются кристаллы эттрингита, которые соприкасаются с дисперсионной средой [207], кроме того, вследствие кристаллизационного давления и других факторов [133, 134] происходит отторжение гидратных гелевых слоев с некоторых частей поверхности негидратированных частиц. Происходит разрушение части старых контактов, образованных сцепленными микроагрегатами, и самих микроагрегатов, создание новых, энергетически более выгодных коагуляционных и фазовых контактов. Преобладание деструктивных явлений над структурообразованием наиболее четко выражено в начале второй стадии и проявляется на кривой кинетики структурообразования более или менее глубоким минимумом. [c.107]

    Надо отметить, что даже растворение высокощелочных стекол или кристаллов, практически не имеющих сплошного пространственного каркаса, приводит к образованию на поверхности более или менее рыхлого кремнеземного слоя, поскольку скорости перехода в раствор катионов и анионов существенно различны и концентрация гидратированного кремнезема у поверхности раздела фаз возрастает, что в определенной зоне pH приводит к его полимеризации и к образованию пленки геля. Поэтому во всех случаях Полезно интенсивное перемешивание, способствующее сдиранию Вязких гелевых слоев с поверхности растворяющегося материала. [c.43]

    Диффузия происходит только в самих гидратированных гелевых слоях. Строго говоря, процесс функционирования электрода для определения pH не включает в себя селективное проникновение ионов водорода через стеклянную мембрану, как ошибочно предполагали ученые многие годы, поскольку при продолжительном электролизе в элементе, содержащем по одну сторону стеклянной мембраны радиоактивную воду, меченную тритием, не наблюдается какого-либо заметного переноса трития через мембра-ну. [c.374]

    В сильнощелочной среде или в умереннощелочных растворах, содержащих высокие концентрации ионов щелочных металлов, стеклянный мембранный электрод имеет так называемую щелочную погрешность, когда измеряемый pH меньше истинного его значения на некоторое значение, возрастающее с увеличением pH. Эта погрешность возникает из-за того, что катионы, в особенности ион натрия и в меньшей степени ионы лития и калия, конкурируют с ионами водорода за ионообменные центры на поверхности внешнего гидратированного гелевого слоя, в результате чего изменяется потенциал на поверхности раздела [c.377]

    И наконец, стеклянный электрод медленно функционирует, если его помещают в слабо забуферированные растворы, предположительно потому, что мала скорость достижения ионообменного равновесия во внешнем гидратированном гелевом слое. [c.378]

    Существуют представления, что суть процессов набухания заключается в проявлении осмотических сил в гелевых слоях образца, помещенного в воду. Деформации набухания и усадки относятся к физическим самопроизвольным деформациям. Усадка можсг происходить и за счет химических процессов — тогда она называется контракцией, например при уплотнении геля цементного камня вследствие гидратации клинкерных минералов. На величину усадки цементного камня влияет много факторов. Так, алитовые и более грубом олотые цементы меньше склонны к усадке. Снижение водоцементного отношения, при прочих равных условиях введение порошковидных заполнителей также приводят к снижению усадки. Повышают усадку добавка хлористого кальция, обработка цементного камня или бетона паром под давлением в автоклавах. [c.380]

    Работы Викби с различными стеклянными электродами прояснили многие вопросы, касающиеся структуры стеклянных мембран. Он применял импульсы постоянного тока [47], чтобы изучить изменения в структуре гелевого слоя по изменению его сопротивления и постоянных времени. Используемый метод состоит в том, что импульс постоянного тока (/) силой 500 пА прикладывают непосредственно к стеклянному электроду через сопротивление и изменения потенциала регистрируют в зависимости от времени. Потенциал измеряют в промежутке времени от 100 мкс до нескольких минут. Значение потенциала V в любой момент времени вычитают из значения в стационарном состоянии при бесконечном времени . Строят график зависимости lg АУ от времени /. При наличии лишь одной постоянной времени получают прямую линию. Если обнаружено несколько постоянных времени, их можно выделить, найдя сначала самую медленную составляющую и вычитая соответствующие ей значения потенциалов, лежащие на прямой линии, из значений, лежащих на общей кривой. Эту процедуру повторяют до тех пор, пока не определят все постоянные времени. 276 [c.276]

    И внешней поверхностях мембраны, умноженная на показатель преломления стекла, давала истинную толщину. Параметры электродов приведены в табл. IX.7, из которой можно видеть, что отношения значений сопротивлений Rx и R равны отношениям толщин, измеренных по боковой поверхности стеклянного шарика. Общее сопротивление R не пропорционально толщине, и значения отношений, связанные с этим параметром, изменяются с температурой. По мере повышения температуры отношение RJRi растет и достигает значения 4,2 при 45 °С. С другой стороны, значения отношений, включающие постоянные времени, не изменяются при всех температурах. Эти факты подтверждают, что Rx, Ri, Ti и Та относятся к толще стеклянной мембраны, а R , Ri, Тз и Т4 характеризуют гелевый слой. [c.278]


Смотреть страницы где упоминается термин Гелевый слой: [c.46]    [c.219]    [c.374]    [c.374]    [c.278]    [c.156]    [c.156]    [c.21]    [c.181]    [c.186]    [c.202]    [c.203]    [c.204]    [c.275]   
Промышленные полимерные композиционные материалы (1980) -- [ c.21 , c.202 , c.204 ]




ПОИСК





Смотрите так же термины и статьи:

Модель гелевого слоя

Поверхностный гелевый слой

Четырехслойный листовой полиэфирный стеклопластик с хаотическим распределением волокон без гелевого слоя

Четырехслойный листовой полиэфирный стеклопластик с хаотическим распределением волокон с поверхностным гелевым слоем



© 2025 chem21.info Реклама на сайте