Полистирол фотолиз

Например, бромирование полистирола осуществляли фотохимическим методом в четыреххлористом углероде при комнатной температуре до введения 5—10% брома. В этих условиях происходит в основном замещение на бром атомов водорода у третичных углеродных атомов в основной цепи полимера. Бромированный полистирол растворяли в стироле и полученный раствор облучали ультрафиолетовым светом такой длины волны, чтобы произошел фотолиз с удалением атомов брома образовавшиеся активные радикалы в основной цепи полимера инициировали полимеризацию мономерного стирола с образованием разветвленного полимера [125]. Полиметилметакрилатные боковые цепи были привиты на основные цепи полистирола при облучении бромированного полистирола [c.282]

Полистирол, содержащий аналогичные группы, расположенные нерегулярно вдоль цепи, был получен при кипячении раствора полистирола в бензоле в присутствии тетраэтилтиурамдисульфида. В результате фотолиза этих полимеров в присутствии метилметакрилата и винилацетата образуются блок-сополимеры, если облучаемый полимер содержит фото-чувствительные концевые группы, и привитые сополимеры при использовании полимера, в котором эти группы расположены вдоль цепи [130]. [c.284]

Получение привитых полимеров на основе фотолиза. Джонс и сотрудники [2] растворяли полистирол в четыреххлористом углероде, а затем фотохимическим методом проводили бромирование при комнатной температуре. Количество брома при этом составляло 5—10%. Полученный продукт был растворен в стироле и подвергнут действию света (длина волны 400 м >. и меньше). В результате этого происходило отщепление брома и образовывался свободный радикал [c.120]

Облучение полистирола УФ-светом сопровождается изменением его диэлектрических свойств [86, 87]. Частотная или температурная зависимости диэлектрических потерь и диэлектрической проницаемости оказываются достаточно чувствительными к фотолизу или фотоокислению, развивающимся в тонком поверхностном слое, [c.99]

Установленная связь между диэлектрической релаксацией и выходом продуктов фотолиза или фотоокисления указывает на то, что фотолиз в вакууме при облучении УФ-светом с длиной волны Я>300 мкм не сопровождается заметными изменениями диэлектрических свойств пленок из полистирола. При облучении, при прочих равных условиях, светом с длиной волны Х,=254 мкм наблюдается повышение диэлектрической проницаемости в области низких частот. [c.103]

Близкими к этим работам оказались исследования Джонса [8, 91, Данна и др. [10, 11], использовавших фотолиз бромированных полистиролов для получения привитых сополимеров. Джонс осуществил бромирование полистирола в основной цепи полимера [8, 91 и показал, что фотолиз продукта реакции приводит к образованию макрорадикалов [c.33]

Далее, скорость превращения i POj и кинетические параметры не зависят от природы макрорадикалов. Так, при фотолизе и у-радиолизе в полистироле образуются радикалы различного типа. Однако в обоих случаях превращение Р -> POg происходит в одном и том же температурном интервале и с одинаковой энергией активации. [c.71]

Аналогично поведение полистирола в радикальном полистироле переход от первой стадии деструкции (с энергией активации Е ) ко второй (с энергией активации Е ) происходит при глубине превращения 12% (по потере массы) в полимере, полученном анионной полимеризацией, этот переход смещается к г ю7и>— =1%. Искусственное создание дефектов, например окислением полимера или фотолизом (как в случае полиметилметакрилата, см. табл. 1.9), приводит вообще к исчезновению второй стадии деструкции в этом случае весь полимер распадается с низкой энергией активации. Глубина превращения, пни которой происходит изменение энергии активации от Е к Е , является мерой количества слабых связей и дефектов макромолекул. [c.300]

В качестве примера полимера, содержащего ароматические хромофорные группы, рассмотрим полистирол. Процесс фотолиза сопровождается выделением небольшого количества водорода, результатом фотолиза является пожелтение полимера и потеря им растворимости. Ниже представлена схема процесса, приводящего к этим изменениям [c.357]

Графт-полимеры. Мы будем применять термин графт-поли-меры к продуктам, образовавшимся из исходного, в основном линейного полимера, реактивированного в определенных участках цепи. Ветви обычно состоят.из мономерных звеньев, отличных по строению от звеньев исходного линейного полимера. В случае полистирола вдоль цепи могут образоваться перекисные группы, что вызывает описанные выше эффекты [191]. Однако некоторые исследователи [192, 193] почти не достигли успеха в этом направлении. Другой методикой [192] является алкилирование стирола в кольце изопропильными группами и окисление алкилировапной части полимера. В этом случае может образоваться несколько гидроперекисных групп на 100 звеньев мономера, и такой окисленный полимер вызывает полимеризацию другого мономера с образованием графт-полимера. Применяется также частичное бромирование полистирола [193 с последующим фотолизом бромировапного полимера в присутствии другого мономера во избежание сшивания ветвей с другими цепями (в результате которого образуются гели) полезно вводить в реакционную смесь небольшие количества четыреххлористого углерода (передатчика цепи). [c.241]

На фотохимич. реакции могут влиять условия Ф, Так, скорость Ф. полиметилметакрилата в присутствии N2 существенно ниже, чом в вакууме. Этот аффект можно объяснить замедлением эвакуации из пленки полимера продуктов фотолиза, ингибирующих Ф. Напротив, разложение полистирола в атмосфере N3 протекает интенсивнее, чем в вакууме. В этом случае замедляется диффузия атомов Н, к-рые обра уются в результате первичной фотохимич. реакции отрыва от третичных атомов углерода (в группах СН) основной цепи макромолекулы, и увеличивается вероятность отрыва под их воздействием атомов Н от соседних групп СНд. В результате возрастает вероятность образования участков сопряженных связей и, следовательно, способность полимера к поглощению света. [c.380]

Впервые протекание Д. и существование равновесия полимеризация — деполимеризация было доказано в 1945 Месробианом и Тобольскил /при изучении фотолиза толуольных р-ров смесей стирола и полистирола при 100°С.7 В результате дальнейших исследований было показано, что 11 полимеризация и Д. могут быть вызваны одними и теми же методами инициирования 2) при проведении полимеризации при достаточно высоких темп-рах константа скорости роста цепи с повышением темп-ры начинает падать, стремясь к нулю 3) в нек-рых системах полимеризация протекает только до определенной глубины превращения мономера. Все это позволило высказать предположение, что полимеризация — обратимый процесс, при к-ром одновременно происходит как присоединение молекул мономера к активному центру, так и отщепление мономера от этого центра Направление реакции при данной темп-ре определяется, очевидно, термодинамич. характеристиками компонентов системы реакция будет протекать в направлении уменьшения свободной энергии, стремясь к равновесному состоянию, соответствующему минимуму свободной энергии. Скорости полимеризации и Д. будут определяться реакционной способностью активных центров, наличием или отсутствием стерич. затруднений, концентрацией реагентов и другими кинетич. факторами. [c.339]

При фотолизе полистирола светом Явозб < 280 нм, поглощаемым бензольным ядром, также происходит межмолекулярный перенос энергии от него к молекулярному кислороду. В случае облучения более длинноволновым светом последний поглощается КПЗ между полистиролом и молекулярным кислородом, и перенос энергии происходит внутримолекулярно [c.156]

Использование NO2 в качестве метки осложняется тем, что молекулы NO2 легко димеризуются в уже непарамагнитную N304, не дающую спектра ЭПР. В замороженных водных растворах спектр ЭПР NO2 можно регистрировать только после фотолиза [366]. Вместе с тем спектры ЭПР NO2 удается регистрировать при 77 К в полимерах (полистироле, эфирах уксусной кислоты и целлюлозы), вероятно, за счет того, что при замораживании образцов часть молекул NO2 не успевает димеризоваться [364]. [c.97]

В работе [935] описан прибор, позволяюпдий с высокой точностью измерять небольшие количества кислорода, поглощенного полистиролом. С его помощью можно изучать как фотоиниции-рованное окисление, так и сам процесс фотолиза. Авторы этой [c.235]

В полимерах, содержащих фенильные кольца (полистирол, ароматический поликарбонат и др.), при фотолизе и радиолизе в значительных концентрациях образуются циклогексадиениль-ные радикалы они возникают в результате присоединения атомов водорода к фенильному кольцу [32]. [c.39]