Осадок металла текстура

Наконец, говоря о структуре, не следует забывать о взаимном относительном расположении кристаллов. Определенная ориентация кристаллов в поликристаллическом осадке называется текстурой [5]. В упрощенной форме разницу между текстурированным и не-текстурированным металлом можно представить с помощью рис. 48. [c.130]

И. Ориентирующее действие подкладки и текстура осадка металла [c.95]

Ось текстуры в электролитических осадках металлов обычно совпадает с нормалью к плоскости осадка, поэтому для кристаллов кубической системы плоскости, имеющие те же индексы, что и ось текстуры, располагаются параллельно плоскости осадка (рис. 12.7). Как правило, с увеличением толщины осадка степень совершенства текстуры возрастает. [c.334]

Все изложенные соображения относятся лишь к грани кристалла определенного символа. При катодном выделении металлов, как правило, образуются поликристаллические осадки, т. е. осадки, состоящие из большого числа связанных между собой мелких кристаллов (или зерен) с гранями различных символов, что осложняет картину процесса. Одно из этих осложнений связано с тем, что грани различных символов растут с неодинаковой скоростью, и характер осадка изменяется в процессе электролиза. Для характеристики катодных осадков наряду с кристаллографической структурой используются поэтому и такие понятия, как структура роста, текстура и характер осадка. [c.343]

Скорость осаждения металла различна для разных граней и поэтому изменение плотности тока вызывает появление той или иной оси текстуры. Степень ориентации осадков также зависит от плотности тока — она обычно до известного предела увеличивается с ростом плотности тока. Появление определенных осей текстуры овязано с поляризацией электрода, поскольку различные грани не являются эквипотенциальными. [c.367]

Как указывает К. М. Горбунова, для блеска электролитических осадков имеет значение не столько наличие какой-либо оси текстуры сколько ее тип, так что осадки без ориентации кристаллов могут давать лучший блеск, чем неблагоприятно ориентированные. Так, если кристаллы имеют форму куба и плоскости их граней параллельны плоскости основного металла, то даже при относительно больших размерах кристаллов осадок будет более блестящим, чем осадок с выступающими на поверхность вершинами кубов. [c.137]

Скорость осаждения металлов различна для разных граней и поэтому изменение плотности тока вызывает появление той или иной оси текстуры. Образование определенных осей текстуры связано с поляризацией электрода, поскольку различные грани не эквипотенциальны. Однако нельзя беспредельно повышать плотность тока, так как по достижении предельных условий на катоде будут образовываться некомпактные, рыхлые осадки, а еще раньше — в переходной области — крупные дендриты. [c.388]

При образовании текстуры в случае ферромагнитных металлов сильно возрастает коэрцитивная сила. Это свойство используется для исследования строения осадка и для практических целей [199, 200]. [c.99]

Между ориентацией I гексагональных металлов и всеми остальными существует принципиальное различие. Текстура роста с гексагональной осью, перпендикулярной подложке, обусловлена структурой осаждаемых веществ и не связана с влиянием подложки, тогда как монокристальные ориентировки получаются в результате эпитаксии. Относительно аксиальных текстур II и IV с осью в плоскости подложки существует мнение [110], что они возникают не в процессе роста слоя, а в результате дефор.мации пленки, происходящей при ее отделении от подложки. В связи с этим больщой интерес представляет изучение тонких слоев гексагональных металлов без отделения их от кристалла-подложки. Чаще всего пленки гексагональных металлов состояли из кристаллов с различными ориентировками, строго монокристальных осадков не удалось получить вообще. В этом отношении кристаллизация гексагональных металлов аналогична эпитаксии объемноцентрированных металлов на солях. [c.124]

После образования непрерывного слоя осадка текстура зарождения постепенно переходит в текстуру роста с направлением оси текстуры, зависящим от направления подачи кристаллизующегося вещества (в случае роста из паровой фазы — от направления молекулярного пучка). Если оси текстур зарождения и роста не совпадают, то в некотором интервале толщин должно наблюдаться векторное сложение осей. Для многих металлов с плотноупакованными решетками текстуры зарождения и роста (при нормальном к подложке направлении подачи вещества) одинаковы. [c.239]

В ранней стадии осаждения металла на поверхности катода образуется некоторое число случайно ориентированных зародышей (рис. 12.8, а). Если при данных условиях анизотропия роста велика, то кристаллы растут в определенных направлениях быстрее, чем в других. При увеличении толщины осадка быстрее растущие кристаллы занимают весь объем осадка (К. М. Горбунова). Схема, поясняющая образование текстуры, приведена на рис. 12.8. [c.334]

На образование и степень совершенства текстуры, так же как и на механизм роста осадка, влияют состав электролита, условия осаждения металла и наличие поверхностно-активных веществ. [c.334]

В гидрометаллургии и особенно в гальванотехиике стремятся получить мелкокристаллические, компактные, беспористые, иногда блестящие отложения металлов. Размеры кристаллов,, образующих осадки, зависят от многих факторов, и прежде всего, от природы электролита, и поляризации, сопровождающей выделение металла. Электролитический осадок металла, как всякое поликристаллическое тело, характеризуется размером и формой (огранением) кристаллов, а также взаимной ориентированностью кристаллов — их текстурой. Текстурой поликристаллического тела называется совокупиость всех имеющихся ориентаций отдельных кристаллов. В зависимости от того, преобладает лп какая-либо определенная ориентация кристаллов или же кристаллы не ориентированы и расположены беспорядочно, судят [c.367]

Зародыши, разрастаясь по периферии и по высоте, становятся трехмерными и, смыкаясь, образуют сплошное покрытие, в силу чего вступают законы эволюционного отбора I 23—27], которые и определяют структуру и текстуру осадков тугоплавких металлов. [c.56]

Влияние состава электролита [65—69]. По мере увеличения толщины гальванического покрытия влияние подложки уменьшается в конечном итоге структура покрытия определяется только составом электролита, температурой, плотностью тока и способом перемешивания. Структуры покрытий весьма разнообразны. Некоторые и них аналогичны наблюдаемым в литых металлах, но другие свойственны только электролитическим осадкам. Кристаллические осадки, получающиеся в ваннах, не содержащих добавок (или содержащих их в небольших количествах), часто имеют структуру с предпочтительной ориентацией. Некоторые блестящие покрытия также имеют текстуру, но, как правило, по мере замедления роста при увеличении концентрации добавок или при введении более активных веществ, осадок становится все более мелкозернистым и теряет при этом преимущественную ориентацию. [c.345]

Направление преимущественного пассивирования определяет текстуру и характер катодных осадков. С ростом плотности тока и увеличением pH католита гидраты окиси и основные соли металлов уплотняются настолько, что образование новых зародышей становится столь же вероятным явлением, как и рост ранее возникших. Создаются условия ограниченного роста кристаллов в направлении, перпендикулярном плоскости [c.451]

Степень и направление ориентации, общей для всех элементарных кристалликов осадка металла, называется его текстурой. Различают типы текстуры по характеру (ось текстуры) и совершенству взаимной ориентацип кристалликов [190, 191]. У электрохимически осажденных металлов текстура полнее выражена, чем у металлургически полученных металлов. Характер текстуры зависит от состава раствора [192], наличия в нем тех или иных поверхностно-активных добавок. Наличие текстуры [c.97]

Адсорбция ча стац ЗЬгОз-пНгО на паверхности катода не только повышает перенащряжение разряда ионов сурвмы, но существенно отражается на качестве и структуре осадка светлые и плотные осадки становятся темными рыхлыми, снижается твердость и исчезает текстура. При большо м количестве гидрооки сных включений в катодный осадок измеряемый весовым мето(Дом выход по току металла становится выше 100%. По-види(мому, в результате разрыхления катодного осадка и увеличения его истинной поверхности катодный потенциал при осаждении сурьмы перестает возрастать с увеличением pH раствора выше 4. [c.238]

Структура исходного катода иногда влияет на структуру и направленность (текстуру) кристаллов электроосаждаемого металла, однако это влияние проявляется обычно при небольших плотностях тока и на небольших толщинах осадка (см. рис. 174, 76). [c.156]

Электрокристаллизация сопровождается образованием текстур или предпочтительной ориентации, при которой каждое зерно в осадке ориентируется таким образом, что во всех кристаллитах одно кристаллографическое направление ориентировано почти параллельно направлению тока на электроде. Это явление предпочтительной ориентации (или текстура) при электроосаждении было объектом многочисленных исследований, посвященных главным образом определению предпочтительной ориентации осажденного металла в данных условиях опыта [175—180J, а не механизму развития текстуры [166—176, 181, 182]. Полагают [166, 168], что условия электроосаждения благоприятствуют предпочтительному росту кристаллов, имеющих некоторые главные растущие грани, расположенные нормально по отношению к субстрату линия пересечения этих граней (зонная ось) представляет собой ось текстуры. Какие из граней будут развиваться нормально к поверхности субстрата — зависит от условий электроосаждения. Этот вопрос изучался Редди [183, 184] на примере электроосаждения никеля. Изменение скорости выделения водорода на никелевых электродах (т.е. изменение условий электроосаждения) вызывает изменение концентрации адсорбированного водорода на различных гранях и, следовательно, изменяет предпочтительный рост граней. Это приводит к изменению оси текстуры. [c.370]

Прп взаимодействии галогенов с металлами наличие и совершенство ориентации зависят от экспериментальных условий. Ориентированные осадки солей образовывались при небольших скоростях реакции. Как уже отмечалось (см. гл. 1, п. 3), большую роль играет также топография поверхности. В частности, Пэшли обнаружил [155], что на грубой кристаллической поверхности, содержащей фасетки, наблюдается одновременно несколько ориентаций и, кроме того, большое число кристаллов ориентировано произвольно, тогда как на относительно гладкой поверхности имеет место одна ориентация [156]. Отметим, что при реакции серебра с бромом на совершенной поверхности (111) Ag осадок образует аксиальную текстуру, тогда как на очень гладких монокристальных пленках серебра удалось з иксировать ориентировки (111) [110] или [ПО] AgBr (111) [ИО] Ag. [c.195]

В работе [441)] исследовалось влияние электрического поля на рост осадков при пиролизе гексакарбопила молибдена. В случае наложения отрицательного потенциала к покрываемой поверхности скорость осаждения металла увеличивается во всем исследованном интервале температур (000—1200 С) и напряжений (от —000 до +600 в). В некоторых условиях скорость роста увеличивается в 2—2,5 раза. Наложение положительного потенциала несколько снижает скорость осаждения. Электрическое поле существенно влияет на содержание углерода в осадке. При этом, что особенно важно, снижение концентрации углерода в молибдене наблюдается при наложении отрицательного потенциала, т. е. при одновременном увеличении скорости осаждения. Содержание углерода. может достигать весьма малой величины ( 10 3 вес. % и менее). Наложение электрического поля в исследованном интервале температур не приводит к изменению направления осей преимущественной ориентации, но снижает степень совершенства текстуры. При определенных условиях можно получить нетекстурировапные осадки. [c.266]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология