Справочник химика 21

Химия и химическая технология

Статьи Рисунки Таблицы О сайте English

Иодидная очистка

    На рис. 3.75 показана схема устройства для проведения иодидной очистки. В камеру помещают подлежащий очистке цирконий а смеси с небольшим количеством иода. При слабом нагревании ( 300° С) образуется летучий иодид Тги. который разлагается [c.488]

Рис. 3.75. Схема устройства для проведения иодидной очистки циркония Рис. 3.75. <a href="/info/329541">Схема устройства</a> для проведения иодидной очистки циркония

    Бестигельной зонной плавкой металла, прошедшего иодидную очистку, получают титан особой чистоты, содержащий 99,9999% Т1. [c.489]

    Термическое разложение соединений используют для получения особо чистых простых веществ. Часто применяют так называемый иодидный метод очистки металлов. [c.195]

    Объясните теоретически и опишите практическое осуществление иодидного метода очистки металлов. [c.119]

    Такой метод очистки металлов от примесей получил название иодидного метода. Он, в частности, применяется в промышленности для глубокой очистки циркония от примеси гафния. Были получены хорошие результаты при очистке этим методом титана, ванадия, ниобия, вольфрама, тория. [c.22]

    Ценным исключением из химических способов очистки является метод транспортных реакций. Транспортными называют обратимые гетерогенные реакции, при протекании которых вещество в форме, как правило, газообразного соединения способно переноситься из одной зоны реактора в другую при наличии между этими зонами разности температур или давлений. Примером метода транспортных реакций является иодидный способ очистки циркония. Порошкообразный металл нагревают в вакуумированной ампуле до 200—300°С вместе с кристаллами иода. При этом протекает обратимая реакция по уравнению [c.316]

    Наиболее чистые металлы получают иодидным методом или с помощью очистки их вакуумной плавкой рассредоточенным электронным пучком, или методом зонной плавки в вакууме. [c.98]

    Наконец, галогениды титана и его аналогов, особенно иодиды, широко используются при получении чистых металлов (иодидное рафинирование). Следует отметить, что в последнее время хлорная и йодная металлургия вообще находит широкое и все возрастающее применение при очистке и выращивании кристаллов многих металлов. [c.245]

    Иодидный способ основан на том, что пары иодидов очищаемых металлов, устойчивые при низких температурах, разлагаются при соприкосновении с поверхностью сильно нагретой проволоки и чистый металл оседает на ее поверхности. Иодидным методом очищают от примесей титан, цирконий, металлы VB-подгруппы. Например, очищаемый порошкообразный титан нагревают до 100—200 °С с кристаллическим иодом в специальном аппарате. Сначала титан образует с иодом (но не с примесями) летучий тетраиодид Tib, пары которого затем разлагаются на поверхности накаленных электрическим током до 1300— 1500 С тугоплавких нитей. Очищенный титан оседает на них, а освобождающийся иод образует новые порции тетраиодида титана, что обеспечивает непрерывность процесса очистки. [c.264]


    Производство металлического циркония аналогично получению титана оно включает процессы хлорирования диоксида циркония, восстановления полученного хлорида циркония магнием и очистку металла иодидным методом. Гафний обычно выделяют из руд попутно с цирконием. [c.263]

    Приготовление стандартных образцов чистых металлов и металлоидов также осложнено рядом помех принципиального характера. Среди них важнейшими являются близость физико-химических свойств эталонируемых веществ и примесей, способность к образованию твердых р астворов и различных дефектов в кристаллических структурах, которая в конечном счете приводит к локальным микронеоднородностям химического состава. Как и в случае приготовления эталонов газообразных веществ, серьезные помехи возникают за счет трудностей в выборе абсолютно инертного материала, исключающего химическое взаимодействие с эталонируемым веществом в процессе его очистки и хранения. Тем не менее применение ряда новых методов очистки (среди которых важнейшее место занимают зонная плавка и иодидное фракционирование) дает возможность в настоящее время получать высокие степени очистки некоторых металлов — содержание примесей в них не выще 1 10 %  [c.52]

    Особо чистый титан получают дополнительной электролитической очисткой или иодидным рафинированием - процессом, основанным на обратимости реакций металлов с иодом. Процесс проводят в специальных реакторах, состоящих из двух частей в одной из них находится сырой металл, в другой (большего объема) натянута тонкая вольфрамовая нить. Из реактора откачивают воздух и вводят в него небольшое количество иода. Температуру реактора поддерживают такой (400-500 °С), при которой идет реакция [c.344]

    Для получения чистого металла после восстановления применяются разнообразные, часто весьма сложные процессы дополнительной очистки - рафинирования. Например, для получения особо чистого титана используют термическое разложение тетраиодида титана (см. разд. 28.1). Иодидное рафинирование применяется также при очистке хрома, циркония, тантала и олова. [c.480]

    Метод иодидного рафинирования позволяет вести очистку тугоплавких металлов, превращая их в летучие иодиды, например  [c.227]

    Извлечение и очистка металлов в последнее время все чаще осуществляется с использованием процессов экстракции, достоинствами которых являются высокая избирательность и возможность работы как с макро-, так и микроконцентрациями. Висмут в растворах минеральных кислот (азотной, серной, соляной, бромоводородной, иодоводородной) образует комплексы с анионами кислоты, причем прочность их растет от нитратных к иодидным. Он образует также сравнительно прочные комплексы с роданид-ионами и тиомочевиной. В разбавленных растворах минеральных кислот (pH 0,4—2) висмут легко гидролизуется с образованием основных солей, что препятствует его экстракционному извлечению. Вследствие этого для извлечения висмута интерес представляют экстрагенты, позволяющие количественно его экстрагировать из относительно кислых сред. Гидролиз висмута предотвращают обычно введением в раствор комплексонатов, поэтому перспективны также экстрагенты, способные эффективно извлекать висмут из данных растворов. [c.64]

    Для технологии редких металлов характерна необходимость рафинирования получаемого металла. Для этого широко ис пользуют вакуумную дистилляцию, иодидное рафинирование, кристаллофизические методы очистки и т. д. [c.9]

    В процессе реакции осуществляется очистка главным образом от примесей азота, кислорода и водорода, наличие которых лишает металл.пластичности и коррозионной устойчивости. Нитриды, окислы, гидриды не взаимодействуют с иодом и остаются в неочищенном металле. В процессе иодидной рафинировки не происходит очистка от элементов, которые также способны образовывать летучие иодиды. [c.318]

    Эффект очистки ниобия иодидным методом [c.322]

    Иодидный метод можно также применять при транспорте и очистке таких металлов, как N1, Си, Ре, Сг, 51, Т1, Ш, ТЬ, V, ЫЬ, Та и и [6, 26, 27, 31, 49—53]. [c.52]

    В разделе 3.1 неоднократно указывалось на возможность использования транспортных реакций для очистки веществ. Для получения чистых металлов особое значение приобрел иодидный метод ван Аркеля и де Бура. [c.81]

    Из двух веществ А и А подвергается транспорту только А. В процессе транспорта остаток обогащается веществом А это зачастую приводит к образованию новой фазы. По окончании транспорта получают очищенное вещество А. Наиболее близок к этому случаю транспорт металла иодидным методом, в процессе которого происходит очистка металла от неметаллических примесей. [c.85]

    Эффект очистки циркония в процессе транспорта иодидным методом [160] [c.89]


    Эффект очистки ниобия при транспорте иодидным методом [53, 161] [c.89]

    РИС. 3. loo. Схема устройства для проведения иодидной очистки цирконнм  [c.504]

    Вян Аркель и де Бур (Голляндия, 1924 г.) разработали оригинальный метод получения очень чистого циркония. Это так называемый метод иодидной очистки, который основан на реакции [c.488]

    На рис. 3.100 показана схема устройства для проведения иодидной очистки. В камеру помещают подлежащий очистке цирконий в смеси с небольшим количеством иода. При слабом нагревании ( 300°С) образуется летучий 2г14, который разлагается на металлической проволоке из чистого циркония, нагреваемой током до 1300 °С. В результате на проволоке нарастает слой чистого циркония, а выделившийся иод поступает обратно в камеру и реагирует с новыми порциями циркония. Примеси остаются.на дне камеры. В данной транспортной реакции происходит как бы перегонка наоборот — цирконий переносится (химической реакцией) из менее нагретых участков аппарата в зону сильного нагревания. Высокая чистота продукта обусловлена тем, что примеси, содержащиеся в исходном металле, либо не реагируют с и, либо образуют нелетучие иодиды. [c.504]

    При плавке молибдена в качестве электрода используется шта-бик или пучок штабиков порошкового молибдена, прошедших спекание в водороде. При плавке циркония в качестве электрода может бйть использован пучок стержней металла, полученных в результате иодидной очистки. [c.11]

    Аналогично получают металлический Th. При восстановлении Thp4 кальцием металл выделяется в виде губчатой массы. Проводят также электролиз расплавов, содержащих Thp4 или К [ThFs] и хлориды щелочных металлов. Процесс ведут при 750—800 °С. Глубокую очистку Th осуществляют иодидным методом (см. разд. 8.2). Плутоний образуется в ядерных реакторах из при захвате им нейтронов  [c.608]

    Отношение 1п(7в/ул) позволяет сделать вывод, что коэффициент активности примеси в твердой фазе должен быть минимальным Ув Та Это возможно, если транспорт осуществляется в присутствии добавок, связывающих микропримесь в соединения, практически не взаимодействующие с транспортером С(г). Например, добавка графита связывает металлы в карбиды, которые при сравнительно невысоких температурах транспорта в иодидном процессе очистки металлов с иодом не реагируют и поэтому не переносятся. [c.79]

    Иодидный процесс осуществим как в замкнутой сисаеме, так и в потоке газа (обычно водорода). Этот метод позволяет получить ровные слои с хорошей структурой. Однако реакция диспропорционирования мало управляема, вследствие чего трудно получить хорошие и воспроизводимые электрические характеристики. Небольшая скорость роста (75—200 мкм/сут) не позволяет получать толстые пленки. В настоящее время не меньшую трудность представляет также очистка иода до необходимой степени, что в свою очередь ограничивает применение этого метода в промышленности. [c.142]

    Выход циркония 70%. Хуже всего происходит очистка от элементов, способных образовывать летучие иодиды. Например, от титана и гафния очистка вообще не происходит. При иодидном рафинировании хорошая очистка достигается от неметаллов (табл. 49). Кислород частично переносится с ниобием в виде летучего соединения КЬОГз. [c.322]

    Повышения эффективности очистки можно было бы добиться, если бы транспорт основного вещества осуществлялся в присутствии добавок, связывающих примеси. Эта возможность до сих пор почти не изучена, однако справедливость высказанного положения можно показать на примере транспорта ниобия, проведенного Ролстеном [53, 161]. При очистке ниобия иодидным методом значительная часть кислорода, содержащегося в исходном металле, увлекается совместно с ниобием, что можно объяснить летучестью ЫЬОЛз. Однако если исходный металл смешать с хлоридом бария или хлоридом кальция, то содержание кислорода в полученном ниобии уменьшится. Если коэффициент увлечения кислорода ниобием в отсутствие добавок достигает 0,30 (см. табл. 4), то после введения хлорида бария его величина снижается до 0,15. [c.92]


Смотреть страницы где упоминается термин Иодидная очистка: [c.94]    [c.243]    [c.495]    [c.8]    [c.52]   
Общая и неорганическая химия (1994) -- [ c.488 ]




ПОИСК







© 2024 chem21.info Реклама на сайте