Ниобий скорость испарения

ТЕРМОЭМИССИОННЫЕ МАТЕРИАЛЫ, термо электронные материалы — материалы, применение которых основано па явлении термоэлектронной эмиссии — испускании (выходе) электронов с поверхности при нагреве. Используются с начала 20 в. Осн. требования к Т. м. высокая плотность тока эмиссии, низкая скорость испарения, стабильность термоэлектронной эмиссии во времени, стохшость к ионной бомбардировке, механическая прочность, технологичность и инертность к химически активным средам при рабочих т-рах (обычно выше 1280 К). Одной из важнейших характеристик Т. м. является работа выхода электронов, которая в зависимости ог типа материала составляет 1-4-5 эв. Различают Т. м. металлические (преимущественно с металлическим типом связи), металлоподобные (с ковалентно-металлическим типом связи) и полупроводниковые (с ионным типом связи), к металлическим Т. м. относятся тугоплавкие металлы с относительно низкой испаряемостью, в первую очередь вольфрам, тантал, ниобий, молибден и рений, характеризующиеся работой выхода электронов [c.555]

В табл. 92 и 93 приведены значения давления пара и скорости испарения ниобия и его соединений. [c.58]

Дапление пара и скорость испарения ниобия [48], [45] [c.62]

Давление пара и скорость испарения соединений ниобия [45] [c.62]

При замене воздуха на благородные газы гелий и аргон условия возбуждения и характер спектров сильно меняются. В атмосфере аргона и гелия температура разряда достигает 10 000—20 000 К-Вследствие этого линии атомов металлов излучаются периферическими участками дуги в центральной высокотемпературной части разряда атомы почти полностью ионизированы. Наиболее низкая температура электродов устанавливается в атмосфере аргона. Это замедляет скорость испарения элементов и усиливает фракционирование. В аргоне за обычное время (3—5 мин) удается полностью испарить лишь наиболее летучие элементы (мышьяк, кадмий, цинк). Элементы с более высокими температурами кипения (Приложение 1), например алюминий и титан, испаряются лишь частично, а ниобий, тантал и цирконий практически не поступают в разряд. [c.77]

Испаритель работает при анодном напряжении 8—12 кв и токе луча 0,2—0,5 а. Размеры фокусного пятна на поверхности металла могут быть доведены до до 0,5 мм" . Скорость испарения титана —1,5 молибдена— 1,3 циркония — 0,4 ниобия — 0,32 пермаллоя — 1,0 г мин. Она ограничивается рассеиванием электронов луча на облаке металлического пара, давление которого в районе фокусного пятна составляет несколько миллиметров ртутного столба. [c.241]

При испарении фаз переменного состава происходят изменения химического состава поверхности. На рис. 11 показаны кинетические кривые, полученные нами при испарении карбида ниобия с открытой поверхности в вакууме при суммарном давлении остаточных газов 5-10- тор. Пологие участки графиков соответствуют конгруэнтно испаряющимся составам карбида ниобия при данной температуре. Из кинетических кривых видно, что в диапазоне температур (2770- 3070)°К время предварительной выдержки образца в вакууме для МЬС колеблется от трех до тринадцати часов [24, 26]. Подобные зависимости G — f t) полезно иметь и для оценки данных по скоростям испарения металлов при изменении условий испарения. [c.359]

Роль диффузионных процессов отмечалась нами при изучении скоростей испарения углерода из карбидов ряда металлов [26, 30]. Так, скорость испарения углерода с поверхности карбида ниобия м ожно представить как [c.363]

Мольное отношение углерода к ниобию в конденсате (паре) МОЖНО выразить через наблюдаемую скорость испарения углерода и скорость испарения ниобия [c.363]

К аналогичному выводу пришли Н. Ф. Захария и Н. А. Фуга [138] Исследуя влияние носителя на скорость испарения, они установили, что окислы галлия, никеля и серебра, добавляемые к двуокиси циркония, а также к окисям вольфрама, гафния, молибдена, ниобия, тантала, тория и урана, не влияют заметно на скорость испарения примесей. Исследовались примеси алюминий, ванадий, висмут, железо, кальций, кобальт, мышьяк, кремний, олово, свинец, титан и хром, вводимые в пробу в концентрациях 10- — [c.327]

Результаты опытов по исследованию влияния температуры на продукты взаимодействия карбида ниобия с кремнием, взятых в соотношении 50 50 мол.%, при длительности выдержки 60 мин приведены в табл. 1. Из полученных данных видно, что взаимодействие начинается при температуре 1100° С, но скорость его при этой температуре очень мала. С увеличением температуры скорость реакции растет, и при 1500° С и времени выдержки 60 мин кремний полностью вступает во взаимодействие с карбидом. При температурах выше 1500° С скорость испарения кремния начинает превалировать над скоростью реакции, и количество прореагировавшего карбида [c.137]

В табл. 2 приведены результаты опытов по исследованию влияния температуры на продукты взаимодействия карбида ниобия с кремнием. Из приведенных данных видно, что взаимодействие начинается при температуре 1100° С, но скорость его при этой температуре очень мала. С увеличением температуры скорость реакции растет и при 1500° С кремний полностью вступает во взаимодействие с карбидом. При температурах выше 1500° С испарение крем- [c.140]

Особый интерес в этом отношении представляют карбиды, нитриды, бориды и силициды металлов. Составы этих соединений могут изменяться в значительном интервале, что позволяет рассматривать их как твердые растворы. При испарении их при низком давлении состав образующейся газовой фазы, как правило, отличается от состава твердой фазы и соотношение компонентов в последней в процессе испарения изменяется. Было отмечено, однако, что в ряде случаев состав твердой фазы стремится к некоторому постоянному значению. Такое положение было обнаружено, в частности, при изучении испарения монокарбидов ниобия, тантила и вольфрама [100—102]. Состав твердой фазы, испаряющейся без изменения состава и названной конгруэнтно испаряющимся раствором, является только функцией температуры, с повышением которой возрастает содержание металла. Р. Г. Аварбэ и С. С. Никольский предложили использовать явление образования конгруэнтно испаряющегося раствора для расчета условий фазового равновесия в бинарной системе тина твердое тело — газ [103]. Как известно, скорость испарения вещества с открытой поверхности в вакуум выражается уравнением Лэнгмюра [c.263]

Пленки бора получают различными методами, из которых следует отметить метод термического разложения трихлорида бора в присутствии водорода с осаждением на нагретую до 997—1017 °С грань <111> р-кремния, метод вакуумного испарения и конденсации на нагретую до различных (20—797°С) температур подложку из плавленого кварца, слюды, каменной соли, сапфира или стекла, метод электронно-лучевого испарения и конденсации в вакууме 1,33-10- Па иа подложки из тантала илн ниобия (с подслоем йз вольфрама, хлористого бария или без подслоя), разогретые до 297—1197°С, и т. п. Ультрачистые пленки бора получают расплавлением и испарением капли на вертикальном стержне бора. Варьируя температуру капли от 697 до 2497 °С, можио изменить скорость испарения в широких пределах, управляя таким образом скоростью осаждения бора на подложке и совершенством образующихся пленок. Известен также способ получения пленок путем мгновенного охлаждения из жидкости. Применяют следующие схемы закалки прокатка жидкой капли, центрифугирование и захлопывание летящей капли двумя медными шайбами и т. д. Кристаллическое строение пленок бора определяется условиями кристаллизации. Так, пленкк, получаемые методом термического разложения трихлорида, имеют главным образом моно- и поликристалличсское строение, методом вакуумного испарения —в основном аморфное при применении в качестве подложек кремния и сапфира строение пленок зависит от температуры подложки — до 797 °С аморфное, при температуре до 897 "С кристаллическое и т. д. При получении пленок путем закалки из жидкой фазы скорости охлаждения составляют Ю —10 с-, а толщина пленок 40—120 мкм. В этом случае пленки имеют преимущественно кристаллическое строение для получения аморфного бора необходимы более высокие скорости. Метод осаждения бора из газовой фазы на подложку используют также для получениях борных нитей. В этом случае осаждение производят иа сердечник из вольфрама диаметром 15—16 мкм, толщина получаемого при этом борного слоя составляет до 50 мкм. В процессе осаждения происходит борирование вольфрама подложки и образуются бориды различного состава. В борном слое обнаружены аморфная и а- и Р-модификации, имеющие монокрнсталли-ческое строение с размерами кристаллитов 2—3 нм. Заметное влияние иа структуру бора оказывают примеси, попадающие в слой из газовой фазы или подложки. Так, присутствие углерода способствует образованию тетрагонального бора вместо Р-ро.мбоэдрического. [c.149]

Для испарения ряда тугоплавких металлов можно применять электроннолучевое устройство сравнительно простой конструкции (рис. 3-60,б). В этом испарителе нагрев капли металла 3, помешенной в ох.лаждаемой водой медной чашечке 4, производится хорошо сфокусированным лучом. Фокусировка луча на поверхности металла достигается подачей отрицательного смещения на фокусирующий электрод 1 и перемещением чашечки с каплей металла по высоте. При подводимой мощности 0,5—1 кет (6—10 К0, 80—100 ма) скорость испарения тантала, ниобия, циркония, бора и других тугоплавких металлов составляет 60—100 мг/мин. К недостаткам такого испарителя относится запыление электродов испаряемым металлом, что требует их частой периодической замены. Кроме того, при работе испарителя сильно уменьшается его внутреннее сопротивление из-за компенсации ионами металла отрицательного объемного заряда у катода, и создаются условия для возникновения дугового разряда. [c.240]

Опыты, проведенные во ВНИИЭТО [Л. 17], показали, что ниобий весьма активно взаимодействует с огнеупорами уже при температуре 1400—1700°С. По данным этих же опытов скорость испарения ниобия при температуре 1800° С имеет порядок 10 г1см -сек (это на два порядка ниже скорости испарения, подсчитанной по формулам, приведенным в начале главы). [c.72]

Первая работа по определению давлеппя пара ниобия выполнена в 1936 г. [465] методом Лэнгмюра. Испарение пелось с нити из пиобия в вакууме, а скорость испарения определялась по уменьшению диаметра [c.267]

Тантал и ниобий. Температура плавления тантала 2996°С, ниобия— 2415°С. Тантал, близкий по свойствам к ниобию, имеет почти в два раза большую удельную плотность. Эти металлы обладают низкой скоростью испарения и высоким электросопротивлением, превышающим в три раза электросопротивление вольфрама. Тантал и ниобий часто используются в нагревательных элементах, для изготовления держателей катодов, для деталей, получаемых из листа и тонких фолы. Из тантала получают фольгу толщиной до 4 мкм. По механической прочности тантал и ниобий уступают вольфраму и молибдену. Температура рекристаллизации тантала 1300°С, ниобия — 1050°С. Тантал и ниобий активно взаимодействуют с водородом, что используется для изготовления из них нераопыляемых газопоглотителей. Особенно активно тантал и ниобий поглощают газы в интервале температур 600...700°С. Учитывая большую дефицитность тантала, часто применяют его сплавы с ниобием (ТН-20, ТН-50, ТН-80), содержащие 20...80% ниобия. [c.49]

Высокая температура плазмы, меньшая скорость прохождения аэрозоля через плазму ( 38 см1сек) и малые размеры капель аэрозоля ( 5 мк) обеспечили более высокую эффективность испарения труднолетучих соединений по сравнению с описанными выше пламенами. Однако чувствительности определения алюминия, ниобия, титана, вольфрама, ванадия и иттрия при трехкратном прохождении пучка света через плазму оказались того же порядка, что и в пламени. Это свидетельствует о том, что и в условиях высокотемпературных восстановительных пламен эффективность испарения и диссоциации термостойких соединений близка к предельной. [c.224]

В отличие от системы с пятиокисью ниобия в системе Ц Ов — ТагОб во всем интервале концентраций от 10 до 80% ТаОг.з при спекании смесей обнаруживается практически одинаковая потеря веса, достигающая 0,1 вес. % после отжига 69 ч ири 1000° С и 0,2 вес. % после 4 ч при 1200° С. Дальнейший нагрев смесей при 1200° С сопровождается испарением со средней скоростью 0,05 вес. % в час. Таким образом, можно считать, что при взаимодействии закиси-окиси урана и пятиокиси тантала образуются препараты, состав которых отвечает разрезу изОв — ТагОз (рис. 7.3). Образующимся в системе изОв — ТагОз новым соединениям могут быть приписаны формулы иТаОз,17 и иТазОюл [32]. [c.277]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология