Причины образования зарядов коллоидных частиц

Причины образования зарядов коллоидных частиц 519 [c.519]

Причина образования зарядов коллоидных частиц [c.382]

Причины образования зарядов коллоидных частиц. На основе опытного материала было предложено следующее правило [c.511]

В реальных условиях устойчивость коллоидных систем играет громадную роль. Она зависит от сроков и условий их транс-лортирования, хранения, переработки. Изменения структуры коллоидных систем, приводящие к их разрушению, в различных условиях различны и зависят от соотношения и природы сил, действующих между диспергированными частицами. Это могут быть силы сцепления и силы отталкивания. Силы сцепления обычно проявляются при наличии межмолекулярного взаимодействия. Они сильно возрастают при сближении частиц, вызывая их слияние, коагуляцию. Поэгому устойчивость коллоидных систем резко снижается при увеличении концентрации. Отталкивание частиц друг от друга происходи г по нескольким причинам. Большое значение имеет электростатическое отталкивание частиц, имеющих одинаковый электрический заряд. Сближению частиц препятствует также образование на поверхности раздела сольватных оболочек, состоящих из молекул дисперсионной среды, поверхностно-активных веществ, играющих роль эмульгаторов, стабилизаторов, часто специально вводимых в коллоидные системы, и т. п.- Подбором рецептуры, способов приготовления, хранения и переработки коллоидных полимерных систем добиваются значительного повышения их устойчивости. [c.415]

Относительно расположения противоионов наиболее естественно допустить, что они приближаются к поверхности на наименьшее расстояние (оно определяется размерами ионов и приблизительно равно ионному радиусу). Это приводит к образованию так называемого двойного электрического слоя, который подобен электрическому конденсатору. Одна пластина конденсатора образована заряженной поверхностью, а другая — зарядами в растворе (рис. 28). Даже если заряженная поверхность искривлена, как, например, для коллоидных частиц, будем считать этот конденсатор плоским, поскольку радиус частиц (< 10 см) почти в тысячу раз больше расстояния от центра противоионов до поверхности ( 10 см). По этой же причине Земля кажется нам плоской, так [c.70]

Образование максимума на кривой =/(рН) в некоторых случаях может быть обусловлено и другими причинами. Так, например, при переходе от бесконечно малых концентраций радиоактивного изотопа к более значительным появляется возможность образования полиядерных продуктов гидролиза в виде положительно заряженных коллоидных частиц. Тогда уменьшение величины положительного заряда гидролизованных ионов может компенсироваться увеличением количества атомов металла на единицу заряда, а переход в коллоидное состояние может увеличить адсорбцию радиоактивного изотопа благодаря коагуляции положительных коллоидов на отрицательно заряженной поверхности катионообменного адсорбента. Образование максимума в этом случае объясняется адсорбцией положительных коллоидов, а последующее уменьшение адсорбции — перезарядкой коллоидных частиц гидроксильными ионами (см., например, Ни). [c.33]

Причины фиксации могут быть различными в каждом конкретном случае. Чаше всего необратимость процесса адсорбции гуминов и других коллоидных загрязнений воды на гидроокисях алюминия вызывается образованием особого рода поверхностных соединений — лаков. Большое значение в процессе фиксации адсорбированных коллоидов принадлежит их коагуляции вследствие разноименности зарядов адсорбированных частиц и поверхности адсорбента. Наличие заряда у адсорбирующихся коллоидных частиц отражается на их адсорбируемости. [c.129]

Своей активностью коллоидная фракция обязана в основном. очень малому размеру частиц по отношению к их массе. Благодаря большой удельной поверхности поведение частиц этой фракции определяется главным образом электростатическими зарядами на их поверхностях, которые способствуют развитию сил притяжения и отталкивания между отдельными частичками. Особенно активными коллоидами являются глинистые минералы. Это объясняется как формой (мельчайшие кристаллические пластинки или пакеты таких пластинок), так и молекулярным строением частиц, что приводит к образованию сильных отрицательных зарядов на их базальных поверхностях и положительных зарядов на ребрах. Взаимодействие между этими противоположными зарядами при низких скоростях течения сильно влияет на вязкость глинистых буровых растворов и является причиной обратимого структурообразования, когда раствор находится в состоянии покоя. [c.17]

Всякая причина, вызывающая уменьшение или уничтожение (нейтрализацию) электрических зарядов гранул, понижает устойчивость коллоидных растворов и приводит к укрупнению частиц в более сложные агрегаты. Процесс укрупнения называется коагуляцией. Внешне она сопровождается появлением мути, изменением окраски золя и, наконец, образованием осадка. Выпадение дисперсной фазы в осадок называется седиментацией (оседанием). [c.71]

Силами отталкивания могут являться электрические силы, возникающие в результате избирательней адсорбции межфазной поверхностью одного из ионов электролита, пргГсутствующего в системе. Поскольку частицы дисперсной фазы по своей природе одинаковы и адсорбируют всегда определенный ион, все они приобретают электрический заряд одного и того же знака и испытывают взаимное отталкивание, что препятствует сближению их на такие расстояния, где уже могут действовать весьма значительные аттракционные силы. Другой причиной, препятствующей сближению коллоидных частиц до расстояний, на которых начинают превалировать силы сцепления, может явиться образование на поверхности частиц сольватной оболочки из молекул среды. Такая оболочка возникает в результате адсорб ции дисперсной фазой либо молекул среды, либо молекул или ионов третьего компонента (стабилизатора) системы. Помимо этих двух факторов существуют и другие факторы, обеспечивающие агрегативную устойчивость коллоидным системам. Подробно все факторы устойчивости рассмотрены в гл. IX. [c.20]

Причиной образования коллоидного раствора является адсорбция твердыми частицами осадка Ре(ОН)з ионов железа Ре из раствора хлорида железа (П1). Адсорбированные ионы сообщают частицам осадка од1шаковые заряды, в результате чего частицы начинают отталкиваться друг от друга и, отрываясь от осадка, постепенно равномерно распределяются по всему объему жидкости, т. е. происходит процесс пептизации. [c.77]

Свойства коллоидных систем определяются процессами, происходящими на поверхности частиц их размеры столь малы, а удельная поверхность (отношение общей поверхности к массе осадка) столь велика, что именно эти процессы, которыми можно пренебречь в крухшодисперсных системах, здесь выступают на первый план. Ионы на поверхности обладают повышенной свободной энергией, что приводит к адсорбции ионов из раствора и образованию электрически заряженных частиц. Одноименно заряженные частицы отталкиваются. Это и является одной из причин устойчивости коллоидного состояния. Например, в кубическом кристалле Ag l каждый ион серебра внутри кристалла окружен шестью хлорид-ионами, на поверхности же кристалла (особенно на гранях и в углах) ионы имеют частичный остаточный заряд. Поэтому, хота в целом поверхность незаряжена, на ней локализованы положительные и отрицательные заряды. [c.12]

Для аналитика основное значение имеют размерын коллоидных частиц и связанные с высокоразвитой внутренней поверхностью адсорбционные явления. Адсорбционные свойства коллоидных частиц используют в процессе соосаждения. В этом процессе коллоидная частица, например гидроксида, захватывает осаждаемый иоа или его гидроксид, которые в обычных условиях не-осаждаются, и переводит в осадок при коагуляции коллоида. Коллоидные частицы способны, в частности, адсорбировать из раствора окрашенные вещества, концентрируя их на своей поверхности. Адсорбция посторонних, веществ часто служит причиной коагуляции коллоидов,, т. е. слипания их частиц вследствие уменьшения заряда или гидратации. Этот процесс напоминает процесс образования обычного осадка, однако при образовании обычного осадка преобладает конденсация ионов или молекул при росте кристаллов и объединение при агрегации кристаллических фрагментов, различно ориентированных. Коллоиды при коагуляции образуют коагели, в-которых до некоторой степени сохраняется индивидуальность составляющих частиц и содержится значительное количество адсорбированных на них посторонних веществ. Обратный процесс превращения коагеля в коллоидный раствор — золь — называют нептизацией. [c.59]

Главные неприятности с банками для консервированных фруктов представляют а) перфорация, при которой коррозия разрушает железо насквозь и б) водородные вздутия банок, которые получаются от выделяющегося водорода, вызывая беспокойство у потребителя, который приходит к заключению, что образование газа произошло от разложения пищи. Наблюдения Морриса касающиеся диффузии водорода через сталь, имеют прямое отношение к этому" предмету, ибо такая диффузия будет уменьшать склонность к образованию таких вздутий. Было найдено, что оловянные покрытия уменьшают до некоторой степени скорость диффузии водорода, но не прекращают ее полностью, вероятно, благодаря пористости этих покрытий. Моррис и Брайан изучили действие на олово и железо буферных растворов лимонной кислоты, причем это действие изучалось как на каждом металле в отдельности, так и на соединенных вместе. Эти авторы изучили также действие естественных фруктовых соков на сталь и олово. В общем, коррозия железа уменьшается с увеличением коррозии олова, потому что последнее осуществляет катодную защиту железа. Обычно менее кислые фрукты (такие, например, как сладкие вишни) причиняют больше всего неприятностей заготовителю, что ясно из результатов лабораторных работ Морриса. Добавка фруктовых кислот к сладким вишням уменьшает скорость образования водорода, и таким образом уменьшает опасность вздутия банок это имеет практическое значение для консервирования слабокислотных фруктов. Хор полагает, что причина уменьшения коррозии с увеличением кислотности заключается в увеличении защиты за счет ингибиторов, обычно присутствующих в фруктах они представляют собой в основнохм коллоидные частицы, которые приобретают положительный заряд при низком значении pH и с большой легкостью перемещаются к металлу в кислом растворе. [c.707]