Отражательные оптические системы

Электрографические (ксерографические) системы. Первичное изображение создается на экране ЭЛТ, проецируется на светочувствительный электростатически заряженный носитель, на котором создается потенциальный рельеф в соответствии с первичны.м изображением. Скрытое электростатическое изображение проявляют мелким порошком и затем при помощи отражательной оптической системы это вторич/юе. изображение проецируется на экран. В одной из. модификаций такого устройства проявленное изображение со светочувствительного слоя переносится на прозрачный носитель, и проекция осуществляется уже с него. В системе имеются механически движущиеся элементы. В процессе работы расходуется материал. [c.200]

Отражательные оптические системы [c.170]

Простейшая отражательная оптическая система состоит из зеркального отражателя, предназначенного либо для собирания и фокусировки лучистой энергии на чувствительную площадку приемника, либо для создания направленного излучения в инфракрасных осветительных устройствах. Отражатель в зависимости от формы сечения может быть сферическим, параболическим, ги- [c.170]

Отражательная оптическая система может состоять из нескольких зеркальных отражателей. На рис. 4.26 показаны четыре основных типа сложных зеркальных систем. Большее зеркало 1 является основным, определяющим входное действующее отверстие системы. Вторичные малые отражатели 2 являются вспомогательными в зависимости от положения и параметров вторичного отражателя можно удлинять или укорачивать фокусное расстояние системы. В системах айв основные зеркала имеют слепое центральное отверстие для пропускания потока излучения. Если вто- [c.172]

В камере РКВ-86А имеется оптическая система 4, превращающая прибор в однокружный оптический отражательный гониометр. С помощью этой оптической системы можно проводить гониометрические измерения и установку хорошо ограненного и хорошо отражающего кристалла оптическими методами непосредственно в рентгеновской камере. [c.129]

Назначение оптической системы - направлять излучение по нужному пути. Использование отражательных зеркал с наружным покрытием предпочтительнее, чем линз, так как последние имеют хроматическую аберрацию и преломляющая оптическая система должна постоянно перестраиваться с изменением длины волны. [c.19]

Ионизационная камера и ионно-оптическая система. По ток газа от натекателя попадает в ионизационную камеру работающую при давлении около 10 —10 мм рт. ст., в которой он бомбардируется под прямым углом пучком электронов, испускаемых нагретой нитью. Положительные ионы, образующиеся при взаимодействии с этим пучком, выталкиваются через первую щель ускорителя слабым электростатическим полем между отражательными электродами и первой щелью [c.23]

Следовательно, материал для оптической системы должен обладать высокой прозрачностью в ИК-области спектра для линзовых систем и хорошей отражательной способностью в этой области для зеркальных систем. Кроме того, материал должен быть достаточно прочен, хорошо обрабатываться, быть относительно недорогим и достаточно стабильным по своим свойствам. Для приборов, работающих вне помещения, материал оптической системы должен быть также стойким к климатическим воздействиям (изменению температуры, влажности и т. д.). [c.147]

Исследование микроструктуры шлифа ведется в отраженном свете лучей, поступающих от источника света и проходящих через осветительную систему. На рис. 95, а представлен ход лучей через осветительную и оптическую системы микроскопа МИМ-7 при работе в светлом поле. Луч света от источника света —лампы — попадает через коллектор иа зеркало 3. Отразившись от него, луч проходит через светофильтр апертурную диафрагму, осветительную линзу 6, призму иллюминатора 9, линзу 10, отражательную пластинку и объектив (который является частью осветительной системы) и попадает на зеркальную поверхность шлифа, освещая ее. Эта [c.168]

Особенно часто в осветительных системах и монохроматорах спектрофотометров используют алюминированные оптические детали конденсоры, объективы, поворотные зеркала, так как они имеют хорошую отражательную способность во всех диапазонах оптического спектра и не меняют своего фокусного расстояния при переходе от одной области спектра к другой. [c.302]

Земная атмосфера трансформирует падаюш ее на нее коротковолновое солнечное излучение за счет поглош.ения атмосферными газами и аэрозолями, рассеяния аэрозолями, диффузного отражения нисходящего излучения подстилающей поверхностью. Пространственная и спектральная структуры поля излучения определяются оптическим состоянием атмосферы и подстилающей поверхности, положением Солнца на небосводе. Второй основной составляющей поля излучения системы подстилающая поверхность—атмосфера является тепловое излучение. Соотношение вкладов в суммарную спектральную интенсивность рассеянного солнечного и теплового излучений существенно зависит от длины волны наблюдения, условий освещенности, физического состояния и структурных характеристик атмосферы, времени суток, отражательной способности подстилающей поверхности. [c.181]

В связи с этим возникают трудности в оценке влияния аэро-ОЛЯ на альбедо б системы подстилающая поверхность — атмосфера. С увеличением зенитного угла Солнца альбедо системы подстилающая поверхность — атмосфера в большинстве случаев возрастает. Это возрастание обусловлено увеличением альбедо облаков с ростом зенитного угла Солнца. В [32, 34] представлены зависимости альбедо б от зенитного угла Солнца 0 для различных значений альбедо подстилающей поверхности А и оптической толщины минерального аэрозоля т. Отражательная способность /1 = 0,1 соответствует морской поверхности, Л = 0,4 отвечает растительному покрову, Л = 0,7 — плотным облакам или поверхности, покрытой снегом. Если для морской поверхности аэрозоль увеличивает альбедо системы подстилающая поверхность — атмосфера, то для подстилающей поверхности, покрытой снегом, или в случае покрытия небосвода облаками наблюдается значительное уменьшение альбедо. Если подстилающей поверхностью служит растительный покров, то альбедо с ростом замутненности атмосферы уменьшается при зенитных углах Солнца 0 <60° и возрастает в диапазоне больших зенитных углов Солнца. В [34] рассмотрено также влияние на альбедо промышленного аэрозоля. Для большинства зенитных углов Солнца рост замутненности атмосферы промышленным аэрозолем способствует уменьшению альбедо подстилающая поверхность—атмосфера. [c.209]

Системы, описанные в [62], кро.ме светочувствительного слоя (С(15) имеют светопоглощающий слой (СёТе) и диэлектрическое зеркало. Светопоглощающий слой осуществляет оптическую развязку записывающего и считывающего излучений, а диэлектрическое зеркало обеспечивает достаточную отражательную способность. Принцип действия устройства в целом по сравнению с описанным в -[58] не изменился, за исключением того факта, что при перераспределении напряжений необходимо учитывать дополнительный эле-.мент — светопоглощающий слой диэлектрика и подавать на устройство переменное напряжение. Такие устройства могут эффективно использоваться для проекции с использованием достаточно мощных источников считывающего излучения, при одновременной записи и считывании. Основные параметры подобного устройства приведены в табл. 6.4. [c.203]

Влияние концентрации вводимых пигментов на оптические свойства окрашенного полистирола показано на примере цинковых белил и ультрамарина (рис. 67). Повышение концентрации цинковых белил способствует росту отражения, что связано с увеличением в системе числа частиц, ответственных за отражательную способность. Повышение же концентрации ультрамарина ведет к снижению отражения, и эго объясняется накоплением в системе частиц, которые обладают сильной способностью к поглощению в видимой области. [c.103]

Метод расчета теплообмена излучением, когда поверхность излучающей системы разбивается на конечное число зон с постоянными оптическими (поглощательной и отражательной способностью) и энергетическими (температурой или плотностью потока результирующего излучения) характеристиками, называется зональным. Точность расчета в общем случае будет тем выше, чем больше число зон. В некоторых частных случаях нет необходимости разбивать излучающую систему на большое число зон. Для двух параллельных пластин больших размеров, двух концентрических сфер или двух коаксиальных цилиндров выполняется равенство локальных и средних угловых коэффициентов излучения, поэтому можно считать, что [c.454]

Данные фиг. 17.25, так же как и экспериментально полученные значения рассматриваемые в следую]цем разделе, показывают, что 8 = хотя теоретический верхний предел для зеркала с отражательной способностью 0,92 равен 1,92. Анализ оптической системы приводит к выводу, что пет искажений, которые изменялись бы с длиной волпы и могли бы повлиять на представленные эксперимептальные данные. Наряду с другими были выполнены следуютцие эксперименты [c.443]

Работа всех микроскопов, описанных в литературе [3, 4, П, 12, 20, 27, 30, 49, 58], основана на одинаковом принципе. Получают очень малое изображение источника инфракрасного излучения с помощью оптической системы с высокой численной апертурой, и образец, спектр которого нужно измерить, помещают на место этого изображения. Таким образом, можно получить спектры образцов размером 0,01 X 0,6 мм. В некоторых случаях размеры образца могут быть даже меньше, что зависит от длины волны излучения. Эта проблема обсуждалась Фрэзером [25]. Для таких измерений были спроектированы различные оптические системы, но сейчас наибольшее распространение получил отражательный объектив типа Шварцшильда. Две другие системы конденсирования светового луча описаны в литературе [2, 23]. Одна из них — система отражательного типа, а другая состоит из двух линз из хлористого серебра. Обе эти системы чрезвычайно просты, и поэтому очень полезны. В этих системах достигается уменьшение изображения в 5—10 раз, что вполне достаточно для ряда задач. [c.237]

Оптические системы спектрофотометров в процессе эксплуатации обычно не нуждаются в специальном обслуживании и уходе. Возможная дефокусировка прибора вследствие случайных сотрясений или же ослабления крепления отдельных деталей может быть устранена только специалистом, имеющим навыки по юстировке оптических приборов. Не желательно без особой необходимости снимать крышки, закрывающие оптические системы. Следует иметь в виду, что все отражательные элементы — зеркала, светоделители, рещетки — покрыты снаружи ничем не защищенным мягким слоем алюминия, который при неосторожном обращении легко повредить. Ни в коем случае нельзя протирать тканью детали с алюминиевым покрытием (как это часто делают с линзами), так как это неизбежно выведет их из строя. В случае крайней необходимости их можно промывать дистиллированной водой или этиловым эфиром (но не спиртом ) с помощью очень мягкой кисти или ватных тампонов. [c.136]

В современном оптическом приборостроении помимо стекол используют множество Ириродных и искусственных кристаллов с весьма разнообразными свойствами. Однако их применение часто ограничено вследствие отражения на границе кристалл — воздух. Потери света из-за отражения особенно велики в краевой области поглощения коротковолновой УФ части спектра, когда значение показателя преломления сильно возрастает. Аппаратура метеорологических спутников, космических ракет и кораблей снабжена оптическими системами, которые должны обладать хорошей прозрачностью к различным видам излучения и, в частности, к ИК радиации [64]. В таких системах используют разнообразные полупроводниковые, кристаллические и стеклообразные материалы. Подробная характеристика физических и химических свойств этих материалов достаточно подробно изложена в работах [65—71]. Говоря о роли тонких пленок в инфракрасной технике, необходимо особо подчеркнуть одно из характерных свойств большинства этих материалов они прозрачны для длиннов,олновой радиации и часто отличаются весьма высокими значениями показателей преломления, что, в свою очередь, вызывает высокую отражательную их способность. К таким наиболее часто используемым материалам относятся смешанные кристаллы бромисто-иодистого таллия (КЯ5-5), хлористо-бромистого таллия (КК5-6), хлористый таллий, кремний, германий, арсенид галлия и т. д. Одна пластинка из [c.11]

Далее луч света, отразившись от зеркальной поверхности шлифа, вновь проходит через объектив, отражательную пластинку, линзу 14, попадает на зеркало 18 и, отразившись от него, попадает в окуляр 19. Эта часть системы микроскопа называется главной оптической системой и она для всех металлографических микроскопов принципиально одинакова. При исследовании объекта в темном поле добиваются того, чтобы луч света не попадал на отражательную пластинку 11, которая направляет луч в объектив. Для этого вводится диафрагма 25 (рис. 95, б), закрывающая эту пластинку, а вместо линзы 10 устанавливается линза 21. Тогда луч света попадает на кольцевое зеркало 20, расположенное вокруг отражательной пластинки 11, и, отразившись от нее, попадает на параболическое зеркало 22, расположенное вокруг объектива 12 и составляющее с ним одно целое. Эти объективы называются эпиобъективами. От зеркала 20 луч света попадает на шлиф и отражается только от выступающих частей микроструктуры. Остальное поле при этом остается темным. [c.169]

Рис. 95. Схема хода лучей через осветительную и оптическую системы металломикроскопа а —для работы в светлом поле б — для работы в темном поле I — лампа 2 —коллектор 3—зеркало / —светофильтр 5 — апертурная диафрагма 6 — осветительная линза 7 — фотозатвор 5 —полевая диафрагма 9 — пентапризма /О —линза для работы в светлом поле II — отражательная пластинка 12 — объектив 13 — шлиф 4 — ахроматическая линза 15 — фотоокуляры 16 — зеркало, направляющее лучи на фотопластинку /7 18 — зеркало 19 — окуляр 20 — кольцевое зеркало 21 — линза для работы в темном поле 22 — параболическое зеркало эпиобъектива для работы в темном поле 23 — диафрагма, закрывающая отражательную пластинку

Оптическая система позволяет устанавливать и юстировать непосредственно в камере хорошо ограненные и хорошо отражаюш ие кристаллы и использовать камеру как однокрунсный отражательный гониометр. [c.29]

Определению альбедо системы Земля — атмосфера, характеризующему количество уходящей коротковолновой радиации, посвящены в основном исследования, использующие спутниковые измерения, хотя существуют сообщения о косвенном определении альбедо по фотометрированию пепельного света Луны [22, 25, 425]. Спутниковые измерения альбедо начались в 60-х годах и имеют уже почти 30-летиюю историю. Вопросы технологии обработки спутниковых измерений рассмоърены в монографиях [155, 156, 389]. Средние значения альбедо системы Земля — атмосфера 0,25 — 0,33 в зависимости от сезона, среднее годовое значение 0,29. Данные [564] свидетельствуют о том, что альбедо Северного полушария примерно на 3,5 % выше, чем Южного. Определяющую роль в формировании альбедо- играет глобальная облачность, на долю которой приходится, согласно [532], i 66 % отражательной способности системы. Безоблачная атмосфера обеспечивает примерно 22 % отражения за счет молекулярного и аэрозольного рассеяния, и еще 12 % приходится на долю подстилающей поверхности. Меридиональное распределение альбедо системы Земля — атмосфера характеризуется увеличением значений от 0,22—0,24 в низких широтах до 0,50—0,60 в высоких [155]. Сезонные изменения проявляются в увеличении глобального альбедо в зимние месяцы и уменьшении в летние. Альбедо системы Земля — атмосфера несколько выше над сушей, чем над океанами. Указанные закономерности географического распределения связаны с альбедоформирующими факторами, такими, как зенитные углы Солнца, наличие снежно-ледяных покровов и облачности. Определяющая роль последней приводит к необходимости рассмотрения альбедо отдельных облачных систем. Так, в [155] для облаков St, S приводятся значения 0,75—0,80, а для облаков среднего и верхнего ярусов (Ас, i) 0,56— 0,67. Роль аэрозолей в формировании глобального альбедо определяется количеством и радиусом частиц субмикроиной фракции (0,1—1,0 мкм) [191], которые определяют оптическую толщину. В [268] показано, что аэрозольный ореол вокруг облаков может увеличивать альбедо облачного слоя на 5—10 %. [c.22]

В своей следующей работе Фрейзер [15[ описал применение еще одного объектива несколько иной спецификации, также созданного Норрисом. Относительное отверстие его также равно 0,8, но расстояние между щелью спектрометра и вогнутым зеркалом объектива значительно увеличено. Расстояние между источником излучения и конденсором также, разумеется, увеличено, и нет необходимости в использовании каких-либо дополнительных оптических элементов (в некоторых системах из-за малости этого расстояния они бывают нужны). В интересах уменьшения длины пути лучей в воздухе обходятся и без отбивного зеркала, а источник, конденсор, образец и объектив заключаются в прозрачную пластмассовую камеру, через которую можно пропускать сухой азот. Все устройство отличается при этом достаточной простотой и компактностью. Мы также использовали аналогичное устройство, располагаемое непосредственно перед прибором Грубб-Парсонс с отражательными объективами, сконструированными по типу объективов Р. Дж. Брэйси. Свободное пространство в этом устройстве недостаточно велико, чтобы можно было расположить источник излучения непосредственно сзади конденсора, и для отражения источника использовались два дополнительных зеркала. [c.277]

Установки мультиплицирования снабжаются высокоточными камерами для уменьшения и координатными столами для размещения фотографической пласп1ны относительно изображения. Первая модель такой установки была построена Хелмером и Неллем [41] в 1959 г. для специальных целей — изготовления микроминиатюрных масок. Вскоре после этого был разработан ряд промышленных моделей [27]. Обычно на таких установках достигалось уменьшение 10 1 или 4 1 и. при этом использовались объективы с фокусным расстоянием от 28 до 75 мм [40, 42, 43]. Рабочее поле изображения составляло около 10 мм и менее, достигалось разрешение от 200 до 400 лин/мм. Диапозитивы с уменьшением 10 1 (или 4 1) изготавливаются с нижней подсветкой от точечного источника света с системой отражательных конденсорных линз. Устройство обеспечивает более однородное освещение и позволяет применять более короткие выдержки, чем при применении рассеянного света, но требует более точного совмещения по оптической оси. Фотопластина, закрепленная иа координатном столе, перемещается в поперечном направлении с высокой точностью на направляющих, которые приводятся в движение с помощью направляющих винтов и двигателей. Направляющие винты определяют точность контролируемого перемещения на некоторых установках больших размеров перемещение координатного стола составляет до 762 мм, с точностью повторной отметки от 5 до 25 мкм [25]. При меньших перемещениях стола, например 60,8 мм, точность отсчета составляет 0,13 мкм [43]. Эти сведения, однако, вызывают большие сомнения. Последовательность операций контролируется перфорированной лентой. Величина перемещений во взаимноперпен- [c.580]

Техника измерений интерференционным методом в УФ-области с применением фотографирования разработана Лоури и Олсоном [43], а соответствующая аппаратура выпускалась фирмой Хильгер. Оптическая схема установки Лоури и Олсопа показана на рис. XI, 28. Кювета с двумя кварцевыми нолуплатинированными окнами 1, 2 и стеклянным кольцом 3, между которыми помещается тонкий слой исследуемой жидкости, находится в термостатируемой рубашке (не изображенной на рисунке), между кварцевыми отражательными призмами 4. Ахроматической системой кварцевых и флюоритовых линз прошедший через кювету свет вольфрамовостальной дуги фокусируется на входной щели спектрографа с большой дисперсией. [c.241]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология