Сшивание квантовый выход

Количественная зависимость между числом сшитых полимерных молекул и числом поглощенных фотонов в единицу времени характеризуется квантовым выходом сшивания (Фсл) [c.240]

Так как рассчитанное значение Eg при условии квантового выхода сшивания, равного примерно 2 и чисто радикального пути структурирования составляет только 10 Дж/см [22], можно считать, что если радикальный процесс в поливинилциннаматах и имеет место, то его эффективность очень невелика. [c.163]

Количественно характеристикой чувствительности полимера к действию света является квантовый выход фото-превращения (разрыва цепи, сшивания, появления новых функциональных групп и др.), т. е. отношение числа прореагировавших (или образовавшихся) частиц к числу поглощенных полимером квантов света. Чем меньше это значение, тем выше устойчивость полимера к действию света. [c.371]

За меру С. принимают величину, обратную скорости светового старения, к-рое характеризуют обычно квантовым выходом фотопревращения (деструкции, сшивания, окисления, разрушения или превращения боковых групп и др.). На практике за меру С., как правило, принимают время облучения (или дозу облучения), за к-рое происходят определенные изменения свойств мате- [c.195]

Данные по определению квантового выхода образования одной поперечной связи при % = 253,7 нм в процессе сшивания полиэтилена в присутствии монохлористой серы свидетельствуют, очевидно, о цепном характере процесса сшивания. [c.136]

Фотохимическая Д. (фотолиз) вызывается светом, поглощаемым хромофорными группами полимера, продуктами термич. или термоокислит. его превращения и (или) примесями. При фотолизе, помимо разрыва хим. связей, происходят сшивание, образование двойных связей и своб. радикалов. Процесс характеризуют квантовым выходом разрывов цепи (числом разрывов на поглощенный квант света), к-рый для разных полимеров лежит в пределах [c.24]

С. оценивают по квантовым выходам тех или иных фотопревращений (деструкция, сшивание, окисление, разрушение или преаращение боковых групп). На практике за меру С. принимают дозу, тш энергию, облучения (приходящуюся на единицу пов-сти образца), к-рая вызывает определенные изменения св-в материала или потерю им эксплуатац. качеств в заданной степени. Иногда С. характеризуют временем действия облучения, необходимым для накопления нек-рого кол-ва продуктов фотодеструкции, для поглощения заданного кол-ва кислорода или для к.-л. другого фотопревращеш1я. Как правило, оценку С. проводят при ускоренном светостарении в УФ камерах или аппаратах искусств, погоды по стандартным методикам (имеются ГОСТы). [c.299]

Представления о причинах уменьшения количества виниловых и винилиденовых групп и образовании тракс-виниленОвых звеньев и взаимосвязи их с образованием поперечных связей в полиэтилене при облучении далеко не ясны. При сшивании за счет отрыва атомов водорода от двух соседних цепей и последующего взаимодействия макрорадикалов корреляция между эффективностью сшивания и изменением ненасыщенности полимера не обязательна [17]. Практически наблюдается постоянство значений квантового выхода Спс в широком интервале доз облучения как для полиэтилена, так и для других алифатических углеводородов и отсутствие взаимосвязи между степенью ненасыщенности и степенью сшивания. Концевые непредельные группы несколько увеличивают интенсивность [c.171]

Введение в натуральный каучук различных галогенсодержащих соединений снособствует увеличению эффективности радиационного сшивания в результате увеличения выхода свободных радикалов [153—156]. Присутствие в латексах натурального каучука воды также приводит к более интенсивному сшиванию при облучении [154—159]. Введение перед облучением в натуральный каучук обычных вулканизующих агентов, в том числе и серы, пе влияет [160] на эффективность процесса радиационного сшивания. Сера при облучении при 25° присоединяется к каучуку и несколько уменьшает эффективность радиационного сшивания [161]. Некоторые наполнители способствуют радиационному сшиванию, возможно, вследствие химического присоединения макромолекул каучука к поверхности частиц наполнителя. При радиационной привитой сополимеризации стирола и натурального каучука квантовый выход свободных радикалов, образующихся в молекулах каучука и инициирующих процесс, ( ир равен 0,26 [162]. Активность образующихся радикалов при инициировании привитой полимеризации ниже, чем в процессе образования поперечных связей возможно также, что в присутствии стирола свободные радикалы образуются в меньших количествах. [c.179]

В исследованных процессах сшивания сополимерам бутадиена со стиролом было уделено большее внимание, чем гомополимерам бутадиена [171, 175—178]. Введение в состав полимера звеньев стирола снижает эффективность процессов сшивания при облучении сополимера бутадиена, содержащего 23% стирола, у-лучами составляет 17—18,5 эв [179]. Это увеличение i n i обусловленное наличием в цепи стирола, несколько выше рассчитанного на основании молярной аддитивности (квантовый выход поиерб чных связей Сдс образующихся при звеньях стирола, составляет 0,045—0,060, при звеньях бутадиена — 3,6—4,0) [172]. Это явление было объяснено поглощением энергии звеньями стирола. Низкое значение /a, равное примерно 0,07, было найдено для сополимеров бутадиена с метилметакрилатом, по звеньям которого происходит разрыв макромолекулы [172]. Неожиданно низкое значение Е ., равное примерно 3 эв, было установлено при облучении БСК а-лучами [180]. Введение в состав сополимера бутадиена и стирола звеньев метакриловой кислоты привело к повышенному образованию при облучении поперечных связей [180-182]. [c.182]

Полидиметилсилоксан —[—Si( Hg)2 — О — ] — сшивается под действием ионизирующей радиации [32, 132, 135, 216—219]. Процесс образования поперечных связей весьма эффективен. В различных исследованиях процесса сшивания полимеров и олигомеров диметилсилоксана были получены следующие значения 13—17 эв [220] 11 или 21 эв [221] 18-21 эв [219] 20-23 эв [222] 20 эв [223] и 17 эв [224, 225]. С учетом различия методов оценки числа поперечных связей, характера и условий облучения сходимость этих результатов следует признать очень хорошей. Наиболее достоверной величиной пс считают 17—20 эв, что соответствует квантовому выходу G = 2,5—3,0. Малая роль процессов деструкции (р/а<0,1) была установлена путем изучения зависимости снижения растворимости от дозы облучения [220 ] по данным об изменении вязкости растворов до образования гель-фракции [226] и при измерении количества выделяющегося водорода при облучении полимера в присутствии меркаптана [227]. Несколько более высокое значение /a, равное 0,27, было получено при облучении низкомолекулярных олигомеров в растворе [225]. [c.185]

Фенильные группы, входящие в состав полисилоксанов, заметно снижают эффективность радиационного сшивания [219, 229, 231, 239, 242—245]. Для силиконовых полимеров, облученных на воздухе, характерны следующие значения квантового выхода поперечных связей 1,60 (полидиметилсилоксан) 1,12 (полидиметилдифенилсилоксан, состава 95 5%) 0,06 (полидиметилдифенилсилоксан, состава 75 25%) [229]. Ингибирующий эффект фенильной группы распространяется на 5—6 соседних диметилсилоксановых звеньев. Изучение низкомолекулярных силоксанов известной структуры, содержащих метильные и фенильные группы, позволило установить количественную зависимость между квантовым выходом газов, не сжижающихся при температуре 77° К (НСГ), и долей электронной плотности, приходящейся на метильные группы соединений [239 ]. [c.187]

Незначительная подвижность образующихся ири Ф. макрорадикалов обусловливает их высокую стационарную концентрацию даже при относительно небольших дозах облучения (накопление макрорадикалов во времени легко контролируется методом ЭПР). В нек-рых случаях разрыв цепи сопровождается деполимеризацией макрорадикалов с образованием мономера. Вероятность этого процесса возрастает с темп-рой. При темп-рах, близких к предельной темп-ре полимеризации, кажущийся (эффективный) квантовый выход образования мономера может достигать нескольких тысяч. Это обусловлено тем, что отщепление молекулы мономера от активного центра — темновая цепная реакция. Во многих случаях одновременно с Ф. возможны и др. процессы сшивание, различные превращения в боковых группах (вплоть до их полного отщепления), образование системы сопряженных двойных связей в основной цепи, г ис-тракс-изомеризация и др. Во вторичных (темиовых) реакциях могут участвовать функциональные группы тех же или др. Л1акромолекул, а также примесей. Эти реакции сопровождаются передачей энергии возбуждения или свободной валентности на макромолекулы, фотонревращениями радикалов и т. д. [c.380]

Радиационная стойкость. По сравнению с другими полимерами полиариленсульфоноксиды отличает высокая стойкость к действию ионизируюших излучений. При облучении быстрыми электронами молекулярная масса возрастает вплоть до дозы 80 Мрад, отвечающей точке гелеобразования [587]. Деструкция и структурирование протекают параллельно. После дозы 80 Мрад молекулярная масса зольфракции постоянно уменьшается (рис. 5.42). При дозе выше 200 Мрад содержание гель-фракции (70%) остается постоянным. При дозе 400 Мрад полисульфон окрашивается в коричневый цвет [588]. Квантовые выходы деструкции и сшивания поли- [ ] сульфона на основе дифенилолпропана и дихлордифе- [c.261]

У многих тРНК из Е. oli восьмым (с 5 -конца) нуклеотидом в ССА-стебле является 4-тиоуридин. Облучение таких тРНК мягким ультрафиолетовым светом приводит к образованию в них фотодимера в результате сшивания этого 4-тиоуридина с цитидином-13, причем квантовый выход этого процесса достаточно высок (рис. 24.18, А). У молекул с [c.426]