Система межэлектродного зазора

В ЯЭУ ТОПАЗ применена система подачи пара цезия, обеспечивающая прокачку пара через межэлектродный зазор (МЭЗ) ЭГК с расходом порядка 10 г/сутки. Прошедший МЭЗ цезий поглощается ловушкой на основе пиролитического графита и в дальнейшем не используется. Неконденсирующиеся примеси при этом удаляются в космическое пространство. [c.298]

Аналогичная система электролиза использована для электровосстановления акрилонитрила до адиподинитрила [35]. Для эффективного эмульгирования органических веществ в водном растворе электролита скорость движения жидкости в межэлектродном зазоре должна составлять 0,2—0,5 м/с в зависимости от разности удельных весов органического вещества и водного раствора электролита. [c.76]

СИСТЕМЫ РЕГУЛИРОВАНИЯ МЕЖЭЛЕКТРОДНОГО ЗАЗОРА [c.107]

В зависимости от формы колебаний системы дискретного регулирования межэлектродного зазора могут быть разделены на системы с симметричными и асимметричными колебаниями электрода. В свою очередь каждая из этих систем в зависимости от характера взаимодействия объекта регулирования и регулятора может быть разомкнутой или замкнутой. [c.114]

Более широкие технологические возможности и большую точность регулирования МЭЗ обеспечивают системы дискретного регулирования с асимметричными колебаниями электрода. Эти системы можно разделить на разомкнутые и замкнутые в зависимости от характера взаимодействия регулятора и электрохимической ячейки. Наибольшее применение получили разомкнутые системы дискретного регулирования МЭЗ [8]. В зависимости от сложности обрабатываемых деталей, требуемой точности и других технологических условий обработки рабочее время в каждом единичном цикле может составлять от нескольких десятых долей секунды до десятков и даже сотен секунд (рис. 71). Обычно обработка ведется на зазорах 0,15—0,4 мм. Такими системами регулирования межэлектродного зазора оснащены станки моделей ЭХО-1, ЭХО-2, ЭХА-300. [c.115]

Для обеспечения высокой точности и производительности обработки системы управления современных станков для размерной ЭХО имеют обычно в своем составе несколько систем регулирования межэлектродного зазора для предварительной и окончательной обработки. [c.117]

При питании ячейки от источников с падающей вольт-амперной характеристикой настройку регулятора разомкнутой системы необходимо производить таким образом, чтобы на начальной стадии обработка происходила при заведомо больших величинах межэлектродных зазоров. Необходимость увеличения зазора на начальном этапе обработки приводит к снижению производительности и точности, к увеличению непроизводительных затрат электрической энергии на нагревание электролита. Для уменьшения влияния изменения площади обработки на величину МЭЗ необходимо увеличивать жесткость вольтамперной характеристики источника питания. [c.133]

Уменьшение влияния изменения электропроводности межэлектродного промежутка может быть достигнуто введением коррекции управляющего сигнала [13]. Трудность измерения удельной электропроводности непосредственно в рабочем межэлектродном зазоре приводит к необходимости установки дополнительной (измерительной) электрохимической ячейки. Информация о действительной величине электропроводности в МЭЗ искажается из-за запаздывания, а введение дополнительной электрохимической ячейки снижает надежность всей системы. [c.133]

Если расстояние между электродами уменьшается, пробой происходит прн более низком напряжении 7,,,, и число циклов в пакете возрастает. Следовательно, при заданном режиме работы искрового ионного источника и постоянной конфигурации электродов из выбранного материала осциллограмма радиочастотного напряжения однозначно связана с величиной межэлектродного зазора [25]. Это обстоятельство использовано для контроля расстояния между электродами во время анализа. С помощью специально сконструированной следящей системы процесс поддержания искрового зазора был автоматизирован [26]. [c.36]

Установка приводится в действие нажатием кнопки Пуск , после чего двухскоростной сервомеханизм подает катод-инструмент к обрабатываемой детали со скоростью 13 мм сек и начнется рабочий процесс. С началом рабочего процесса включается следящая система, автоматически поддерживающая межэлектродный зазор постоянным в течение всего периода обработки. После окончания обработки срабатывает концевой микровыключатель рабочие головки отводятся в исходное положение также со скоростью 13 мм сек. [c.69]

В генераторе предусмотрены система автоматического регулирования межэлектродного зазора и система натяжения и перемотки проволоки, если генератор используется для обработки проволочным электродом. [c.170]

Система регулирования межэлектродного зазора, как система автоматической подачи инструмента, использует для своей работы импульсы напряжения и силы тока, снимаемые с искрового промежутка, и шины выходного кабеля. [c.170]

На производительность процесса и качество получаемой поверхности влияют состав электролита, плотность тока, скорость перемещения инструмента-электрода, система подачи электролита, величина межэлектродного зазора и другие условия. [c.139]

Подача электролита. Система подачи электролита в межэлектродный зазор должна осуществляться так, чтобы вся обрабатываемая поверхность полностью заливалась электролитом без возникновения мертвых зон и завихрений. [c.145]

В МВТУ им. Баумана создана лабораторная установка для электрохимической обработки глухих полостей малого сечения (до 3 см ). Автоматический выбор линейной скорости электрода и поддержание межэлектродного зазора 0,01 см достигается стабилизацией давления электролита в зазоре с помощью системы дифференциальной подачи электрода, срабатывающей от сильфонного датчика давления. Поэтому система включает в себя датчик давления, следящий золотник, гидродвигатель и механический привод, предназначенный для сообщения электроду поступательного движения. Система позволяет осуществлять реверсирование инструмента. Существенным преимуществом описанной системы является возможность настройки регулятора на заданную величину зазора без включения технологического тока. Этот принцип регулирования может быть использован лишь в тех случаях, когда гидравлическое сопротивление в зоне обработки не изменяется во времени, т. е. при обработке неглубоких полостей простой формы с постоянной площадью обрабатываемой поверхности. [c.100]

Выбор напряжения источника питания в качестве задающего сигнала обусловливается следующими соображениями. Поддерживая постоянной плотность тока, можно обеспечить постоянный зазор только при стабилизированных значениях напряжения и электропроводности электролита. Если считать величину электропроводности постоянной, то при падении напряжения (например, при коротком замыкании) система регулирования будет стремиться к уменьшению межэлектродного зазора, а это 108 [c.108]

Электрохимический агрегат ЭХА-300 является полуавтоматической установкой, предназначенной для двусторонней обработки профиля пера лопатки. На этой установке дискретная подача катода осуществляется гидравлическим следящим механизмом с шаговым двигателем ШД-4. Межэлектродный зазор поддерживается постоянным с точностью 0,02 мм. Коммутация тока осуществляется игнитронным прерывателем бесконтактно. Система управления выполнена на полупроводниковых элементах. При применении специальных приспособлений станок может быть использован для обработки отверстий, полостей и наружных поверхностей деталей сложного профиля. [c.182]

Простейшим примером разомкнутой системы дискретного регулирования МЭЗ с симметричными колебаниями электрода может служить система, разработанная Б. И. Морозовым [125]. Характерной особенностью системы является синхронизация включения источника технологического напряжения с определенными фазами движения катода-инструмента относительно обрабатываемой детали. Напряжение на электроды подается в моменты наибольшего их сближения. Центр колебаний электрода-инструмента с постоянной скоростью смещается в сторону обрабатываемой детали. По характеру регулирования зазора система близка к системе непрерывного регулирования МЭЗ со стабилизированной скоростью подачи. При использовании дискретной системы регулирование МЭЗ также основывается на свойстве саморегулирования электрохимической ячейки. Отличие состоит лишь в дискретном характере саморегулирования и в более интенсивном удалении из межэлектродного промежутка продуктов анодного растворения вследствие колебаний инструмента относительно обрабатываемой детали (или, наоборот, детали относительно инструмента). Системе свойственны недостатки ее непрерывного аналога. [c.114]

Процессом электрохимической обработки можно управлять путем изменения технологических параметров, относящихся к процессу в целом (1/, или определяющих граничные условия в входных областях зазора io, и о, рНц, Гр, Со). При этом изменение любого из указанных технологических параметров изменяет геометрические свойства всего межэлектродного пространства. Кроме того, решение системы дифференциальных уравнений, описывающих распределение неравномерных величин, неоднородно относительно технологических параметров, иными словами, изменение одного из этих параметров нельзя абсолютно точно компенсировать другим параметром так, чтобы уравнение стационарной поверхности анода осталось неизменным [9, 12]. [c.89]

Для электрохимической обработки при малых МЭЗ (менее 0,1 мм) применяются разомкнутые системы дискретного регулирования с асимметричными колебаниями инструмента с периодичв ской промывкой межэлектродного промежутка при разведении электродов. Питание электрохимической ячейки осуществляется импульсным технологическим напряжением. Система, разработанная в Тульском политехническом институте [57], позволяет вести обработку при зазорах 0,05 мм и менее при неподвижных, сближающихся и разводящих электродах (рис. 72). Особенностями работы системы являются разведение электродов на заданную величину промывочного зазора 5 р в каждом единичном цикле и питание электрохимической ячейки импульсным током. Катод ускоренно перемещается до касания с анодом — обрабатываемой заготовкой. Во время движения на электроды подается контрольное напряжение 0 от маломощного источника. В момент касания электродов вследствие замыкания электрической цепи контрольное напряжение источника резко уменьщается, что используется аппаратурой управления для выработки сигнала на реверс привода подачи. В течение времени отв следует ускоренный отвод катода-инструмента на заданный межэлектродный зазор Хд. За время рабочего периода р катод может оставаться неподвижным, подаваться к обрабатываемой заготовке или удаляться от нее (см. рис. 72). В это время на электроды подается импульсное напряжение от силового источника питания. По окончании обработки в единичном цикле катод ускоренно отводится на заданную величину межэлектродного зазора Япр для обеспечения интенсивной промывки межэлектродного пространства. После отвода катода следует ускоренная подача его к обрабатываемой заготовке, и цикл работы повторяется. [c.116]

Разомкнутые системы. В разомкнутых системах регулирования МЭЗ при питании электрохимической ячейки от источника с нежесткой вольт-амперной характеристикой из-за увеличения рабочей площади обработки происходит уменьшение межэлектродного зазора. Найдем зависимость величины конечного зазора 5 от начального и технологических параметров ячейки. Подача катода-инструмента выбирается из условия получения заданной величины 5о [c.132]

Для повышения точности размерной электрохимической обработки применяются системы регулирования МЭЗ с вибрацией катода-инструмента или обрабатываемой детали. Осциллирующее движение инструмента или обрабатываемой детали при непрерывной обработке, повышая точность, не увеличивает производительности. При этом усложняется конструкция исполнительного привода, и такие системы не получили широкого применения. Замкнутые системы регулирования зазора по интенсивности микроискрений в межэлектродном промежутке не вышли еще за рамки лабораторных исследований в силу недостаточной изученности влияния изменения технологических параметров ячейки на интенсивность микроискрений. [c.134]

Дискретные системы регулирования МЭЗ. Особенностью их работы является периодический контроль фактической величины межэлектродного зазора путем ощупывания катодом-инструмен-том поверхности обрабатываемой детали при разомкнутой силовой электрической цепи питания электрохимической ячейки. Благодаря периодической корректировке зазора точность его регулирования в меньшей мере зависит от изменения технологических параметров ячейки, чем при непрерывном регулировании. Применение дискретных систем на предварительной стадии обработки связано с повышением производительности процесса при обеспечении высокой точности регулирования МЭЗ. Производительность обработки может характеризоваться средней скоростью в цикле [c.136]

Системы подачи и очистки электролита. При размерной ЭХО электролит обычно циркулирует в замкнутой системе, наиболее сложным звеном которой является межэлектродный зазор. Устройства для циркуляции и очистки электролита должны обеспечивать требуемые физико-химические свойства электролита, а также поддерживать важнейшие параметры процесса обработки в определенных пределах, а именно химический состав и концентрацию электролита, его расход, давление, температуру, загазованность и зашламленность и некоторые другие факторы. [c.170]

Система автоматической стабилизации межэлектродного зазора по плотности тока представляет собой замкнутую систему автоматического регулирования, работающую по принципу стабилизации выходного параметра и использующую в качестве управляющей информации отклонения стабилизируемого параметра от заданного. Обобщенный выходной параметр электрохимической ячейки —плотность тока косвенно характеризует (при стабилизации других параметров электрохимической ячейки) величину межэлектродного зазора. Для компенсации ошибки при поддержании заданного значения межэлектродного зазора, возникающей в системе при увеличении токовой нагрузки на источник питания в результате нежесткости его вольт-амперной характеристики, в систему введено специальное устройство коррекции управляющего сигнала в зависимости от напряжения на электродах. В качестве исполнительного привода регулирования МЭЗ использован гидравлический следящий привод, приводимый в движение от шагового двигателя. Преобразование непрерывного сигнала в импульсный, необходимое для управления шаговвщ [c.208]

В отличие от электрохимических копировальпо-прощивочных станков (ЭХА-300, МА-4423) станок ЭХКП-1 обеспечивает обработку на малых межэлектродных зазорах (0,05 мм и менее), что значительно повышает точность обработки и сводит к минимальному объему работы по корректировке размеров катода-инструмента и доводке обработанных поверхностей. Станок производит обработку в две стадии 1) предварительно при межэлектродных зазорах не менее 0,1 мм с использованием системы дискретного либо непрерывного регулирования. МЭЗ 2) окончательно при зазорах не более 0,05 мм с использованием дискретной системы регулирования и при питании электрохимической ячейки импульсным током. [c.211]

Система стабилизации межэлектродного зазора станка с шаговым двига телем для электрохимической размерной обработки. — Технология машине строения (Тульск. политехи, ин-т), 1971, вып. 13, с. 103—111. Авт. Л. Б. Дмит" риев, В. Г. Шляков, Г. Н. Панов, Н. Н. Харитонов. [c.292]

Другая система с электрическим переключением пиков, описанная Бингхемом и Эллиотом (1971), схематически изображена на рис. 5.11. Ток коллектора для каждой выбранной линии интегрируется до тех пор, пока монитором не будет накоплено заданное количество электричества. Затем пучок ионов автоматически отключается, записывается значение заряда, накопленного коллектором, и на входную щель направляется следующий пик. Точность измерений составляла 2% или выше, а правильность 8%. Точность, полученная для четырех примесей в нескольких стандартных образцах стали, показана в табл. 5.8 (Бингхем, Эллиот, 1971). Особый интерес представляет приведенное в этой работе рассмотрение вклада различных факторов в абсолютную ошибку, которое будет обсуждаться ниже. Измерения выполнялись с автоматическим регулированием межэлектродного зазора. [c.167]

Для выбранных условии эксперимента 081=0,78 л(юи 2,7 = = 0,29 мкм. Иными словами, масс-спектрометрическим методом вакуумной искры с использованием алюминиевой демпферной пленки могут быть уверенно проанализированы слон кремния толщиной меньше 1 мкм. Точность снятия тонких слоев пробы может быть дополнительно повышена при использовании авто-матической системы для поддержания постоянной величины межэлектродного зазора. [c.174]

Положение потенциометра определяет ток в якоре и соответственно обороты шпинделя. Тумблер Яб подключает электродвигатель Дг либо к системе автоматической регулировки межэлектродного зазора, либо к системе ручной регулировки подачи шпинделя. Система ручной регулировки состоит из трехпозиционного нажимного переключателя Я5, реверсирующего движение головки, и концевого переключателя П , реверсирующего обратное движение шпинделя, если шпиндель перейдет границу, допускаемую ходовыми механизмами. Тумблерами Пх и П2 включаются соответственно лампа освещения стола и подсветка оптической системы совмещения центров. Пульт управления находится на передней панели основания станка. [c.233]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология