Ректификационная очистка хлоридов

В работе [43] изучены основы ректификационной очистки хлороформа и четыреххлористого углерода. В связи с трудностями аналитического определения малых концентраций примесных веш еств, контроль за компонентом, содержащимся в малой концентрации, осуществляли методом меченых атомов. В связи с этим были разработаны методы получения целого ряда хлорпроизводных углеводородов, меченых радиоактивным хлором. Введение радиоактивного хлора в молекулу для большинства веществ осуществлялось путем изотопного обмена органического с неорганическим хлоридом. [c.166]

Следует отметить еще одну особенность аппаратурного оформления процесса ректификационной очистки трихлорсилана и тетрахлорсилана. Наиболее дешевым и простым способом отбора теплоты в конденсаторе колонны обычно является водяное охлаждение. В то же время из-за низких температур кипения хлоридов кремния при нормальном давлении отвод теплоты в конденсаторе колонны очень затруднен. Учитывая, что температура охлаждающей воды может колебаться от 10 до 20 °С, необходимо иметь большую поверхность конденсатора. Применение же холодильных агрегатов (фреоновые, аммиачные) значительно удорожает очистку трихлорсилана. Выход из этого положения можно найти в ректификации хлоридов кремния под повышенным давлением. Так, уже только при давлении 3 атм температура кипения тетрахлорсилана составляет 100 °С, а трихлорсилана 74 °С. Под таким давлением необходимую поверхность конденсатора при ректификации тетрахлорсилана можно уменьшить в 2,5— [c.80]

Ректификационная очистка хлоридов кремния является высокоэффективным процессом при соответствующих размерах колонн содержание основных нримесей в них может быть понижено на 2—4 порядка. Необходимо, однако, отметить, что не все нримеси, содержащиеся в хлоридах кремния, идентифицированы химическаи природа многих из них не выяснена до сих пор. По мере увеличения чистоты хлоридов кремния все в большей стенеии будет сказываться загрязнение продуктами коррозии. Даже такие материалы, как кварц, способны загрязнять очищаемые продукты [64]. [c.179]

Ректификационная очистка хлоридов кремния от примесей малолетучих хлоридов металлов при соответствующем аппаратурном оформлении, по-видимому, не представляет затруднений, так в работе [44] ректификацией во фторопластовой колонне получен три-хлорсилан с содержанием примесей (А1, В, Ге, Оа, Мд, Мп, Си, Аз, №, Зп, РЬ, Ag, 8Ь, Т1, Р, Сг) на уровне 10" -10-8%. [c.178]

Имеющиеся данные позволяют считать [326], что основная (чистовая) ректификация тетрахлорсилана и трихлорсилана должна выполняться на колоннах с п = 30—40 и / = 60—80 и более. Необходимо учитывать специфические особенности ректификационной очистки хлоридов кремния, которые могут повлиять на окончательный выбор конструкции колонны. Например, на стадии предварительной ректификации есть опасность загрязнения нижних тарелок продуктами гидролиза хлоридов кремния. [c.79]

Из приведенных в таблице 1 данных видно, что увеличение коэффициента разделения при введении добавок хлоридов элементов 1У-ой группы (особенно олова и титана) наблюдается только в системе, содержащей трихлорсилан. Применение хлоридов для улучшения ректификационной очистки метилтрихлорсилана эффекта не дает- Если сравнить эти результаты с характером и величиной отклонения систем, образованных очищаемым веществом и добавкой, от закона Рауля, то можно высказать предварительные рекомендации по методике выбора эффективных разделяющих добавок. Найдено, что четыреххлористый титан и четыреххлористое олово (добавки) образуют с трихлорсиланом системы с положительным отклонением от закона Рауля [3] и способствуют более глубокой его очистке. Предварительные исследования, проведенные в системе метилтрихлорсилан — четырех-хлорнстый титан, показали, что система близка к идеальному состоянию, а эффекта улучшения очистки не наблюдается. [c.221]

Основными промышленными методами глубокой очистки хлоридов и гидридов являются ректификационные, кристаллизационные, сорбционные и химические. Поэтому, чтобы получить сведения о химических формах примесей в этих процессах, необходимо для идентификации использовать вышеперечисленные методы в сочетании со специфичными методами радиохимии. [c.59]

Следующий шаг в аппаратурной технологической разработке процесса ректификации тетрахлоридов циркония и гафния был сделан в работе [32]. На установке периодического действия, состои-щей из испарителя исходного хлорида, паро-газовой соединительной трубки, куба, ректификационной колонны, конденсатора-дефлегматора и сборника фракций было проведено два опыта по очистке тетрахлорида цирконии от примесей гафния, железа и алюминия и других примесей. Колонна была снабжена двумя парами смотровых окон специальной конструкции для визуального наблюдения за процессом. [c.162]

Чтобы улучшить работу ректификационной колонны и повысить степень очистки четыреххлористого титана от примесей, дистилляцию проводят в две стадии. На первой стадии из тетрахлорида титана в основном удаляются растворенные и взвешенные примеси, хлориды и оксихлориды железа, алюминия, титана и других металлов. Вторая стадия применяется для глубокой очистки ректификата от гексахлорбензола, оксихлорида титана и других примесей. [c.149]

С помощью уравнения (10) для массоотдачи в жидкой фазе и уравнения для массоотдачи в газовой фазе, опубликованного ранее [81,-рассчитана эффективность ректификационных колонн с провальными щелевыми тарелками применительно к задаче глубокой очистки некоторых фторидов и хлоридов элементов IV —VI групп периодической системы Д. И. Менделеева. Результаты подобного-расчета сведены в таблицу. [c.90]

В то же время простота аппаратуры и быстрота определений летучих соединений различных металлов методом газовой хроматографии могут оказать значительную помощь в производстве редких элементов. Так, например, метод газовой хроматографии мон ет использоваться в качестве контроля при ректификационном разделении хлоридов некоторых металлов. В то же время можно ожидать, что использование принципов газовой хроматографии сможет привести к препаративному (а для ряда элементов, возможно, и к промышленному) получению весьма чистых соединений, в частности галидов, сумма примесей в которых не будет превышать 10 —10 % после одного цикла очистки. По-видимому, применяя методы обогащения и рециклы (повторение циклов очистки), указанное количество примесей можно будет снизить на несколько порядков. Как пзвестно, получение соединений такой высокой степени чистоты само по себе представляет известный интерес. [c.238]

В работах [88, 89] исследовалась ректификационная очистка че-тьтреххлористого титана на лабораторной насадочной ректификационной колоние диаметром 16 мм, заполненной стеклянной насадкой типа колец Фенске. Результаты анализа очищенного продукта по некоторым примесям приведены в табл. У-20. Эти экспериментальные данные позволяют заключить об эффективности очистки четыреххлористого титана ректификацией. Наиболее трудноудаляемой примесью является хлорокись ванадия. Сравнительно большое содержание хлоридов железа и алюминия в очищенном продукте авторы объясняют вымыванием этих веществ из материала колонны. [c.184]

В работе [95] описана ректификационная очистка технического треххлористого мышьяка, полученного хлорированием металла на стеклянной колонне эффективностью И теоретических ступеней. При работе с невысокими флегмовыми числами и выходом более 90% бый получен хлорид мышьяка с содержанием большинства анализируемых примесей от 10" до 10 % ири содержании в исходном продукте некоторых из них на уровне 10 —10 %. При вторичной ректификации очищенного продукта был получен АзС1з с содержанием каждой анализируемой примеси (8, 8е, Те, Ее, РЬ, [c.189]

Опыты по ректификационной очистке треххлористого мышьяка, проведенные в кварцевой насадочной колонне диаметром 20 мм и длиной насадочной части 2000 мм, с насадкой из кварцевых спиралек Фепске диаметром 5 X 0,8 мм позволили определить предельную пропускную способность по АвС — 5100 м= /(м -ч) и ВЕП — 7,2 см [97). В процессе ректификации происходит эффективная очистка АзС1з от нримесей труднолетучих хлоридов металлов, легколетучих форм серы (ЗО , ЗОоС , ЗОС ), кремния (81014), влаги, газообразного хлора и в меньшей степени от серы в форме 82С12 и некоторых органических веществ. Содержание М , Мп, РЬ, Сг, 8п, Ге, N1, А1, Си и после очистки уменьшилось в 10—1000 раз и находилось на уровне 10 —10 %. Содержание кремния (4- Ю %), серы (10 %) и органических веществ (1,4-10 %) еще достаточно велико, что лимитирует качество треххлористого мышьяка. [c.190]

Физико-химические свойства треххлористой сурьмы позволяют проводить ее ректификационную очистку при нормальном давлении. Технологическая схема производства треххлористой сурьмы включает стадию ее получения и ректификационную очистку [113].. В технической треххлористой сурьме обнаружено присутствие примесей хлоридов различных элементов, в том числе А1, Ге, Аз, Си, РЬ, Те, Сс1, Со, В1, N1, Аз, Зп, 8Ь, 8, 8е и др. [c.193]

Наиболее эффективна очистка хлорида алюминия ректификацией. Поскольку тройная точка хлорида алюминия соответствует температуре 192,6 °С и давлению 0,228 МПа, ректификацию проводят под давлением и при повышенной температуре. Этот способ [121] подробно изучен советскими исследователями [122—124]. Авторы разгоняли смесь А1С1з (90%) и Fe ls (10%) в стеклянной ректификационной колонне высотой 70 см, заполненной стеклянными кольцами Фенске. В колонне с эффективностью семь теоретических тарелок удавалось отогнать около 99% загруженного хлорида алюминия. Дистиллят содержал менее 0,01% Fe U. [c.175]

В этом отношении провальные ситчатые тарелки предпочтительнее, чем ректификаторы других типов. Если есть опасность загрязнения ректифицируемых хлоридов кремния продуктами коррозии материала аппаратуры, следует отдать предпочтение ректификаторам с минимальной удельной поверхностью. Из ректификационных колонн для очистки хлоридов кремния больше всего подходят тарельчато-ситчатые. Из ректификаторов других типов заслуживают внимание колонны с плоскопараллельной насадкой, центробежные, роторные конструкции и насадочные колонны, работающие в так называемом эмуль-гационном режиме. [c.79]

Эффективным способом глубокой очистки Bi ls является ректификация. Изучено поведение около 15 возможных примесей при ректификационной очистке трихлорида висмута [28, 30]. Наиболее трудноудаляемы примеси хлорида галлия и теллура. Показано, [c.318]

Значительный практический вклад в развитие идеи ректификации тетрахлоридов циркония и гафнии внесен работами Нисельсона с сотрудниками [28—30]. На лабораторной установке с ректификационной насадочной колонной диаметром 25, 32 и 50 мм была достигнута относительно высокая эффективность очистки тетрахлорида циркония [28]. В качестве насадки использовали спирально-призматическую иасадку размером 4 X 4 X 0,5 мм, высоту рабочей части колонны варьировали в интервале 300—2500 мм. Колонны были снабжены электронагревателями для создания необходимого температурного поля. Отвод тепла в дефлегматоре осуществляли при помощи воздухоохлаждаемого манжета. Корпус колонн и кубов был изготовлен из нержавеющей стали марки Х18Н9Т, которая оказалась вполне устойчивой в условиях процесса ректификации хлоридов-циркония и гафнии. В большинстве опытов по ректификации разбавленного раствора тетрахлорида гафния в тетрахлориде циркония (1,5—2,5 вес.% ШС14) получали более 50% Zr, содержащего 0,05% Hf, при этом до 40% Hf от его исходного количества концентрировалось в головных фракциях со средним содержанием гафния 20—25%. [c.162]

Тонкое разделение и глубокая очистка хлоридов ниобия и тантала достигаются ректификацией. Теоретические основы и условия ректификационной очистки подробно изучены советскими и зарубежными исследователями [27, с. 351—358 62—64]. Пентахлориды ниобия и тантала образуют почти идеальные растворы, подчиняясь закону Рауля. Для получения из смеси Nb ls—ТаСЬ отдельных компонентов с 99,9%-ной чистотой необходима колонна эффективностью около 48 ТТ. Перед ректификацией желательно удалить примеси оксихлоридов известными способами (дохлори-рованием четыреххлористым углеродом под давлением или хлором в присутствии слоя раскаленного угля). [c.339]

Ректификация — один из наиболее эффективных методов разделения и очистки Nb ls и Ta ls. Результаты укрупненных опытов по< ректификационной очистке и разделению (Nb, Та)С1 s приведены в [51 ]. Основные примеси (титан, кремний, алюминий и др.) легко отделяются от ниобия и тантала, так как различие в летучести их хлоридов достаточно велико. При нормальном давлении относительная летучесть в системе Nb ls—ТаСЬ - 1,38. [c.83]

Дяя ректификационной очистки некоторых хлоридов металлов от примесей используется алюминиевая насадка, в частности, одно-витковые спирали Фенске диаметром Ю нм, изготовленные из проволоки 1,5 мм. Удельная поверхюе . наеадкк а=832 Свободный объем = 0 68в [c.15]

Смесь технического тетрахлорида германия и соляной кислоты перегоняют в ректификационной колонке и выделяют тетрахлорид германия. В этом случае тетрах.торид обычно содержит незначительные примеси других летучих хлоридов, в частности хлориды мыщья-ка, олова, сурьмы и др. Для дальнейшей очистки его осушают и перегоняют в кварцевой ректификационной колонке с высокой [c.196]