Никель, закись адсорбция

Как показали Н. П. Кейер, С. 3. Рогинский и И. С. Сазонова [1160], введение акцепторных добавок (окиси лития) в р-полупроводник — закись никеля приводило к увеличению электропроводности и уменьшению скорости реакции окисления окиси углерода. При этом, однако, изменение адсорбции компонентов реакции оказалось противоположным ожидаемому [159], что было обусловлено тем, что уровень Ферми не снижался, а повышался [637]. Это показывает справедливость вывода, сделанного в работе [252], о том, что не изменения электропроводности, а изменения работы выхода электрона должны быть критерием изменений электродных свойств полупроводников и характера электронных переходов в адсорбционных и каталитических процессах. Последнее показывает также необходимость осторожного подхода к трактовке кинетики и механизма реакций с помощью электронных представлений. [c.272]

Основной карбонат никеля при нагревании разлагается с выделением воды и углекислого газа и переходит в отсутствие кислорода в закись никеля, а в присутствии кислорода в смесь окислов, так как адсорбирует кислород. Пря высокой те.мпе-ратуре (выше 700°С) получается только закись никеля, так как адсорбции кислорода при этом не происходит. [c.358]

АДСОРБЦИЯ ГАЗОВ ПОРОШКООБРАЗНЫМИ ОКИСЛАМИ. ЗАКИСЬ НИКЕЛЯ [c.517]

Я. Адсорбция газов порошкообразными окислами. Закись никеля 519 [c.519]

Закись никеля, полученная диссоциацией Н1(0Н)2 в вакууме при 200°, имеет удельную поверхность 142 м /г, измеренную по адсорбции криптона при —195° (для Кг взято значение [c.524]

Адсорбция азов порошкообразными окислами. Закись никеля 525 [c.525]

Возможно, что свежеприготовленная желтая закись никеля не является полупроводником. Наоборот, если закись приготовляется окислением металла при 200—400°, присоединение кислорода в результате миграции положительных дырок приводит к р-проводимости [5]. Нужно заметить, что если пленка СигО окислена до СиО [5], которая не является больше р-полупроводником, то ее адсорбционные свойства по отношению к Ог, СОг и СО очень близки к свойствам №0, описанным в настоящей работе. Однако возможно, что адсорбция, которая ограничивается здесь частью монослоя, происходит за счет преобладания поверхностных дефектов решетки, например типа Шоттки. Их концентрация в окиси может быть значительной в описанных выше условиях приготовления. [c.525]

Окисление СО на катализаторах никель и закись никеля было изучено с помощью инфракрасных спектров адсорбированных молекул, что давало возможность следить за ходом реакции. В течение реакции в спектре отмечалось появление полосы 4,56 так, как если бы это было связано с образованием промежуточного соединения. Возникновение этой полосы нельзя объяснить простой адсорбцией какого-либо компонента реакции. Положение этой полосы (с учетом метода, которым было установлено наличие полосы) позволяет выдвинуть предположение о том, что она обусловлена следующей структурой N1..............О......С- ......О. [c.741]

О и 100° за стадией 1 будет следовать стадия 2. Это подтвердилось исследованием адсорбции кислорода на закиси меди (находящейся на подложке из металлической меди), которое показало, что при давлении ниже 1 мм при комнатной температуре адсорбируется количество, превышающее монослой. Кинетика этой хемосорбции изучалась при помощи микровесов [40]. Энергия активации для области заполнения монослоя оказалась равной 6,8 ккал/моль, но при этом, согласно уравнению Рогин ского—Зельдовича, энергия активации при поглощении должна линейно возрастать на 1,1 ккал, считая на каждый новый монослой. Скорость поглощения быстро спадает, ибо вследствие того, что возникающие вакансии не в состоянии диффундировать внутрь, создается пространственный заряд. Если газообразный кислород, находящийся над окислом, удаляют и повышают температуру, то вакансии диффундируют к границе раздела металл — окись и активность поверхности в отношении адсорбции кислорода регенерируется. Пленки закиси кобальта на кобальте ведут себя аналогично пленкам закиси меди. В этом случае теплоты адсорбции измерялись вплоть до состояния насыщения [18]. Поглощение кислорода сверх мопослойпого заполнения (стадия внедрения) сопровождается падением теплоты адсорбции и тенденцией к обратимой хемосорбции. С другой стороны, закись никеля обнаружила более низкую активность для хемосорбции кислорода, что, по-видимому, обусловлено большей трудностью регенерации поверхности [16]. Энгель и Хауффе [41] показали, что при более высоких давлениях (от 30 до 200 мм) вторую стадию поглощения можно обнаружить кинетически при 25° и это связано со внедрением кислорода в решетку, подчиняющимся уравнению (7). [c.332]

Рассматривая обратимость эффекта введения добавок в зависимости от температуры, следует снова отметить, что реакция при низких температурах является самоотравляющейся (раздел И, Г). Помимо этого, изменения удельной активности, наблюдавшиеся Кейер и др. [95], оказались очень значительны. Возможно, что наблюдаемую при этих температурах пониженную активность закиси никеля, содержащей литий, следует объяснить исходя из того, что такой окисел адсорбирует те или иные частицы, участвующие в реакции, гораздо интенсивнее, чем чистая закись. Что это за частицы, сказать нельзя. Кейер и Куцева [99] сообщили, что введение добавок лития (при условии не слишком, больших количеств) способствует повышению адсорбции кислорода и углекислого газа при комнатной температуре. Винтер [75] получил аналогичные результаты для кислорода. Наши работы [100] по хемосорбции на закиси, никеля с добавками также указывают, что кислород при комнатной температуре интенсивно хемосорбируется на образцах, содержащих литий (которые были приготовлены при 1000° и обезгажены при 500°), но слабо хемосорбируется на образцах с добавками хрома.. Эти результаты не согласуются с доводами, приведенными в конце предыдущего раздела. Поскольку нельзя считать, что адсорбция кислорода при какой-либо температуре может быть не акцепторной реакцией, то при обсуждении результатов теорию граничного слоя не следует принимать в качестве основы, по крайней мере в случае низкой температуры. Кейер и Куцева [99] обнаружили при комнатной температуре более слабую адсорбцию СО, когда в окисел вводили литий, а Винтер [97] привел для закиси никеля, содержащей литий, некоторые данные, которые указывают на повышение при 150° адсорбции СО по сравнению с адсорбцией на чистом окисле. Некоторые новые доказательства явлений отравления в низкотемпературном интервале были получены при исследовании Белянским и др. [101] окисления СО эти авторы наблюдали зависимость энергии активации ниже 250° от парциального давления СО в реакционной смеси. Абсолютная активность падала с возрастанием давления [c.351]

Исследование закономерностей химической адсорбции на полупроводниковых контактах, электрические свойства которых регулируются растворением в их решетке примесей, позволяет сделать некоторые выводы о природе активных центров адсорбции и причинах изменения энергий активации с ростом заполнения поверхности. Совместно с Л. Н. Куцевой [1, см. также стр. 82 наст, сб.] и Г. И. Чижиковой [2, см. также стр. 77 наст, сб.] были исследованы окисные контакты относящиеся к разным классам полупроводников закись никеля—дырочный полупроводник и окись цинка — электронный. Электропроводность их изменялась на 5—7 порядков при растворении окислов одно-и трехвалентных металлов, оказывающих на нее противоположное влия ние. [c.73]

Используя метод меченых атомов, как будет показано ниже, можно оценить также и влияние на адсорбционный процесс индицированной неоднородности или взаимодействия между адсорбированными молекулами. 1 1сследовались кон.такты окисного типа, принадлежащие к классу полупроводников закись никеля, окись алюминия, окись цинка и металлы никель и медь. За исключением окиси цинка все контакты изучались по отношению к адсо1)бции ацетилена — простейшему углеводороду с тройной связью. Окислы цинка и алюминия изучались также по отношению к адсорбции этилового снирта. [c.284]

С другой стороны, нет уверенности в том, что применявшаяся в работе закись никеля представляла собой чистый препарат, обладающий свойствами полупроводника/)-тйна. Во всяком случае, наши данные показали, что никакого кинетического эффекта при полимеризации изобутилена нет, если реакцию проводить в присутствии добавок закиси меди (добавка / -типа). Конечно, в изучаемой проблеме многие вопросы остаются пока дискуссионными и требующими дальнейших всесторонних исследований. Однако несомненно, что полимеризация в присутствии твердых окислов протекает в жемосорбированном слое на поверхности соответствующих добавок. Эта 1<онцепция хорошо согласуется с данными других исследователей [28—30], показавших, что при адсорбции на окиси цинка как насыщенных, так и ненасыщенных углеводородов, в условиях радиации наблюдается резкое увеличение электропроводности адсорбента. Детальный анализ этого явления, проведенный в работах Мясникова [29, 30], приводит к выводу о том, что увеличение электропроводности окиси цинка п роисходит не за счет возникновения на поверхности положительных угле водородных ионов, а в результате отдачи электрона твердой добавке хемосорбированными на поверхности атомами водорода. [c.63]

После многократной обработки кристалла никеля путем обезгаживания в высоком вакууме, бомбардировки нонами аргона и отжига была получена вполне чистая поверхность кристалла, на что указывала дифракционная картина, характерная только для решетки никеля. При комнатной температуре кислород сначала хемосорбируется в виде двухразмерного гранецентрированного монослоя. Этот монослой оказывается завершенным по достижении произведением давление X время экспозиции величины 2-10" мм рт. ст. - мин. По мере того как экспозиция возрастает, происходит дальнейшая необратимая адсорбция кислорода в виде образования аморфного слоя. При экспозиции, превышающей 10 мм рт. ст. - мин., при комнатной температуре образуется слой закиси никеля. Если кристалл никеля первоначально покрыт хемосорбированным монослоем углерода, образующи1Ч двухразмерную квадратную гранецентрированную решетку, то заметного эффекта в результате адсорбции кислорода при экспозициях меньших, чем 4 - 10 мм рт. ст. - мин., не наблюдается. При экспозиции выше IQ S мм рт. ст. мин. закись никеля образуется так л<е, как и в случае чистого никеля. Как хемосорбированный кислород, так и закись никеля удаляются нагреванием при 250—300°, что указывает на диффузию кислорода в никель. [c.490]

Известно, что закись никеля активируется путем дегидратации при температуре выше 200 С в отношении адсорбции этилена и что активированная таким образом адсорбция этилена подавляется в результате предварительной адсорбции окиси углерода или воды 15]. Подобное поведение найдено нами у С03О4 и rjOg, как показано на рис. 3, где представлена зависимость количества адсорбированного этилена (при равновесном давлении 10- мм рт. ст. и 25° С) от температуры предварительной обработки в вакууме Можно видеть, что адсорбция этилена и окиси углерода увеличивается с повышением температуры предварительной обработки выше 200° С и что после откачивания при 10 мм рт. ст. предварительная адсорбция окиси углерода приводит к снижению адсорбции этилена. [c.414]

Закись никеля получалась разложением карбоната никеля при 300 в кварцевом реакторе, присоединенном к вакуумной установке. Во время разложения давление СОг в реакторе не превышало 10 мм рт. ст. Окончательно образец обезгаживался при 450° в течение 3—4 час. до прекращения газов1иделения. Условия приготовления образцов строго 1<он-тролировались, что обеспечивало воспроизводимость адсорбционных измерений. Удельная поверхность, вычисленная по методу БЭТ из равновесной изотермы физической адсорбции этилового спирта, для этих образцов равнялась 55 + 5 м /г. [c.284]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология