Условные константы образования

Рассчитайте условную константу образования комплекса ртути(II) с ЭДТА в растворе, pH которого равен 11,00, концентрация свободного (незакомплексованного) цианид-иона 0,0100 М. [c.208]

УСЛОВНЫЕ КОНСТАНТЫ ОБРАЗОВАНИЯ [c.187]

Условные константы ( ] образования комплексов [c.117]

Вывод условной константы образования. Для расчета условной константы образования [c.189]

Расчет условных констант образования комплексонатов. [c.96]

Методом рН-метрического титрования (в атмосфере азота) вычислена условная константа образования соединения натрия с водной дисперсией фосфатидной кислоты, равная 9,7-10 (24 -Ь 1° С) [576]. [c.22]

Хотя условная константа образования более чем в миллион раз меньше истинной константы образования, первая из них все еще довольно велика, чтобы получить хорошо выраженную кривую титрования. [c.190]

В связи со сказанным, наиболее удобно пользоваться величиной условной константы образования Кш которая является функцией pH и концентрации дополнительного комплексанта. нию [c.257]

Произведение трех констант в левой части уравнения обычно называют условной константой образования К гп - [c.189]

Погрешность титрования с индикатором может быть определена из значений условных констант образования. [c.225]

Кривые титрования, подобные изображенным на рис. 11-5, можно представить в общем виде как зависимости J ля различных условных констант образования, если на ординате отложить значения рМ вместо рМ (рис. 11-6). Если условная константа образования значительно меньше 10 , то изменение величины рМ слишком незначительно, чтобы его можно было использовать для точного определения конечной точки титрования. Если не учитывать влияние разбавления раствора титрантом, то кривая титрования для комплекса состава 1 1 вблизи точки эквивалентности будет симметричной, и точка перегиба на кривой совпадет с точкой эквивалентности. Если же учитывать влияние разбавления, то, по аналогии с данными, приведенными в разд. 3-7 и 10-4, следует ожидать, что точка перегиба на кривой появится несколько раньше точки эквивалентности. [c.221]

В следующем разделе постараемся оценить значения условных констант образования для комплексов цинка с ЭДТА в аммиачном бу-(Ьере и использовать условную константу образования с целью построения кривой титрования этой системы. [c.189]

На рис. 11-7 показана зависимость между погрешностью титрования и произведением См.Кк и- Из рис. 11-3 видно, что для большинства ионов металлов в выбранном интервале pH условные константы образования комплексов составляют по меньшей мере 10 °. Согласно рис. 11-7 для 0,01 М растворов таких металлов погрешность титрования достигает 0,1%. Концентрация [У ] при титровании 0,01 М раствора ионов металла при 0,1%-ном [c.222]

РИС. 11-7. Зависимость погрешности титрования от условной константы образования для Д рМ от 0,1 до 4. [c.222]

Если показатель маскирования значительно выше логарифма условной константы образования комплекса ионов металла с комплексующим реагентом, то маскирующий агент предотвращает мешающую реакцию. Если же показатель маскирования значительно ниже, то мешающего влияния не наблюдается. В отличие от реагентов, применяемых при титровании, когда стехиометрические соотношения для реакции должны быть известны и благоприятны, маскирующие агенты пригодны даже тогда, когда они образуют ряд комплексов с одинаковыми константами равновесия. По этой причине ассортимент маскирующих агентов шире [62]. [c.233]

Демаскирование — процесс, в результате которого замаскированное вещество приобретает способность вступать в реакции, обычно свойственные ему [64]. Демаскирование может быть выполнено с помощью реакции замещения с участием других катионов, более интенсивно взаимодействующих с маскирующим лигандом и высвобождающих при этом замаскированный ион. Поскольку условные константы образования в значительной мере зависят от pH, обычный способ демаскирования состоит в изменении pH среды. Так, для реакции, представленной на рис. 11-10, очевидно, что алюминий может быть в значительной степени демаскирован из фторидного комплекса путем уменьшения pH. Демаскирования можно достигнуть также путем разрушения или физического удаления маскирующего лиганда и изменения степени окисления маскируемого иона. [c.234]

Особый случай конкурентного комплексообразования с гидроксид-ионом наблюдается при гидролизе или амфотерном поведении элементов. Образование гидроксокомплексов приводит к уменьшению коэффициента распределения. Если представить гидролиз как последовательное образование мономерных комплексов М(ОН) , M(0H)2 ,. .., можно применить уравнение (23-47). Рис. 23-12А показывает как pH влияет на значение коэффициента распределения. При низких значениях pH значение О увеличивается с ростом pH вследствие ионизации экстрагента НЬ при высоких значениях pH экстрагент полностью ионизирован, но ион металла начинает образовывать гидроксокомплексы, и условная константа образования комплекса уменьшается (см. рис. 11-3). Гидролиз часто осложнен присутствием частиц, содержащих более одного атома металла в ионе (см. разд. 7-5), особенно при экстракции высоко заряженных ионов металла, каждую систему ион металла — реагент — растворитель следует поэтому изучать детально, чтобы установить, нужно ли учитывать низшие хелаты и гидроксокомплексы. [c.487]

Аналогичные комплексы с этими реагентами образует и цирконий. Условные константы образования комплексов (табл. 82) рассчитывались по формуле [c.304]

Величина условной константы образования СаУ - при pH 10,0 равна [c.308]

Как правило, присутствие в растворе мешающего иона, способного образовывать с определяемым прочное комплексное соединение, делает невозможным использование этого метода. В таком случае для выполнения анализа в систему вводят промежуточный комплексообразователь Ь, образующий с ионом В комплексное соединение, более прочное, чем АВ. Зная условные константы образования АВ и ВЬ, исходные концентрации [А] и (В] сх, а также задаваясь погрешностью результата анализа, например [А] =0,95 [А] можно априорно оценить [c.59]

По данным [10], прочность такого интермедиата невелика (условная константа образования). [c.45]

Использование действительных или условных констант образования рассмотрено в монографии Шварценбаха и в статьях Рингбома Рингбома и Виннинена34 и Вебера Пршибил в своей обзорной статьеподчеркивает преимущества использования так называемой кривой Рингбома последнюю строят в координатах значений pH, при которых величина Д ыт(Х4 равна 10 , и lg для различных металлов. Из уравнения (13-13) следует, что величина /Смуа4 при 3 —1 (отсутствие дополнительного комплексанта) ни что иное, как условная константа образования. Из уравнения (13-12) следует, что величина /Сму. равная 10 соответствует 99,9% ному связыванию иона металла [c.258]

Пример 3-3. Вычислите условную константу образования N 2- в буферном растворе, содержащем 0,05 М ННз и 0,10 М ЫН4С1. [c.259]

Рис. X. 13. Условная константа образования комплекса Mg — ЭДТА в зависимости от pH.

Условная константа образования является мерой эффективной устойчивости комплекса цинка с ЭДТА для конкретных условий, т. е. Д гпу имеет определенное значение для каждого pH и для каждой свободной концентрации аммиака. Конечно, К гп - будет изменяться, если применяют буфер, имеющий разные pH и концентрацию аммиака, или если используют другой дополнительный комплексующий агент. Так как а2п + и меньше единицы, в большинстве случаев К гп почти [c.189]

Некоторые катионы не взаимодействуют в значительной мере с дополнительными комплексующими агентами. Например, ионы магния н кальция не образуют аммиачные комплексы в аммиачном буфере. Соответственно условные константы образования для комплексов ЭДТА с этими двумя катионами в аммиачном буфере имеют упрощенный вид [c.189]

Zn(NHs) + HY3- ZnY2- + NHI + SNHg Поскольку условная константа образования комплекса цинка с ЭДТА большая (K znY - =2,25-10- °), каждое добавленное количество титранта реагирует полностью с эквивалентным количеством цинка(II). Кро- [c.190]

В точке эквивалентности. Для расчета р2п в точке эквивалентности требуется использование условной константы образования комплекса цинка с ЭДТА [c.191]

Дайте определение каждому из следующих терминов лабильный комплекс,, нелабильный комплекс, координационное число, бидентатный лиганд, хелат, биядер-ный комплекс, ступенчатая константа образования, общая константа образования,, аммиачный комплекс, дополнительный комплексующий агент, металлохромный индикатор, хелатный эффект, условная константа образования, маскирующий агент. [c.207]

Рассчитайте условную константу образования комплекса никеля (II) с ЭДТА в растворе с концентрацией иона аммония 0,500 М. и концентрацией свободного (незакомплексованного) аммиака 0,500 F. [c.208]

Пример Х.4. Определите условные константы образования для комплекса Mg2+ с ЭДТА в зависимости от pH в присутствии от 0,1 М буферного раствора NH,—NH . Условия равновесия, приведенные в табл. VIII. 3. VIII. 4 [c.324]

Рис. X. 15. Условная константа образования комплекса М — Эриохром черный Т (кривая 1) и значения [Мд ] в точках эквивалентности при титровании иона Mg с аналитическими концентрациями С —5,0-10 (кривая 2) и С — 1,0- 10 (кривая 3) 10 М раствором ЭДТА. Оптимальное значение pH для титрования близко к точке, в которой кривые пересекаются.

Концентрация ионов металла, при которой индикатор изменяет цвет, приблизительно обратно пропорциональна условной константе устойчивости индикатора и ее можно изменять, меняя pH. Оптимальное значение pH титрования—это обычно компромиссное значение между наибольшей условной константой образования комплекса металл — ЭДТА и подходящей условной константой для индикатора. [c.332]

Величина [M ] представляет собой концентрацию ионов металла, не прореагировавших с ЭДТА. Пользуясь этими величинами, можно найти условную константу образования Кк г [c.216]

Комбинируя уравнения (11-9), (11-10) — (11-13), получаем выражение для условной константы образования комплексов с ЭДТА при pH 4 [c.217]

Поскольку реакция протонизирования и побочные реакции комплексообразования оказывают мешающее влияние на образование основного комплекса, условные константы образования меньше, чем константы образования, приведенные в табл. 11-2. Значение а 4- входящее в уравнение (11-14), зависит от pH при титровании с помощью ЭДТА. Обычно титруемый раствор обладает достаточно большой буферной емкостью, так что выделяющиеся при реакциях (11-8) или (11-9) ионы водорода не могут в заметной степени изменить pH среды, следовательно, значение у4- остается постоянным в процессе титрования. Значение ам [c.217]

РИС. 11-3. Зависимость условной константы образования от pH среды для некоторых комплексов металлов с ЭДТА. [c.218]

На рис. 11-3 представлена зависимость [4] между условными константами образования и pH для комплексов металлов с ЭДТА с учетом влияния pH на величину а 4- и влияния гидроксокомплексов на величину м [см. уравнение (7-17)]. Как видно из рисунка, условные константы меньше термодинамических констант, приведенных в табл. 11-2. Как правило, для каждого иона металла существует оптимальное значение pH [21]. Так, для цинка условная константа приближается к Лму = 16,5 только в одном интервале pH. Кривые на рис. 11-3 характеризуют максимальные значения условных констант, поскольку обычно в реакционную систему вводят дополнительные комнлексанты. Концентрация дополнительного комплексанта, как правило, значительно выше, чем концентрация ионов металла, поэтому значение м уменьшается и является функцией pH, а также зависит от природы и концентрации дополнительного комплексанта. Кроме того, если возможно образование амминного комплекса, то соответствующие кривые (см. рис. 11-3) располагаются еще ниже. Часто титрование с помощью ЭДТА проводят в присутствии буферных растворов системы аммиак — хлорид аммония, которые служат не только для установления необходимого значения pH, но также [c.218]

Пример 11-1. Вычислите концентрационную условную константу образования NiY в буферном растворе, содержащем 0,05 М NH3 и 0,10 М NH4 I. Величины Ig Ki, Ig К2. .. для амминных комплексов принимаются равными 2,75 2,20 1,69 1,15 0,71 и —0,01 Ко для NH составляет 5 Ю- ". [c.219]

Кривую титрования с использованием ЭДТА удобнее всего строить по аналогии с кривой рН-титрования, откладывая на осях графика значения рМ(—1д[М]) и оттитрованные объемы раствора. При обычных условиях титрования, когда концентрация иона металла мала по сравнению с концентрациями буферного раствора и дополнительного комплексанта, ау и ам, в сущности, не изменяются в процессе титрования, так что условная константа образования тоже остается постоянной. Поэтому построить кривую титрования очень просто. [c.219]

Принимаем, что ig р4 для хлорида, бромида и иодида цинка составляет — 1, —0,74 и —1,25, для соответствующих солей кадмия он равен 0,9 2,53 и 6,1. а) Вычислите показатель маскирования для Zn + и d + в 1,0 -Ai растворе хлорида, 1,0 М бромида и 0,1 М и 1,0 М иодида. Предполагается, что коэффициенты активности равны единице и что ионы металлов находятся в основном в виде высших комплексов, б) Каковы наиболее благоприятные условия титрования цинка в присутствии кадмия, если считать, что условные константы образования комплексов Zn + и d + с ЭДТА одинаковы (см. рис. 11-3) [c.237]

Решение. Из данных табл. 11-2 lg Ксиу = 18,8. Из данных табл. 11-1 —1д а, = 8,44 для ЭДТА при pH = 4. Условная константа образования /Сму комплекса Си с ЭДТА равна 10 ° откуда 1/а = 1- - 10 ° -0,01 = 2-10 Уравнение (23-45) принимает вид О = 7-10 /(1 538) = 130. [c.487]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология