Полимеры бензофенона

Применение в качестве пластификатора полиамидных полимеров для синтеза бензофенона (пластификатор простых и сложных эфиров целлюлозы) для получения некоторых красителей. [c.108]

Фотостабилизаторы на основе бензофенона, а также бензотриазолов и салициловой кислоты широко используются для защиты полиолефинов, полиамидов и других полимеров. [c.292]

Осуществлен синтез растворимых полиимидов, содержащих третичные аминогруппы в качестве боковых заместителей, на основе диангидридов тетракарбоновых кислот и такого своеобразного диамина, как 3,3 -диамино-4,4 -(диметил-амино)бензофенона [54, 55]. В табл. 6.2 приведены некоторые свойства двух из этих полимеров (см. полимеры 18 и 19). [c.224]

Светостабилизаторы защищают полимеры от старения под действием солнечной радиации. Поскольку ультрафиолетовое излучение особенно губительно действует на полимеры, то в состав светостабилизаторов вводят УФ-абсорберы, поглощающие соответствующую часть солнечного спектра (бензофеноны). [c.26]

К-бензофенон в ТГФ, диметиловом эфире гликоля, ацетонитриле, метилацетате, от —30 до 60 С, мол. вес полимеров 3000—7000. Метилакролеин в этих условиях не полимеризуется [316] [c.74]

Три хлор ацетальдегид (хлораль) Полимер Mg-бензофенон в ТГФ в толуоле, —78 С, 20 ч. Выход 50% [70] [c.126]

Ацетальдегид Полимер Са-бензофенон в ТГФ, —150° С. Выход 72% [70] [c.145]

Ацетальдегид Полимер Ва-бензофенон в ТГФ, —100° С, Выход 72% [70] [c.160]

Хлораль Полимер Ва-бензофенон в ТГФ в толуоле, —78° С, 20 ч [70] [c.160]

Облучение смеси полимер — мономер в присутствии фотосенсибилизатора также приводит к синтезу привитых сополимеров в результате появления свободных радикалов в основной цепи полимера, обусловленного атакой свободными радикалами, образующимися при фотолитическом распаде фотосенсибилизатора. Так, при облучении была осуществлена прививка полиакриламида к натуральному каучуку, содержащему в качестве фотосенсибилизатора бензофенон [131]. Полиметилметакрилат был привит на натуральный каучук при облучении латекса, содержащего мономер и 1-хлорантрахинон в качестве сенсибилизатора [132]. [c.284]

Изменения, наблюдаемые в облученном полимере, могут быть обусловлены как сшиванием, так и разрывом полимерных цепей, особенно если облучение производится в широком спектральном диапазоне. Полиэтилен разрушается под действием излучения с длиной волны 1850 А, но в нем же происходит сшивание полимерных цепей при действии излучения с длиной волны Я = 2537 А. Реакции сшивания сенсибилизируются бензофеноном и другими веществами, поглощающими УФ-излучение [122, 123, 128]. Вероятно, активация системы происходит на двойных связях. Были предложены как свободнорадикальный, так ионный механизмы соответствующей реакции [162]. [c.318]

В качестве объектов исследования, кроме п-нитропроизводных бензофенона и дифенилоксида, изучалось полярографическое восстановление ряда ароматических п-нитрозамещенных соединений, применяемых в качестве исходных продуктов при получении мономеров для термостойких полимеров общей формулы O N—iM—R [c.118]

Светостабилизаторы (обычно производные бензофенона, бензотриазола и др.) вводят в материалы, предназначенные для эксплуатации вне помещений. В основном их действие сводится к поглощению активной части излучения и экранированию полимера. [c.400]

Для повышения устойчивости полимеров к фотохимической деструкции используют такие органические соединения, которые способны преобразовывать (трансформировать) поглощаемую ими световую энергию. При этом излучаемая такими соединениями световая энергия должна быть намного меньше, чем при поглощении, т. е. уже безопасной для полимера. Такими фотостабилизаторами, заранее вводимыми в полимер, могут быть производные оксибензо-фенона [например, 2-окси-4-октилокси-(или метокси) бензофенон], эфиры салициловой кислоты (применяемые для светостабилизации полнолефинов и поливинилхлорида), пиперидина (2,2,6,6-тетраме-тил-4-оксипиперидин) и др. [c.412]

Стабилизация полимеров к фотохимической деструкции основана на введении в полимер соединений, которые легко поглощают световую энергию и трансформируют ее так, что она излучается ими квантами меньшей энергии, безопасными для полимера. Примером таких фотостабилизаторов являются бензофенон и его производные (ди-, триокси-бензофеноны, оксиметоксибензофеноны и др.). Трансформация световой энергии оксибензофеноном протекает через стадию образования хино-идной структуры по схеме [c.292]

К. применяют как р-рители, экстрагенты, для синтеза полимеров, пестицидов, стабилизаторов, фотоматериалов, лек. и душистых в-в и др. См. также Ацетон. Ацетофенон, Бензофенон. Метилизобутшкетон, Метилзтилкетон, Циклогексанон и др. [c.378]

Детальное исследование закономерностей синтеза полиариленэфиркетонов реакцией нуклеофильного замещения позволило найти эффективные пути регулирования молекулярной массы и свойств таких полимеров [36]. Этот цикл исследований был вьшолнен на примере поликонденсации 4,4 -дигалоген(фтор или хлор)бензофенона с дикалиевыми солями 4,4 -дигидроксидифенил-2,2-пропана, фенолфталеина и фенолфлуорена, осуществляемой в ДМАА. [c.198]

Для синтеза поликонденсационных полимеров с оксогруппами в полимерной цепи используются и другие мономеры, содержащие в своих молекулах оксогруппы, например диангидрид бензофенон-3,4,3, 4 -тетракарбоновой кислоты, успешно применяемый при синтезе полиимидов. [c.204]

Широкие возможности модификации свойств полиарилхиноксалинов открывает синтез смешанных полимеров, содержащих в своем составе наряду с арил-хиноксалиновыми имидные, бензоксазиноновые циклы, амидные, сложноэфирные и другие фрагменты [57, 311-317]. Использованием для синтеза полимеров 2,3-бис-(З-амино-4-хлорфенил)- и 2,2-бис(3-нитро-4-аминофенил)хиноксалинов при взаимодействии первого из них с диангидридами пиромеллитовой и бензофенон- [c.230]

Увеличения степени распада цепи в полимере, содержащем воду, и в полимере, находящемся в среде кислорода, можно объяснить уменьшениями рекомбинации )адикалов вследствие воздействия воды и кислорода [25]. Оттягивание водорода феноксигруппами и рекомбинация феноксигрупп приводит к образованию гидроксильных групп. Окраска может появляться вследствие наличия хромофорных групп, которые возникают при атаке радикалами полимерных молекул или при перегруппировке, приводящей к образованию бензофенонов. Оба эти процесса происходят и с модельным соединением — дифенилкарбонатом. [c.189]

Можно применять также тетраарилолово, триарилмо-но(цикло) алкилолово [13, с. 309], силикаты щелочных, щелочноземельных металлов цинка и свинца [13, с. 74]. Описана стабилизация поликарбонатов термостойкими полимерами лестничной структуры, содержащими хино-идные и ароматические циклы и гетероциклы, например полихинонтиазином [14]. Для стабилизации поликарбоната против действия УФ-света применяют смеси производных бензофенона или бензотриазола с фосфорсодержащими соединениями [15]. [c.202]

Для стабилизации полимеров от фотохимической деструкции вводятся соединения, легко поглощающие световую энергию - светостаби-лизаторы, которые превращают световую энергию, например, в тепловую или рассеивают ее. Такими веществами являются производные салициловой кислоты, бензофенона, а также бензотриазолы и др. Для повышения стойкости полимеров к радиоактивному излучению применяют вещества, способные рассеивать радиоактивную энергию - антирады. К таким веществам относятся ароматические углеводороды с конденсиро- [c.116]

Зведение триплетных сенсибилизаторов обычно повыщает общую светочувствительность азидсодержащей композиции, сокращая время экспонирования на 30—50 %. Обычно применяются такие сенсибилизаторы, как бензофенон, 2-(бензоилметилен)-3-метил-Р-нафтотиазолин, кетон или тиокетон Михлера, соли пирилия или тиопирилия в соотнощении от 0,005 до 5 % в расчете на массу арилазида. Несмотря на то что нитрены реагируют с различными полимерами, для сщивания определенных групп матриц стараются использовать наиболее подходящие азиды. [c.141]

На ЗЮг/З с помощью этого позитивного резиста, сенсибилизированного бензофеноном, проведена фотолитография и травление подложки размеры полученных элементов составляют 10 мкм. Механизм фотораспада полимера наряду с тривиальным радикальным распадом связи С—ЗОг может включать как первые стадии фотоокисление по связи — С—Н, фотоотрыв у-водорода карбонилом цепи или карбонилом бензофеноиа и другие реакции, которые, несомненно, требуют изучения [20]. Система НС + нафто-хинондиазид не подходит для глубокого УФ-света, так НС и замещенная инденкарбоновая кислота поглощают интенсивно до 300 нм и поэтому для разложения о-нафтохпнондиазпда в слое нужна слишком большая экспозиция, что приводит к переэкспонированию наружных частей и размыванию рельефа нри проявлении. Рельеф, полученный из НС, очувствленной хинондиазидом, может непосредственно служить маской при экспонировании ПММА [пат. США 4211834]. Однако при экспонировании эксимерным лазером (ХеС1, А, = 308 нм КгР, А-= 248 нм) снимаются жесткие требования к фоторезисту по светочувствительности и становится возможным использование обычных резистов типа НС + нафто-хинондиазид эта техника представляет практический интерес [21], Кислота Мельдрума имеет полосу поглош,ения (максимум при [c.183]

Защита резин от озона достигается введением физических противостарителей (парафин, озокерит), которые, мигрируя на поверхность полимерного изделия, покрывают его тонкой пленкой, стойкой к озону и непроницаемой для него. Защита полимеров от светового старения обеспечивается органическими красителями, поглощающими или не пропускающими наиболее опасные лучи с небольшой длиной волны (хризоидины, анилоранжи, азокрасители), введением в полимерную композицию таких светостабилизато-ров, как производные бензофенона, содержащие группу ОН в орго-положснии, салициловой кислоты. Л1еханизм действия таких стабилизаторов нельзя свести только к тому, что они выступают в роли УФ-абсорберов , своеобразных фильтров света, экранирующих полимер от ультрафиолетовых лучей Выполняя функцию акцептора (А) электронной энергии возбуждения макромолекулы (донор О), вызывающей ее деструкцию (Ь 4-А->0-f А ), они превращают эту энергию в менее опасные для полимера формы (например, в тепловую) и рассеивают ее, по-видимому, за счет кето-енольных превращений [c.647]

Для уменьшения воздействий ультрафиолетового излучения вводят добавки веществ, поглощающих это излучение, к ним относятся производные бензофенонов, кумарина, салициловой кислоты Стабилизирующее действие оказывает также введение в полимер пигментов и наполнителей, способных создавать своеобразный барьер для деструктирующих факторов Например, технический углерод полностью поглощает в поверхностном слое ультрафиолетовое и видимое излучение во всем диапазоне длин волн Кроме того, технический углерод способен блокировать свободные радикалы, инициирующие фотохимические реакции [c.153]

С/3 мм рт. ст. 0.918. п 1,4500—1,4520 раств. в СП., не раств, в воде. Получ. из а-пинена. Душиетое в-во (запах лимона) в парфюмерии. СВЕТОСТАБИЛИЗАТОРЫ (фотостабилизаторы), повышают светостойкость полимерных материалов. Действие основано на способности поглощать УФ излучение и тушить возбужд. состояния молекул полимера и ингредиентов, входящих в состав композиции (г. н. УФ абсорберы), и (или) ингибировать фотохим. деструкцию полимера. В кач-ве С. применяют производные бензофенона, салициловой к-ты, диалкилдитиокарбаматы Ni, пространственно затрудненные амины, нек-рые неорг. пигменты, напр, сажу, TiOz. ZnS. С. вводят в композицию прн ее изготовлении (0,1—5% от массы полимера). [c.517]

Бензофенон Полиальдегид Кетил Ыа, Ь или К —78° С. Наиболее активен литиевый комплекс, наименее — калиевый. Выхоч полимера на натриевом катализаторе при —78 С ниже, чем при —100° С [148] [c.35]

Вещества, адсорбирующие ультрафиолетовые лучи, поглощают преимущественно свет тех длин волн, которые особенно вредны для полимера, и рассеивают энергию с длиной волны, не вызывающей деструкции. Замещенные бензофеноны и эфиры салициловой кислоты широко используются для ингибирования реакций фотоокисления. Темблин с сотр. [49] опубликовали обзор о реакциях соединений, поглощающих ультрафиолетовые лучи, обращая особое внимание на реакции, в которых поглощенная энергия рассеивается. Если примеси металлов катализируют окисление, то комилексообразующие соединения могут быть использованы для дезактивации этих катализаторов [14]. Характерная для некоторых полимеров устойчивость к окислению объясняется их молекулярной структурой. Для каждого из этих механизмов, определяющих скорость инициирования, число радикалов, необходимых для роста полимерных ценей, постепенно уменьшается. [c.465]

Производные, полученные из дифенилкетена, разлагаются при —70 °С с образованием бензофенона и формальдегида другие полимеры неустойчивы выше —20 °С. [c.482]

Аддукт азобензола и дифенилкетена при пиролизе дай азобензол, фенилизоциа-нат и р-лактам 129, образование которого приписывается [182] взаимодействию дифе-нилкетепа и анила бензофенона, возникающих при разложении по какому-либо из двух механизмов, показанных выше. Реакция кетена с г мс-азобензолом при 15° С с одновременным облучением дала продукт с четырехчленным кольцом 130, который при кипячении в ацетоне разлагается па фенилизоцианат и полимер шиффова основания 131 [167]. [c.746]

Из-за непостоянства атмосферных условий для получения достаточно надежных результа-товГ испытания на А. должны продолжаться не менее 4—5 лет. А. определяется, с одной стороны, климатом данной местности и условиями экспозиции (время года, дня, наличие прямой и рассеянной солнечной радиации, концентрация озона), а с другой — составом полимерного материала. В связи с этим при оценке А. обычно указывают, в какой климатич. зоне проводились испытания (влажные или сухие субтропики и тропики, средняя полоса, районы Крайнего Севера). Наряду с природой самого полимера на А. существенно влияют различные примеси и ингредиенты. Нек-рые из таких веществ (напр., катализаторы полимеризации, отбеливающие вещества, соли железа, двуокись титана, применяемая для матирования волокон) могут существенно ухудшать А., сенсибилизируя фотоокислительные процессы. Для увеличения А. используют стабилизаторы (напр., производные бензофенона, бензтриазола, углеродные сажи и др.) или отражатели света (напр., алюминиевый порошок). [c.107]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология