Определение времени экспонирования

Сканирование отраженного сигнала с использованием фотоумножителя проводилось перпендикулярно поверхности по схеме фотометрирование сбоку . Погрешность в поддержании скорости сканирования была меньше 2,5 %, а в определении интенсивности сигнала за время экспонирования не превышала 12%. [c.10]

Для определения времени экспонирования можно использовать тест на разрешающую способность, в котором используется маска с серией клинообразно уменьшающихся по ширине линий и промежутков между ними. При проведении нескольких экспозиционных испытаний определяется время экспонирования, при котором достигается наибольшее разрешение. Можно одновременно экспонировать и через клин оптических плотностей и определить относительную экспозицию. Предпочитают использовать слои на твердой основе во избежание потери адгезии отдельными линиями, что приводит к неправильным заключениям. У позитивных резистов рекомендуется контролировать и линии и промежутки между ними, так [c.46]

При проявлении в бачках экспонированная пленка помещается в держателе, на подвеске или в рамке (в случае подвески пленка сначала закрепляется в нижних зажимах, а затем - в верхних). Это позволяет погружать пленку в растворы на строго определенное время. Во время обработки рентгеновские пленки необходимо часто перемещать, с тем чтобы не происходило локального истощения раствора в районе контакта с эмульсией. В противном случае снижаются скорость и равномерность обработки пленки. [c.73]

В заключение следует отметить, что экспонирование резистов электронами имеет определенные преимущества, как-то высокое разрешение, довольно высокую скорость линейного перемещения луча, до 12,7 м-с [147] и возможность перемещения луча по программе. Однако существует и целый ряд недостатков, как-то высокая стоимость оборудования, сложность управления электронным лучом, дополнительные затраты времени из-за того, что установки связаны с вакуумными системами, продолжительное время экспонирования, присущее всем методам изготовления рисунка электронным лучом, и, наконец, трудности, связанные с совмещением рисунка. Экономически этот метод эффективен из-за малого выхода из строя приборов, применения приборов малых размеров и отсутствия контакта с фотошаблоном. [c.645]

При фотографической регистрации время экспонирования определяет количество освещения фотопластинки. Как правило, время выбирают в пределах 10—50 сек. Это диктуется условием, требующим чтобы почернения анализируемых линий были в нормальной области экспозиций, независимо от изменения концентраций определяемых элементов (в заданных пределах). Однако такое условие не всегда выполнимо, особенно при одновременном определении ряда элементов. Экспонирование (накопление количества освещения) зависит не только от длительности, но и от типа и мощности источника света, а также от выбранного промежутка времени с учетом времени предварительного обжига, качества и чистоты оптических деталей и их юстировки, размеров окна промежуточной диафрагмы и т.д. Спектры в разных ступеньках в случае применения ослабителя можно считать сфотографированными с разной длительностью экспонирования. Это упрощает работу для определения одних элементов или одних пределов концентраций можно использовать спектры в какой-то одной ступени, а для других— в другой. Чтобы на спектрографах тина ИСП-28 при применении трехступенчатого ослабителя и переводе кассеты на 2 мм избежать возможных наложений спектров, достаточно наиболее сильно поглощающую свет ступень аккуратно прикрыть полоской из черной бума- [c.175]

Для правильного подбора корректирующих фильтров нужно изготовить пробные отпечатки нормальной плотности — т. е. определить правильную выдержку. В то же время корректирующие фильтры поглощают свет и требуют увеличения выдержки. Поэтому определение времени экспонирования распадается на две операции нахождение оптимальной выдержки при печати без фильтров и расчет увеличенного времени экспонирования, обусловленного использованием корректирующих фильтров. [c.201]

В настоящее время измерение интенсивности светорассеяния проводится фотоэлектрическим методом, хотя пользуются также методом визуального определения / эо и коэффициента асимметрии при помощи фотометра Пульфриха [7, 64]. Однако вследствие малой интенсивности рассеянного света визуальное наблюдение недостаточно точно. Кроме того, этот метод имеет еще другие недостатки (длительность определения, утомляемость глаз при наблюдении и т. д.). Другой способ заключается в измерении оптической плотности изображения на фотопластинке, экспонированной рассеянным светом [15]. Более быстрым и точным является фотоэлектрический метод при использовании фотоумножителя. [c.151]

Радиоактивные лучи, попадая в фотографическую эмульсию, оказывают на молекулы галогенидов серебра такое же действие, как и лучи видимой части спектра. И так же, как и в случае обычного фотографического процесса, количество восстановленного серебра пропорционально интенсивности облучения. Таким образом, степень экспонирования фотопластинки пропорциональна количеству радиоактивных лучей, попавших на фотоэмульсию. В настоящее время имеют-( ся прецизионные методы определения степени почернения пластинок (фотометрия), с помощью которых можно надежно измерять интенсивность облучения. Тем не менее, в химии фотографические методы регистрации радиоактивного излучения имеют ограниченное применение, потому что достаточно точным этот метод может быть лишь при работе с большими активностями. Фотометрические методы поэтому с успехом применяются в дозиметрии радиоактивного излучения (см. гл. 9). [c.115]

При использовании в качестве буфера соединений щелочных или щелочноземельных элементов, в тех случаях когда его испаряют вместе с пробой, окончание испарения пробы всегда можно точно зафиксировать по изменению характера звучания дуги и резкому падению тока дуги. Таким образом, нет необходимости после окончания испарения продолжать экспозицию до заданного времени. Правда, при значительном различии в летучести буфера и пробы или неудачном способе их введения в разряд время испарения буфера и пробы не совпадает. Легколетучий буфер испаряется быстрее пробы. В связи с этим, во-первых, всегда нужно стремиться к тому, чтобы буфер и проба испарялись вместе. Во-вторых, если Методика не обеспечивает одновременного испарения буфера и пробы, лучше ограничиться регистрацией только стадии совместного их испарения и исключить вторую стадию — испарение пробы без буфера, так как эта стадия незначительно усиливает линию, но заметно усиливает фон. Кроме того, догорание дуги без буфера усиливает влияние состава. При определении экспозиции по фактическому испарению пробы после окончания испарения экспозицию продолжают еще заданное время (обычно 5—10 сек) и выключают источник. По второму способу нецелесообразно использовать фон в качестве внутреннего стандарта. Метод экспонирования желательно выбрать после определения ошибки воспроизводимости, полученной по обоим способам в конкретных условиях анализа. [c.140]

Обычные механические испытания с определением характеристик кратковременной прочности недостаточны для прогнозирования долговечности напряженных стеклопластиков, поведение которых в поле механических сил существенно отличается от поведения в ненапряженном состоянии. Это связано с тем, что влияние жидких сред на долговременную прочность более значительно, чем на кратковременные характеристики прочности. Так, даже при сравнительно небольшой продолжительности испытаний (1000 ч) снижение долговременной прочности при чистом изгибе на воздухе и в жидкой среде (морская вода) для полиэфирных стеклопластиков на основе смол ПН-3 и 911 достигало от 44 до 19%, в то время как снижение прочности при кратковременных испытаниях после экспонирования в этой же среде составляло лишь 10-15% [159]. Увеличение базы испытаний в жидкой среде усиливает различие между долговременной прочностью и остаточной прочностью материала. [c.158]

Если фотограмму снимают в двух координатах (время—отсчет прибора), то для этого совершенно не нужно двигать пластинку в направлении координаты времени. Достаточно делать перерывы в освещении через определенные интервалы. Тогда длина экспонированных участков, выраженная в масштабе времени, позволит построить диаграмму-кинетики процесса. В случае очень медленно [c.246]

Для определения глубины проникновения чаще всего пользуются индикаторным методом . Суть его заключается в том, что из образца, определенное время экспонированного в испытуемой среде, делают тонкий срез в плоскости, совпадающей с направлением диффузии, и помещают этот срез в раствор подходящего индикатора. Через некоторое время в области, в которую проник электролит, индикатор изменяет цвет (проявление) и под микроскопом измеряют ширину этой области. Для некотор1.1х систем, например, поливинилхлорид — азотная кислота, за продвижением фронта диффузии удобно наблюдать в ультрафиолетовом свете, не прибегая к применению индикаторов. Для определения в непрозрачных материалах, например, резинах или наполненных пластмассах, используют специальные люминесцентные индикаторы или А1етоды, которые условно можно назвать методами отпечатка . Суть этих методов заключается в том, что срез прижимают к пластинке с индикаторным слоем, изменяющим оптическую характеристику под влиянием электролита. В случае использования меченых атомов — это метод авторадиографии. Следует подчеркнуть, что иногда обычным индикаторным методом пе удается обнаружить проникновение электролита в полимер, например соляной кислоты в полиэтилен НП. Это связано с тем, что нри проявлении электролит диффундирует из полимера быстрее, чем индикатор диффундирует в полимер. С помощью метода отпечатков диффузия хлористого водорода в полиэтилен НП легко наблюдается. [c.77]

Метод измерения илирины линий наиболее надежен по сравнению с другими. Он заключается в определении точности воспроизведения маски и визуальной оценки изображения. Обычное измерение ширины линий состоит из серии 6 экспозиций и сравнения изображения на фоторезисте с изображением на маске. Если с помощью визуальной оценки поверхности слоя резиста достигнуто оптимальное время экспонирования, для дальнейшего его уточнения сравнивают ширину линий рельефа и шаблона. Допустимые погрешности ухода ширины линий зависят от размеров изображаемых структур и составляют для макролитографии (полиграфии) 3 мкм, а для микроэлектроники примерно 0,1 мкм. Модификация этого приема состоит в экспонировании через клин оптических плотностей и измерении ширины линий для разных клиньев. Определяют уход размеров в зависимости от времени экспонирования и выбирают количество экхнонирующего света, при котором уход размеров минимален (рис. 1,26). [c.45]

Зведение триплетных сенсибилизаторов обычно повыщает общую светочувствительность азидсодержащей композиции, сокращая время экспонирования на 30—50 %. Обычно применяются такие сенсибилизаторы, как бензофенон, 2-(бензоилметилен)-3-метил-Р-нафтотиазолин, кетон или тиокетон Михлера, соли пирилия или тиопирилия в соотнощении от 0,005 до 5 % в расчете на массу арилазида. Несмотря на то что нитрены реагируют с различными полимерами, для сщивания определенных групп матриц стараются использовать наиболее подходящие азиды. [c.141]

Выбор рентгеновских пленок. Выбор специалистом той или иной пленки определяется необходимостью получения рентгеновского снимка с определенной контрастностью и четкостью изображения. Контрастность пленки, ее чувствительность и гранулярность взаимосвязаны, высокочувствительные пленки имеют крупные зерна и низкий предел разрешения, а низкочувствитель-ные - мелкие зерна и высокий предел разрешения. Поэтому, хотя с экономической точки зрения желательно, чтобы время экспонирования пленки было как можно короче, использование высокочувствительной пленки офаничивается ее зернистостью, которая в значительной мере огфеделяет качество изображения мелких дефектов. Заводы-изготовители пленок выпускают их с достаточно широким диапазоном по чувствительности, контрастности и фанулярности (см. табл. 5 - 8). [c.62]

Частицы (в частности, нейтроны), образующие протоны отдачи в водороде желатины, могут попадать в эмульсию извне. Однако в радиохимии в большинстве случаев заранее наполняют ( нагружают ) эмульсию веществом, которое или уже является активным, или может быть активировано. Пластинку нагружают, либо помещая ее в раствор радиоэлемента, либо высушивая каплю раствора, помещенную на эмульсию. Затем пластинку определенное время держат сухой (экспонируют), далее проявляют и фиксируют. Количество радиоэлемента, попадающего в эмульсию, измеряется в специальных калибровочных опытах [18, 19, 20]. Если в эмульсию вводится слишком много постороннего вещества, то следы искривляются и чувствительность эмульсии уменьшается. Измеряя расстояния между зернами, можно отличать друг от друга следы, принадлежащие частицам различной природы [14, 15, 40, 140]. С другой стороны, можно десенсибилизировать эмульсию химическими методами (с помощью окисляющих веществ), исключив тем самым действие слабо ионизующих излучений (Перфи- яов [103], Поуэлл и др. [105]). Так, например, обработка однопроцентной хромовой кислотой [133] делает пластинку нечувствительной к р- и у-лучам, а также к протонам ослабляется и действие а-частиц, но следы осколков деления остаются вполне четкими. Изготовляются также пластинки, чувствительные только к наиболее сильно ионизующим частицам. За время хранения экспонированных пластинок скрытое изображение блекнет [133] (см. также I1] и [83]). Скорость этого процесса зависит от давления кислорода, от влажности и температуры среды. Недавно были изготовлены такие чувствительные эмульсии, которые позволяют различать следы отдельных электронов [8, 124]. [c.123]

Для определения равновесной сорбции и коэффициента диффузии может быть использован динамический сорбционный метод , позволяюший значительно сократить время экспонирования, не дожидаясь установления [c.84]

Сущность метода заключается в том, что в заданную площадку ультразвукового поля, помещают образец из материала, легко поддающегося кавитационной эрозии свинца, алюминия, сплава Вуда, графита. Убыль веса образца за определенное время характеризует интенсивность кавитации в данной точке. При работе с большими и средними интенсивностями время экспонирования составляет 10—30 мин, а убыль веса образца — 10—100 мг. [c.172]

Условию стандартизации определения чувствительности позитивных электронорезистов в наибольшей степени отвечает методика, разработанная в лабораториях фирмы IBM (США) [79]. Сначала экспериментально подбирают такие условия проявления, чтобы время полного проявления неэкспонированного слоя данного резиста толщиной 1 мкм составляло 1240 с (стандартный режим проявления). Затем регистрируют толщину слоя в процессе проявления резиста, экспонированного разными дозами (рис. VII. 18, а). Из этой зависимости для каждой дозы облучения и времени, соответствующего d — О, находят толщину неэкспонированного слоя резиста расч, зависимость которой от дозы представлена на рис. VII. 18, б. Оптимальная чувствительность Donr определяется из полученной таким образом зависимости графической экстраполяцией к исходной толщине резиста. [c.240]

Наибольшее распространение при определении фосфора в шлаках имеет метод брикетирования без предварительного сплавления [543, 642, 666, 769, 852, 1079]. Спектральный прибор — вакуумный квантометр с обратной линейной дисперсией 0,3—0,8 нм/мм продувка штатива аргоном, скорость продувки 2 л/мин. Аналитическая линия Р 178,3 нм. В качество противоэлектро-да используют серебряный пруток диаметром 5—6 мм, заточенный на конус с углом при вершине, равным 90°. После каждого обыскривания противоэлектрод очищают жесткой волосяной кисточкой. Межэлектродный промежуток составляет 5 мм, проба — катод. Время обжига 20 сек. Продолжительность экспонирования 20 сек. Каждая проба обыскривается 3 раза. [c.119]

Как показано на рис. 3.95, метакрилатные резисты типа ГВМ-ПО обладают спектром поглощения, несколько смещенным в сторону более коротких волн (максимум коэффициента поглощения находится при 215 нм) по сравнению со спектром ртутных ламп высокого давления экспозиционных устройств, используемых в настоящее время (длина волны около 300 нм). По этой причине при экспонировании ртутными лампами высокого давления нельзя обеспечить требуемую чувствительность вместе с тем при использовании ламп, спектр которых находится в более короткой области длир волн, например ламп на дейтерии (длина волны около 180 нм), чувствительность ГВМ-ПО в 8 раз выше чувствительности ПММА, и если будет реализовано экспозиционное устройство с такой длиной волны, то ГВМ-ПО может использоваться как резист для дальних ультрафиолетовых лучей. Более того, поскольку это соединение обладает чувствительностью к коротким длинам волн, существуют определенные пре=-имущества и с точки зрения микроминиатюризации. [c.244]

Необходимо также отметить, что нри определении азота в металлах существенное влияние на результаты анализа оказывает поступление газа из противоэлектрода. Свежезачищен-ный медный или вольфрамовый пруток, безусловно, содержит некоторое количество азота, которое может внести ошибку в результаты определения. Эта ошибка различна для разных случаев, но обычно весьма значительна. На фотографиях спектров медных и вольфрамовых пар электродов линии азота имеют значительную интенсивность, которая при повторных экспозициях на уже обыскренные электроды быстро спадает (рис. 2). Следовательно, обыскривание противоэлектродов перед экспонированием образцов является необходимым приемом анализа. Однако следует подчеркнуть, что поступление азота из противоэлектрода во время горения искры с парой медных электродов не может быть механически перенесено на поступление азота из медного противоэлектрода при анализе. При сравнении хода концентрационной зависимости с обожженными и необожженными противоэлектродами выяснилось, что для сталей с присадкой хрома сильного загрязнения азотом противоэлектрода не наблюдается. И все же влияние необожженного противоэлектрода сказывается. Отдельные графики сохраняют свой прямолинейный ход, в то время как многие дают увеличение интенсивности линии азота в образцах с содержанием азота —0,01%. Влияние противоэлектрода усиливается с увеличением глубины его зачистки. При малой глубине (ручной полировке личным напильником), по-видимому, сохраняется эффект отжига предыдущим обыскриванием, и добавка весьма мала. Сравнительный ход графика с отожженным и не-отожженным медным противоэлектродом приведен на рис. 3 График построен на основании усреднения девяти графиков полученных с неотожженным противоэлектродом, имевших существенный разброс, и шести графиков с отожженным противоэлектродом. Таким образом, для получения надежных [c.283]

В лабораторной практике в настоящее время для анализа остаточных количеств пестицидов в воде широко используют тонкослойную хроматографию с различными автоматическими приборами и приспособлениями, что обеспечивает хорошую воспроизводимость результатов определения [47]. В качестве сорбентов используют силикагель и окись алюминия. Для обнарунсепия хлорорганических пестицидов на тонкослойных хроматограммах обычно используют аммиачный раствор азотнокислого серебра. После обработки пластинки этим раствором и экспонировании в УФ-свете хлорорганические пестициды обнаруживаются в виде черных или темно-серых пятен на белом фоне. [c.226]

Следующим естественным этаном исследования была задача полного уничтожения фотографической чувствительности как на новерхности, так и внутри эмульсионных зерен. В работах [33—37] было показано, что бромная вода разрушает как поверхностное, так и внутреннее скрытое изображение. Поэтому для разрушения примесных центров во всем объеме микрокристаллов была применена окислительная обработка эмульсионных слоев бромной водой. Действительно, такое бромирование полностью уничтожало поверхностную и глубинную светочувствительность в пределах фотографической широты исходной эмульсии. В другой серии опытов после окисления проводили дополнительную обработку растворами триэтаноламина, триэтиламина и этилендиаминхлорида. Во всех случаях наблюдалась [38] регенерация до определенного уровня не только поверхностной, но и глубинной светочувствительности (рис. VIII.9), причем характерным является одинаковый эффект при действии всех трех веществ. Поскольку амины могут быть донорами электронов, то следовало ожидать, что они будут проявлять двоякое действие — восстанавливать во время обработки междуузельные ионы серебра, а при экспонировании фотолитический бром. Но так как даже при химическом созревании подавляющая часть сенсибилизаторов (гидразин, производные тиомочевины) остается в адсорбированном состоянии, то, по всей вероятности, в данном случае эффект возобновления светочувствительности вызван главным образом связыванием положительных дырок . Этот вывод находится в согласии с количественно одинаковым влиянием всех трех применявшихся аминов. [c.323]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология