Разложение в плазме газового разряда

Для МОС различного типа влияние указанных выше факторов часто носит специфический характер. (Подробно влияние различных факторов на скорость осаждения и свойства получаемых пленок будет рассмотрено в главах 7 и 8 при обзоре работ по разложению конкретных МОС.) К настоящему времени разложение в плазме газового разряда было использовано для получения пленок металлов и окислов из органических соединений кремния, германия, олова, свинца, титана, бора, железа, молибдена, вольфрама, алюминия. [c.202]

Реакции образования покрытий из газовой фазы возможны при более низких температурах, если реакционной системе придать энергию электрических газовых разрядов. На практике прибегают к воздействию на газовые системы как разрядов постоянного тока (в том числе тлеющих), так и высокочастотных. Различные варианты реализации этих процессов известны как технология разложения газовых смесей в низкотемпературной плазме газового разряда. [c.46]

Пленки различного назначения, используемые в электронике, могут быть получены такими методами, как осаждение из газовой или паровой фазы, напыление в вакууме, катодное распыление, химическое и электролитическое осаждение, вжигание, а также разложение под воздействием электронного луча, излучения оптических квантовых генераторов и в плазме газового разряда. [c.3]

Описано большое количество установок для разложения МОС в плазме газового разряда, однако, несмотря па их разнообразие, все они содержат основные узлы, присущие установке, изображенной па рис. 6-14. [c.198]

Получение пленок из МОС основано на их способности выделять чистые металлы или их соединения под воздействием различных форм энергии. Наиболее хорошо изучены и широко применяются на практике методы получения покрытий разложением МОС в паровой фазе под воздействием тепла, в плазме газового разряда и под воздействием электронного луча и излучения оптических квантовых генераторов. Ниже приводятся различные способы получения покрытий из МОС. [c.183]

Разложение в плазме газового разряда [c.198]

В последнее время привлекло внимание получение пленок при разложении МОС в плазме газового разряда. При этом продукты реакции осаждаются в виде металлических пленок или соединений в зависимости от условий проведения процесса. [c.198]

Преимуществом метода осаждения пленок разложением МОС в плазме газового разряда является то, что подложка может иметь температуру, близкую к комнатной. [c.198]

В отличие от обычного осаждения пленок в плазме газового разряда осаждение пленок из ионного пучка, вытянутого из плазмы, сопровождается более полным разложением МОС благодаря дополнительной бомбардировке ускоренными ионами образующейся пленки, вследствие чего последняя меньше загрязняется углеродом. [c.202]

Разложение МОС в плазме газового разряда может бить использовано и для получения порошков чистых окислов. Для этой цели разложение ведется в токе кислорода в объеме реакционной камеры. [c.203]

С целью получения пленок, отвечающих различным требованиям и назначениям, для разложения кремнийорганических соединений широко использовались такие методы, как термическое разложение в паровой фазе, разложение в плазме газового разряда и под воздействием электронного луча. Нам представляется необходимым рассмотреть эти методы в отдельности. [c.337]

Изучены диэлектрические свойства пленок, получаемых разложением кремнийорганических соединений в плазме газового разряда и возможность их применения для изготовления конденсаторов (см. раздел 10.6). Маскирующие свойства этих пленок и возможность их использования при создании электронно-дырочных переходов в полупроводниковых приборах рассматриваются в разделе 10.4. [c.353]

К настоящему времени разработаны и описаны различные способы получения в чистом виде окислов металлов и различных соединений с использованием МОС. К числу таких способов относятся термическое разложение в-паровой фазе, разложение в плазме газового разряда в токе кислорода, выделение окислов и соединений из растворов МОС их гидролизом, а также высокотемпературный гидролиз в паровой фазе. Каждый из этих методов имеет свои преимущества и недостатки. Так, например, при жидкофазном гидролизе, осуществляемом при комнатной температуре, возможно использование-аппаратуры из полимерных материалов, однако процесс является многостадийным. Осаждение из паровой фазы проводится в одну стадию, но требует применения уже довольно сложной аппаратуры. [c.399]

Условия осаждения пленок двуокиси кремния в плазме газового разряда разложением тетраэтоксисилана в среде кислорода и свойства полученных на их основе тонкопленочных конденсаторов, но данным работы [139], приведены в табл. 10-13. [c.443]

В настоящее время для стабилизации параметров германиевых приборов па их поверхность наносят различными методами окисные пленки. К числу таких возможных методов следует отнести и методы получения окисных пленок разложением МОС в паровой фазе. Осаждение пленок может быть осуществлено термическим разложением МОС при температурах 300—700° С в плазме газового разряда. В последнем случае подложка может иметь температуру, близкую к комнатной. [c.453]

Наличие этой главы в книге объясняется стремлением автора обосновать общую систему реконструкции ядерного топливного цикла па основе новых методов аффинажа и плазменных процессов с включением в него и разделительного уранового производства. В отличие от других глав, построенных преимущественно па основе моих собственных работ, эта глава построена на опубликованных материалах моих коллег из Института молекулярной физики РНЦ Курчатовский институт и зарубежных источниках. Тем не менее следует сказать, что моя работа в области физики, химии и технологии плазмы началась с того, что я был включен в группу физиков, занявшихся плазменной технологией разделения изотопов урана с помощью бегущей электромагнитной волны и плазменной центрифуги. Объектом исследования был газообразный гексафторид урана, в экспериментах по разделению позднее стали использовать смеси гексафторидов урана и вольфрама. В этой группе я был единственным, имевшим базовое химическое образование (я окончил химический факультет Ленинградского государственного университета) возможно, поэтому, изучив хрестоматийный материал по свойствам плазмы различных газовых разрядов, я обратил внимание на то, чем совершенно пренебрегли физики на радиационно-термическую и фотохимическую неустойчивость объекта разделения — молекул гексафторида урана. Но моим расчетам выходило, что в условиях высокочастотных разрядов низкого давления молекулы иГб должны распадаться на молекулы ПРб, иГ4, иГз, Гз и атомы Г кроме того, должны возникать положительно и отрицательно заряженные ионы, так что первоначальная задача разделить изотопы урана в молекулах иГб неизмеримо усложнялась. Еще большие осложнения возникали из-за конденсации фрагментов молекул иГе и в объеме, и на стенках. Эти явления описаны в одном из параграфов следующей главы. Мои попытки минимизировать указанные процессы добавлением фтора в зону разряда позволили несколько уменьшить степень разложения иГб, но не подавить этот процесс даже в статических условиях, пе [c.465]

Вид разряда определяется давлением газа и расстоянием между противоположно заряженными поверхностями. Газовые разряды весьма кратковременны (порядка 10- сек). С электрическими разрядами связано возникновение плазмы, т. е. частиц с высокой энергией (быстрых электронов, ионов, возбужденных атомов и молекул, квантов света) и, возможно, разложение твердых тел [c.442]

Вопреки мнению некоторых исследователей 7, 8] обильное газовы-деление связывается с разложением высшей перекиси водорода, образующейся в конденсате при вымораживании плазмы тлеющего разряда-в парах воды или перекиси водорода, а также в результате реакции атомарного водорода с жидким озоном [1—3]. Это было показано всесторонним изучением свойств конденсированных систем [3—6]. [c.248]

В книге, написанной коллективом американских авторов, после краткого изложения основ физики газового разряда (тлеющего, дугового постоянного тока, высокочастотного) дана характеристика электроду говых подогревателей (плазматронов) и приведены некоторые простейшие критерии моделирования. Далее описаны конструкции высокочастотных плазматронов и их применение, например для выращивания кристаллов, и в плазмохимической технологии, в частности для реакций разложения хлоруглеводородов. Специальная глава посвящена генерации сверхвысокочастотной плазмы, характеризующейся значительным различием между температурой (энергией) электронов и температурой тяжелых частиц, т. е. неравновесностью. [c.5]

Протекание электрического разряда в жидкости вызывает сложный комплекс явлений ионизацию и разложение молекул в плазме канала и возле него, световое излучение канала разряда, ударные волны, интенсивное ультразвуковое излучение, пульсацию газового пузыря, кавитационные процессы, импульсные магнитные поля [141—143]. [c.84]

Процесс можно осуществить в азотной плазме, т. в. с одновременным использованием азота в качестве газа разряда. Источником углерода служит расходуемый графитовый катод, а водород вводится непосредственно в область разряда (в плазму). Вследствие большого эндотермического эффекта реакции достаточно высокие выходы H N могут быть получены лишь при температурах выше 3000°. С понижением температуры равновесие реакции сдвигается в сторону разложения H N на исходные вещества. Поэтому с целью сохранения возможно большего количества H N в газе газовая смесь подвергается закалке — резкому охлаждению. [c.1541]

На процесс осаждения пленок путем разложении МОС в плазме газового разряда и на свойства получаемых пленок вшяет ряд факторов. К их числу следует отнести тип разряда, мощность разряда, плотность тока тлеющего разряда, пототщиал подложки, геометрию реакционной камеры, отношение площади подложки к площади попоротого сечения камеры, первоначальное давление остаточных газов, давление в камере, состав газового потока, скорость поступления паров МОС, температуру подложки, скорость и время осаждения. [c.202]

Отметим также, что воздействие плазмы газового разряда на МОС использовалось для активизации пиролитичсского разложения МОС [45]. [c.203]

Разложением тетраэтилолова в плазме газового разряда получены топкие металлические пленки олова с удельным сопротивлением 10 5—10 u ом-см it пленки, обладающие полупроводниковыми свойствами с удельным сопротивлением 10 -—К)3 ом-см. [c.243]

В работе [457J исследована возможность получения тонких пленок молибдена разложением гексакарбопила молибдена в плазме газового разряда. В ходе экспериментов давление паров карбонила поддерживали на уровне 5-10 4—3-Ю"3 мм рт. ст., температуру подложки изменяли в интервале 15(1— 300° С, а напряжение — от 900 до 1900 в. Температура испарителя во всех опытах была постоянной (75—80° С). Продолжительность роста пленки [c.270]

Разложение кремний-органических соединений в плазме газового разряда. Метод разложения паров кремпийорганических соединений в плазме газового разряда находит широкое применение для изготовления диэлектрических пленок. Для этой цели используется тлеющий или высокочастотный разряд, а плазма создается как из паров самого разлагаемого соединения, так и из молекул остаточного газа или специально вводимых газов (аргон, кисло- [c.344]

Интересным вариантом метода электронно-лучевого плавления, пригодным для выращивания кристаллов непроводящих материало1В, является метод полого катода, иначе называемый методом холодного катода [87]. Этот. метод основан на самостоятельном газовом разряде постоянного тока, создаваемом в полом катоде кольцевой фор. 1ы, окружающем рабочую зону. При давлении Аг, Ог и других газов в несколько миллиметров ртутного столба и при напряжении на катоде в несколько киловольт испускаемые катодом электроны ионизируют газ и образуют проводящую плазму. Ток в плазме достигает нескольких сот миллиампер, причем анодом может служить любая удобная заземленная деталь системы. Таким образом, в отличие от традиционного электронно-лучевого плавления в рассматриваемом случае нагреваемый материал не обязательно должен быть электропроводящим, чтобы замыкалась электрическая цепь. Придавая внутренней стороне катода соответствующую форму, можно сфокусировать электроны и образующиеся ионы на образец и добиться его плавления. Хороший материал для катода — нержавеющая сталь. Хотя катод частично охлаждается циркулирующей внутри него водой, наилучщие результаты, по-видимому, получены при температурах катода, лежащих лишь немного ниже температуры красного каления. В этом смысле термин холодный катод не совсем правилен. Для плавления материалов с температурами плавления, намного превышающими 2200—2500 °С, нержавеющая сталь не годится и требуются другие материалы. Для поддержания плазмы необходимы низкие давления газа, причем достаточно легко ионизирующегося (а не высокий вакуум, как при обычном электронно-лучевом плавлении). Этот газ выполняет еще одну положительную роль, подавляя разложение расплавляемого материала. Такая методика успешно использовалась [87] для выращивания монокристаллов сапфира, иттрий-алюминиевого граната и других веществ методом плавающей зоны. Она, по-видимому, весьма перопективна [c.226]

UF -Ь (6 — n)/2F2. При наличии закалочного устройства состав нелетучих продуктов разложения UFe находился в пределах UF4 6 UF4, причем состав слабо зависел от колебательной мош ности разряда и среднемассовой температуры в плазме однако, согласно полуколи-чественпым данным, содержание фтора в UF заметно понижалось с увеличением скорости охлаждения продуктов разложения и скорости разделения конденсированной и газовой фазы. При колебательной мощности 15 20 кВт и расходе UFe 3 кг/ч среднемассовая температура в зоне разряда с учетом возможных потерь была не менее 6000 К. Если сравнить расчетный квазиравновесный состав (U-F)-плазмы при такой температуре и состав продуктов разложения UFe, извлеченных из приемника, то несоответствие этих составов можно объяснить только интенсивной рекомбинацией и в газовой, и в конденсированной фазах. Очевидно, что теплообменники, примененные для закалки (и-Е)-нлазмы, были малоэффективны. Возникает вопрос с какой скоростью нужно охлаждать (U-F)-плазму, чтобы получить в конденсированной фазе уран или другой продукт заданного состава Он тем более актуален, что в работе [28] Барк представил результаты кратковременных экспериментов по разложению UFe в электродуговом разряде. В этих экспериментах UFe вводили в разрядную камеру электродугового плазмотрона, работавшего па аргоне. Катод плазмотрона был выполнен из торированного вольфрама, анод — из электролитической меди. Мощность плазмотрона (без учета КПД) — [c.505]

Способ получения аморфных пленок на различных подложках (металлических и неметаллических) в результате реакций в газовой фазе металлоорганических соединений типа Й М или (КО) М, где Н — С2Н5, С3Н7 и т. д. с активными газами, генерируемыми в СВЧ-разряде, описан в [83]. При использовании кислородной плазмы получены пленки окислов кремния, германия, бора, олова, титана. Подложки помещали вне зоны разряда. В случае их подогрева выше некоторой критической температуры, значение которой определяется скоростью потока реагентов и условиями разряда, в пленках отсутствуют примеси других продуктов разложения реагента. Изучено влияние температуры подложки, давления, скорости потока и электрических параметров плазмы на скорость роста пленок. Для получения нитридных или оксинитридных пленок предложено использовать плазму азота или окиси азота. [c.426]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология