Слой демпферный

В заключение рассмотрим метод искровой ионизации. Искровой электрический разряд в вакууме осуществляется в узком зазоре между двумя электродами, изготовленными из исследуемого материала. Такой разряд вызывает образование ионов основного вещества, а также ионов примесей объемного и поверхностного происхождения [18] практически с равновероятной ионизацией. При благоприятных режимах работы и при использовании напыленной на поверхность образца демпферной алюминиевой пленки [18] искровой разряд затрагивает поверхностный слой лишь на глубину (1-н2)-10 м. [c.51]

Для тяжелых, дорогих турбомашин некоторое усложнение конструкции демпфера не играет существенной роли, если этим достигается его большее совершенство, его большая эффективность в отношении стабилизирования движения ротора. Для турбомашин с переменным числом оборотов или иными существенно изменяющимися условиями работы могут быть построены демпферы с автоматически регулируемой величиной вязкого сопротивления. Это достигается изменением длины вязкого слоя с посредством выдвижных втулок или же изменением толщины слоя Не установкой проставок из чувствительных к изменению температуры пластмассовых втулок. Для этой же цели может специально изменяться или, наоборот, поддерживаться постоянная температура, а вместе с ней и вязкость демпферной жидкости. [c.204]

Причем параметры с и Q имеют то же значение, что и в соотношениях (23). Параметр Q ) выражает собой обобщенную упругость демпферной опоры. При й,,- оо уравнение (38) переходит в уравнение (51) гл. III, и тогда движение рассматриваемого ротора оказывается неустойчивым. Иначе, при большой упругости газового слоя, когда 0 или В/ М, уравнение (37) при 1Пд =0 равносильно уравнению (22), и тогда условия устойчивости такие же, как и у рассмотренных ранее роторов с жидкостной смазкой. Граница области устойчивости может быть найдена подстановкой ражается соотношениями [c.217]

I — корпус 2, 5 — дроссели 3 — демпферный слой смазки 4 — втулка подшипника 6 — рабочий слой смазки 7 — цапфа вала [c.241]

Толщина смазочного слоя Яе в круговом цилиндрическом подшипнике и Яз в демпферном слое 3 (см. рис. 59) выражается соотношениями [c.242]

Согласно уравнению Рейнольдса (43) гл. I и с учетом первых граничных условий (95) давление в смазочном и в демпферном слоях опоры выражается соотношениями [c.243]

В этих параметрах величины и Оз выражают собой упругое взаимодействие газового слоя в подшипниковой и демпферной части опоры с ротором подобно тому, как это выражено в соотношении (52) гл. III. В случае весьма коротких подшипников в характеристическое уравнение входят трансцендентные функции искомой комплексной частоты у, аналогичные функциям, которые входят в уравнения (55) гл. IV и (78) гл. IV. Ввиду большой сложности таких функций целесообразно прибегать к упрощенным их представлениям в виде параметров (106) с несколько измененными коэффициентами q, Q и с, Оз- [c.246]

Если установлено, что значительные колебания ротора возбуждаются действием смазочного слоя подшипников, то с ними пробуют бороться переделкой установленных подшипников или же серьезными изменениями их конструкции. Чаще всего сначала пытаются обойтись небольшими переделками. При сохранении габаритных размеров опоры изменяют зазор в подшипнике или демпфере (если он есть), вырубкой балочек ослабляют упругость демпферной стойки, изменяют овальность или форму клиновых зазоров в овальных или многоклиновых подшипниках. Такие работы уместно выполнять, ориентируясь данными хотя бы приближенных расчетов и испытаний при измененной температуре или давлении смазки. [c.289]

Автоколебания устраняются посредством постановки подшипников на упруго-демпферные опоры, а также изменением свойства силового поля в слое смазки путем статического нагружения ротора и приданием подшипниковому вкладышу овальной или многолепестковой формы. Ввиду трудности демпфирования автоколебаний подшипников с газовым смазочным слоем, обладающим большой податливостью, а также ввиду недостаточной эффективности других названных мероприятий представляет большой интерес изыскание новых способов преобразования смазочного слоя и непосредственного воздействия на ротор упругими и демпфирующими силами. [c.96]

Рис. 5.8. Действие демпферного алюминиевого слоя, напыленного на поверхность кремния.

Важная роль в методе тонкой искровой обработки поверхности образца принадлежит демпферному слою. На его распыление затрачивается значительная часть энергии, выделяющейся на электроде в момент пробоя. [c.170]

Влияние памяти на результаты послойного анализа. Толщина демпферного алюминиевого слоя на поверхности образца в процессе анализа остается постоянной благодаря переносу вещества между электродами. Наряду с алюминием переносится н материал пробы, а также содержащиеся в ней примеси. Поскольку часть распыленного вещества вместе с примесями полностью не удаляется из области разряда, перенос распыленных частиц должен вызвать наличие памяти , что [c.174]

При конструировании демпферной опоры рассчитывают упругость стойки и толщину демпфирующего слоя масла, а затем при механической отладке машины рассчитанные размеры уточняются [3], 145]. [c.161]

В синхронных компенсаторах с массивными полюсами демпферная обмотка в обычном исполнении отсутствует. Ее роль играют естественные демпферные контуры, образуемые вихревыми токами в поверхностных слоях полюсных наконечников. Для увеличения токов в естественных демпферных контурах к омедненным торцевым поверхностям наконечников массивных полюсов прибалчиваются медные сегменты, объединяемые в короткозамыкаюш,ие кольца с помош,ью гибких межполюсных перемычек (см. гл. 4). [c.175]

Эти структуры отличаются от гомогенных ВПС тем, что в них юпределенным образом меняется состав. Например, вдоль толщины слоя меняется соотношение сетчатых структур 1 и 2. Такие градиентные ВПС могут быть синтезированы при полимеризации мономера, который неоднородно распределен в сетке полимера в результате набухания его в этом мономере. Если эластомерный слой набухает с одной стороны в мономере, образующем жесткий полимер (или наоборот), то возникает демпферная система со структурой градиентной ВПС. Конечно, материал должен наноситься на вибрирующий элемент каучукообразной стороной вниз (рис. 13.11). Применение композиций с градиентным составом обеспечивает расширение рабочего температурного интервала демпфирования [867]. [c.400]

Ввиду того что при защите проволочных резисторов материал наносится на поверхность, состоящую из керамики и металла, а в некоторых случаях и демпферного слоя, в процессе отработки технологии нанесения был выбран вариант двухслойного покрытия. Наличие грунтовочного подслоя обеспечивает2хорошую адгезию основного слоя, в том числе и при напылении изделий на демпферный слой (рис. 44). [c.74]

Изображенные на рис. 43 и 44 упруго-демпферные подшипники состоят из собственно подшипника 5 любого типа (качения, скольжения, гидростатического подшипника скольжения и т. п.), упругого элемента в виде втулки с прорезями 3 и элемента вязкого сопротивления в виде кольцевого слоя вязкой жидкости 4 между цапфой демпфера (вибратором) и корпусом турбомашины. Упругий элемент в опоре, изображенной на рис. 43, по своей форме напоминает беличье колесо и выполня- [c.198]

Замечательное свойство устойчивости при высоких угловых скоростях вращения роторов с демпферными опорами обусловлено динамической структурой газового (но не жидкосгного ) смазочного слоя, обладающего упругим и притом безынерционным сопротивлением (см. рис. 24 и 52). [c.218]

Некоторое улучшение рассматриваемых гидростатических демпферных подшипников может быть достигнуто посредством камер на выходе из дроссельных каналов. При этом камеры следует выполнять в смазочном слое подшипника, а не демпфера. Уменьшения расхода смазки можно достичь частичным или полным уплотнением демпфирующего слоя 3 по его концам при z = = Lp (см. рис. 59). Однако это снижает демпфирующие качества опоры и может повести к возникновению не зависящих, точнее, мало зависящих от вращения ротора автоколебаний типа пневмомолот . Во избежание этого следует увеличивать входное дроссельное сопротивление, характеризуемое величиной Яг, и несколько снижать промежуточное сопротивление с относительной величиной Я). [c.247]

С учетом сжимаемости смазочного слоя или с учетом упругой податливости смазочных коммуникаций колебания роторов, установленных на упруго-демпферные опоры, описываются уравнениями, которые составляются на основе уравнений (67) или (80) гл. IV и (20). Оказывается, что при помощи демпферов эффективно подавляются автоколебания типа пневмомолот , если только параметр их возбуждения х по соотношению (67) гл. IV не очень велик. В последнем случае влияние демпфера на устойчивость колебаний не очень большое и условия устойчивости (74) гл. IV изменяются ненамного. При борьбе с такими колебаниями упругость демпфера К = следует назначать близкой к гидростатической упругости Ко по соотношению (70) гл. IV. При этом вязкое сопротивление в демпфере следует выполнять несколько большим величины по соотношению (30). Точнее оптимальные параметры демпфера находятся из условия Рауса — Гурвица (21) гл. I для характеристического уравнения, соответствующего изучаемым колебаниям ротора. [c.247]

В рассматриваемой конструкции масса подвижных частей демпфера не превышала 10% массы всего ротора 2т. Демпфирующий слой смазки для машины 2 выполнялся с размерами Не = 7 см, 1с = 3,6 см, Яс = 0,026 см = 7,2-10- При вязкости смазки 1 = 5-10 кгс-сек см- согласно соотношению (7) гл. V коэффициент вязкого сопротивления в демпфере был равен С = 29,2 кгс сек-см что составляет 120% величины КиОТ или 26,5% величины 2т 21. Автоколебания рассматриваемого ротора эффективно подавлялись при вязком сопротивлении в демпфере в пределах С = 12 + 80 кгс сек см . Относительное инерционное сопротивление демпферной жидкости по сравнению с ее вязким сопротивлением рассчитывается по соотношению (68) гл. И и здесь, при частоте автоколебаний Г О] и частоте вынужденных колебаний V = (о, составляло 0,2д- (01) = = 0,07 и 0,2 0-2 (со) = 0,17. Таким образом, в отличие от подшипников инерционное сопротивление смазки в демпфере имело уже ощутимую, хотя и вполне допустимую величину. Число Рейнольдса для демпферной жидкости даже в случае больших колебаний с амплитудой У = 10 сл и с частотой V = со согласно соотношениям (10) и (99) гл. II составляло Кеэ = рр. Х X сУсо = 90, что совсем немного. [c.260]

В первом случае при колебаниях вибратора происходит только периодическая деформация жидкого слоя во втором же случае — взаимообмен между жидкостью, находящейся в демпферном зазоре и в ванне. В демпферах с разомкнутым каналом некоторая энергия (W) расходуется на приведение жидкости в движение из состояния покоя. Так как приводимая в движение масса жидкости пропорциональна скорости колебаний вибратора, а ее живая сила пропорциональна квадрату этой скорости, то эта составляющая сопротивления в силу равенства со83(о = 0,75 со5сй/-ь [c.91]

С увеличением импульсного напряжения доля алюминия в полном ионном токе возрастает (см. рис. 2.9, а), что свидетельствует о возрастании толщины демпферного алюминиевого слоя. Поэтому глубина эрозии кре.мния должна увеличиваться незначительно. Если положить, что отношенне п.м/Ле не зависит от величины напряжения на электродах перед пробоем, с помощью данных рис. 2.9, а можно получить примерную зависимость глубины кратеров в кремнии от напряжения пробоя (рнс. 5.9), иллюстрирующую демпферное действие напыленного алю.миниевого слоя. Во всем интервале напряжений пробоя глубина /гз1 не превышает 0,25 мкм. Если напряжение на электродах в момент пробоя равно 29 кв, глубина эрозии кремния под алюминиевым слоем. достигает 0,2 мкм. Поскольку при этом Дл. //гл1= 190 (см. рис. 2.4), одним импульсом искры с поверхности электрода удаляется око.ло 3500 мкм вещества. Количество распыленного кремния равно примерно 0,27 от полного объема кратера, что соответствует 5-10 атомов, или в 5-10 раз больше, чем это было достигнуто Хикэмом и Суини [12] при той же глубине кратеров. [c.170]

Наличне демпферного алюминиевого слоя на поверхности образца вызывает еще один эффект. При обычном масс-спектро-метрическом анализе статистическое наложение отдельных кратеров, а также неравномерное запыление поверхности веществом, перенесенным с противоположного электрода, создают заметные неровности на поверхности образца. Поэтому глубина проникновения импульсов вакуумной искры в образец во многих местах оказывается значительно больше глубины отдельного кратера (см. рис. 5.5). В данном же случае наличие под напыленной алюминиевой пленкой кремния, который труднее распыляется вакуумной искрой, приводит к постоянному сглаживанию неровностей на поверхности алюминиевого слоя. Сказанное иллюстрирует рис. 5.10, на котором в схематическо.м виде изображен результат иоследовательного наложения импульсов искрового разряда на три соседних участка (Л, В и С) поверхности образца. Если эксперимент проводится при напряжении пробоя 18 кв, толщина напыленного слоя на поверхности образца равна примерно 1 мкм. Пусть в результате неравномерной искровой обработки образца толщина алюминиевого слоя в разных точках оказалась неодинаковой, причем разница уровней составила 1 мкм (рис. 5.10, а). Согласно расче- [c.171]

Для выбранных условии эксперимента 081=0,78 л(юи 2,7 = = 0,29 мкм. Иными словами, масс-спектрометрическим методом вакуумной искры с использованием алюминиевой демпферной пленки могут быть уверенно проанализированы слон кремния толщиной меньше 1 мкм. Точность снятия тонких слоев пробы может быть дополнительно повышена при использовании авто-матической системы для поддержания постоянной величины межэлектродного зазора. [c.174]

Образцы из легкого бетона были изготовлены размером 10X10X30 см с арматурой в виде стержней из стали Ст.5, диаметром 8 мм п длиной 80 мм, шлифованных до 7-го класса чистоты. Перед бетонированием стержни маркировали, взвешивали на демпферных аналитических весах и обезжиривали растворителем Р-4. Толщина защитного слоя бетона у арматуры 15 мм. Бетонную смесь уплотняли на лабораторной виброплощадке. Все бетонные образцы подвергали пропариванию при температуре 85° С по режиму керамзитобетон [c.56]

Этот метод был применен для защиты бескорпусных транзисторов с гибкими и твердыми выводами [156]. Разводка в них сделана из никеля с подслоем ванадия, что позволяет использовать для защиты стёкла с температурой размягчения до 900° С. Защитное покрытие наносили в два этапа. На первом этапе создавали буферный слой Si02 толщиной 0,3 мкм термическим разложение. тетраэтоксисилапа в атмосфере кислорода при температуре 400° С в течение 2 час. Пиролитическая пленка Si()2 предохраняет разводку от взаимодействия со стеклом и служит в качестве демпферного слоя, уменьшая внутренние напряжения в пленке стекла из-за несоответствия коэффициентов термического расширения кремния и стекла. На втором этапе наносили стекло пульверизацией раствора шихтового состава из форсунки с последующим оплавлением на воздухе при температуре 500° С в течение 10 мин. Температуру в камере для напыления поддерживали при 80 + 5° С, время нанесения составляло 1—2 мин. Для предотвращения растрескивания стекла при оплавлении скорость подъема температуры до заданного уровня и последующего снижения ее не должна превышать 25 град/мин. Для получения плотной и равномерной по толщине пленки стекла цикл нанесения и оплавления повторяли два раза. В этих условиях получали пленку стекла толщиной 1,5 мкм. В работе [15(5] приведены составы используемых растворов, составы и физико-химические свойства полученных пленок стекла. Результаты, полученные при климатических испытаниях бескориуспых транзисторов, защищенных этим способом, позволили установить в технических условиях норму по влагостойкости — 10 суток при относительной влажности 1)5 + 3% и температуре 40 гЬ 5° С. [c.454]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология