Анодное травление

Чаше всего применяют анодное травление. Процесс анодного травления заключается в электролитическом растворении металла и механическом отрывании окислов выделяющимся кислородом. В качестве электролита применяют растворы кислот или соли соответствующего металла. Анодом при этом служит подвергаемое травлению изделие, а катодом — свинец, железо, медь и пр. Плотность анодного тока обычно бывает выше 5—10 А/дм , при этом на катоде происходит ovp ioe выделение водорода. [c.126]

Межкристаллитную коррозию нержавеющих сталей можно также выявить электрохимическим путем — анодным травлением в течение 5 мин при плотности тока 0,65 а/см и 20 Ю С в 60%-ном растворе серной кислоты с 0,5% уротропина или другого замедлителя коррозии. Метод анодного травления, заключающийся в анодной поляризации исследуемого участка поверхности стали, обладает тем достоинством, что позволяет быстро (1,5—5 мин) определять склонность стали к межкристаллитной коррозии непосредственно на полуфабрикатах и готовых сварных изделиях. Применение этого метода дает возможность производить межоперационную проверку склонности металла к межкристаллитной коррозии и соответствующей термической обработкой устранять эту склонность. [c.345]

Довольно часто наблюдается влияние кристаллографической ориентации на скорость коррозии металлов. Так, медный моно-кристаллический - электрод, выточенный в форме шара, после анодного травления в растворах фосфорной и серной кислот принимает форму многогранника. При травлении металлографических шлифов на зернах с различной кристаллографической ориентировкой получают разные фигуры травления (рис. 224). [c.326]

Анодное травление основано на электрохимическом растворении металла и механическом отрывании окислов выделяющимися пузырьками кислорода. Катодное травление происходит за счет электрохимического восстановления и механического отрывания окислов металла бурно выделяющимся водородом. Этот способ травления применяется только для нелегированных сталей, покрытых окалиной. [c.374]

Анодное травление кристаллов электронных полупроводников происходит чрезвычайно медленно и поэтому редко применяется на практике. Возможно, однако, электролитическое травление п области полупроводникового прибора. Последнее связано с выделением атомарного кислорода на подведенном к п области металлическом выводе. Выделяющийся атомарный кислород окисляет близлежащие участки поверхности прибора, которые затем растворяются в электролите. [c.203]

Для повышения износостойкости цилиндров двигателей внутреннего сгорания, поршневых колец и других деталей, работающих в неблагоприятных условиях смазки, толстые (до 200— 300 мкм) осадки хрома, полученные при указанных выше условиях, подвергают анодному травлению в том же электролите при 52—58 °С и = 35—45 А/дм в течение б—10 мин. При этом хром растворяется преимущественно по трещинам, которые расширяются и углубляются. В результате поверхность хрома оказывается изрезанной сеткой каналов, ограничивающих площадки гладкого хрома. [c.420]

Методами комбинационного рассеяния света и фотолюминесценции исследованы образцы графита с разупорядоченной кристаллической структурой. Исследован широкий набор образцов, полученных различными технологическими методами - облученный графит, углеродные пленки полученные разложением углеводородов и плазменным напылением, методом анодного травления впервые получен пористый графит и др. [c.144]

Чаще электрохимическое травление производят постоянным током в растворах кислот и щелочей. Обрабатываемая деталь может быть как катодом, так и анодом. При катодном травлении удаление окислов происходит за счет их восстановления водородом и механического отрыва от металла пузырьками-газа. При анодном травлении происходит отделение окислов от поверхности выделяющимся газом, чему одновременно способствует и растворение металла. [c.215]

При анодном травлении поверхность стали часто перетравливается и загрязняется шламом, который необходимо удалять. Вследствие плохой рассеивающей способности электролитов, применяемых для анодного травления, этот способ не пригоден для очистки от окислов изделий сложной конфигурации. [c.374]

Анодные процессы а) травление металла до нужной толщины (изделие) помещают на анод (+) и металл начинает растворяться со скоростью, определяемой плотностью тока. Если надо осуществить не сплошное травление поверхности, а частичное, местное, на поверхность изделия наносят маску — обычно полимерный лак, на котором вырезают нужную форму, подлежащую травлению. Так можно вытравливать шкалы, надписи и т. д. При последующем нанесении металлических- покрытий анодное травление производится в той же ванне (кратковременным переключением тока) [c.294]

Анодное травление производится в хромовом электролите того же состава, что и для хромирования. Однако эту операцию целесообразно проводить в отдельной ванне, так как электролит быстро загрязняется железом. При анодной плотности тока 50 а/дм и температуре 55—58 С продолжительность травления 5—10 мин. Площадь пор (каналов) достигает при этом 30—35% от всей поверхности. После травления шлифуют для сглаживания поверхностной шероховатости. [c.199]

Одновременно на другой установке с двумя последовательно включенными электролизерами из электролитов № 1 и № 2 при тех же режимах получают осадки толщиной 8—110 мкм, пористость которых выявляют анодным травлением в отдельной ванне с электролитом № 1 при 50—55 С, плотности тока [c.50]

Анодное травление черных металлов обычно осуществляется в растворе серной кислоты, требуемая концентрация которой обратно пропорциональна интенсивности травления. Плотность анодного тока и время обработки увеличиваются при необходимости более глубокого травления, причем на анодах происходит выделение газа. Травление меди можно производить при высоких плотностях анодного тока в растворах смесей хлоридов этот процесс широко применяется при изготовлении печатных плат. [c.67]

Анодное травление используется для удаления тонких пленок. [c.680]

Кроме химического травления, применяют для углеродистых и легированных сталей электрохимическое травление. Оно заключается в анодной или катодной обработке изделия в электролите определенного состава при заданном режиме. Анодное травление происходит за счет электрохимического растворения металла, химического растворения и механического отрывания окислов от поверхности металла выделяющимся на аноде кислородом. В качестве электролита применяют растворы кислот или солей соответ ствующих металлов. При катодном травлении химическое действие кислот благодаря поляризации снижается. Это связано с тем, что при наложении на систему короткозамкнутых элементов, работающих на поверхности катода, поляризации происходит сдвиг потенциала р область электроотрицательных значений и скорость окисления анодных участков уменьшится. Кроме того, имеет место механический отрыв окислов от поверхности обрабатываемого изделия, а также увеличивается восстановление окислов металла выделяющимся на катоде водородом. [c.167]

Б - анодным травлением в водном растворе серной кислоты. [c.72]

Кроме анодного травления, полирования и оксидирования к категории анодных процессов относится изобретенная В. И. Гусевым анодно-механическая размерная обработка поверхности металлов. [c.225]

При одностороннем анодном вытравливании рисунка печатных плат в нейтральных растворах существует опасность нарушения электрического контакта токоподвода с вытравливаемыми участками в конце процесса травления следствием этого является неполное удаление металла с инертной подложки платы. Это затруднение может быть преодолено при использовании для анодного травления раствора с окислителями, реагирующими с вытравливаемым металлом. В этом случае процесс травления металла будет протекать параллельно за счет как анодного, так и химического процессов. В конечный период процесса вытравливание небольших оставшихся участков металла на плате, потерявших электрический контакт с токоподводом, пройдет путем их взаимодействия с раствором. Подобный смешанный метод травления позволяет интенсифицировать процесс, так как химическое травление, имеющее электрохимическую природу, протекает с катодным контролем, обладая большими резервами по анодной стадии. [c.254]

Для удаления окислов железа производится химическое или электрохимическое травление арматуры в кислоте. Для электрохимического травления применяют 15%-ный раствор серной кислоты. Стальную арматуру обычно подвешивают к аноду, т. е. подвергают анодному травлению. После травления арматуру промывают в холодной проточной воде. [c.583]

В качестве анодов используют свинец, сплав свинца с сурьмой или кремнистый чугун. Время очистки составляет примерно 40 с. Анодное травление сопровождается некоторым растворением основного металла и бурным выделением на его поверхности кислорода. В качестве катода в этом случае можно применить железо, медь или свинец (пластина). [c.108]

Ускоренным методом оценки склонности материала к межкристаллитной коррозии служит анодное травление с использованием гальваностатических и потенциостатических установок. При гальваностатических испытаниях электрод [c.90]

Электролиты для химического и электрохимического травления обозначены в таблице следующим образом I и II — для химического травления углеродистой стали, покрытой окалиной III — для ст )ли, не покрытой окалиной IV —для стальной проволоки V —для стальных листов VI —длл предварительного травления нержавеющей стали VII —то же до блеска VIlI —XII —для анодного травления [c.942]

Анодное травление наиболее распространено при очистке деталей перед покрытием другими металлами, так как обеспечивает более прочное сцепление с основой за счет возникающей шероховатости поверхности во время травления на аноде. [c.279]

Перед сверлением отверстия внутреннюю поверхность образца рекомендуется освободить от окалины методом катодного или анодного травления. Если же на поверхности металла желательно присутствие окалины, то во избежание забивания отверстия чешуйками (продуктами разрушения окалины) отверстие очищается проволочкой меньшего диаметра. [c.125]

За 22,5 мин анодного травления стальных деталей при плотности тока 2,0 А/дм (перед гюкрытием толстым слоем никеля) с поверхности деталей снят слой стали толщиной 6 мкм. [c.223]

Анодное травление заключается в электрохимическом растворении металла и механическом отрыве оксидов железа пузырьками кислорода. В этом случае может происходить сильное перетравление поверхности и образовак[ие язв, шероховатости, а также уменьшение размеров детали. Однако, чем выше плотность тока, тем меньше проявляются эти дефекты. Таким образом, катодное травление целесообразно применять в тех случаях, когда требуется сохранить точные размеры деталей или когда после термообработки остается толстый слой окалины, а другие методы обработки (химическое травление, дробеструйная обработка) неэффективны. [c.279]

Заводской поставки, после анодного травления [c.226]

Выбор дезактивирующих растворов, последовательность их применения, температура зависят от физикохимического состояния, характера радиоактивных загрязнений и материала дезактивируемого предмета. Наибольший эффект дезактивации достигается при одновременном воздействии химических и физических факторов (паровая эмульсия с дезактивирующим раствором, применение ультразвука, процессов анодного травления и т. д.). [c.30]

Рис. 354. Схема установки для определения склонности хромоникелевых сталей к мелскристаллитпой коррозии методом анодного травления

В практике больше распространено анодное травление, так как при катодном травлении возникает опасность наводораживания металла. Однако, вследствие плохой рассеивающей способности электролитов, применяемых для анодного травления, этот способ не пригоден для обработки изделий со сложным рельефом. Для анодного травления стали применяется обычно серная кислота (200— 250 /л) и подкисленные растворы сульфата или хлорида железа. Температура электролито 20—60° С. Плотность тока от 5 до 10 а дм . Катодами в этих случаях служат свинец, сталь. [c.167]

При испытании методом анодного травления (метод Б) исследуемый образец или готовое изделие включается в качестве анода в цепь постоянного тока. Катодом служит свинцовый сосуд, в который наливается электролит. После испытания методом анодного травления на поверхности металла остается отпечаток, 1 де в случае ияличия склоипостн стали к межкристаллитной коррозии при увеличении не менее Х20— ХЗО видна непрерывная сетка протравленных границ зерен. [c.345]

Качество и свойства осадков при постоянном составе электролита зависят от соотношения плотности тока и температуры. По мере повышения температуры в электролитах № 1 и № 2 происходит переход матовых осадков серого цвета сначала в светлые блестящие, затем в матовые молочные. Наибольший интервал плотностей тока для получения блестяш.их и твердых осадков соответствует в электролите № 1 средним темг[ерату-рам 40—60 °С. Блестящие осадки хрома толщиной до 1 мкм применяют в качестве внешнего слоя трехслойного защитно-деко-ративного покрытия Си—N1—Сг на стали. Как самостоятельное покрытие для защиты от коррозии такие осадки не очень пригодны вследствие высокой пористости. Однако это свойство в некоторых случаях используют для увеличения срока службы труигихся деталей, требующих постоянной смазки их поверхности, так как после выявления сетки трещин анодным травлением пористые осадки приобретают способность хорошо удерживать смазку. [c.46]

Электролитическое травление кристаллов полупроводников. В технологии изготовления полупроводниковых приборов часто применяется электролитическое анодное травление. Смысл этого процесса заключается в электрохимическом окислении поверхности полупроводника, которое протекает по следующей реакции 40Н- — 4э = 40Н = 2Н2О + 20 [c.202]

Важная область использования ЭХТ - развитие пов-сти (увеличение уд. площади пов-сти). Наиб, широкое пром. применение имеет травление алюминиевой фольги в хлоридных р-рах для электролитич. ковденсаторов этот процесс позволяет повысить уд. пов-сть в сотни раз и увеличить уд. емкость ковденсаторов, уменьшить их размеры. Развитие пов-сти. методом ЭХТ применяют для улучшения адгезии металла к стеклу или керамике в электронной технике, копировального слоя к печатным формам в полиграфии, усиления сцепления покрьп ия с металлом при эмалировании металлич. изделий и др. Анодным травлением снимают дефектные гальванич. покрьп ия с деталей с тем, чтобы возвратить их в произ-во, а также при регенерации металлич. пластин офсетных биметаллич. печатньге форм. [c.460]

Эпюры распределения остаточных тангенциальных напряжений по глубине поверхностного слоя образцов рассчитывали по методу Н. Н. Давиденкова на основе непрерывного измерения деформации разрезного кольца в процессе послойного анодного травления. Сопоставляли средние значения по трем образцам. [c.190]

Фотоэлектрохим. р-ции используют ддя травления полупроводниковых материалов. Поскольку скорость анодного травления увеличивается с ростом интенсивности освещения, неравномерное освещение полупроводникового анода позволяет вытравливать на его пов-сги заданный-рельеф. Напр., травлением СаАв и др. в интерферирующих лазерных пучках получают дифракционную решетку с разрешением до 6000 линий/мм. [c.186]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология