Комплексы с основаниями

При взаимодействии лакунарных комплексов с основаниями изменяются структуры лигандов с образованием нейтральных комплексов [237, 241] [c.92]

Кроме азобензола палладий может образовывать орто-металлированные комплексы с основаниями Шиффа, бензальд- [c.167]

Никелевый комплекс с бцс-ацетилацетон-этилендиамином 30° С, 0,5-мол. НгОа [967] Никелевый комплекс с основаниями Шиффа [967] [c.949]

Льюис считает ионы Ag, Си", Hg", СсЗ"и др. типичными кислотами, потому что они образуют прочные комплексы с основаниями. Напомним, что он не причисляет к кислотам ион Сз , так как его взаимодействие с основаниями мало вероятно. По существу, по той же причине Плесков принял электродный потенциал цезия (рубидия) за стандарт для сравнения электродных потенциалов элементов в разных растворителях. [c.232]

При рассмотрении большого литературного материала бросается в глаза, что способность ароматических соединений образовывать комплексы с основаниями (т. е. веществами, присоединяющими протон) сильно зависит от числа и взаимного положения нитрогрупп и от природы и положения других заместителей в бензольном кольце. [c.288]

Специфичность взаимодействия выражается в том, что нитросоединение, не реагирующее с сильным основанием, дает окрашенный комплекс с основанием более слабым. Представление об относительной силе оснований дают их константы ионизации в воде [c.295]

Какой бы точки зрения ни придерживаться, очевидно, что полинитросоединения должны реагировать легче с основаниями, чем мононитросоединения, что и наблюдается на опыте. Понятно также, почему введение в бензольное кольцо ОН или КН. резко снижает способность нитросоединения давать комплекс с основанием Ч Вследствие [c.301]

По механизму ноликонденсации Э. с. отверждаются первичными и вторичными ди- и полиаминами, многоосновными к-тами и их ангидридами, феноло-формаль-дегидными смолами резолу>ного и новолачного типов, многоатомными спиртами и фенолами в количестве 5—120% от массы Э, с. ио механизму полимеризации — третичными аминами, амииофенолами н их солями, кислотами Льюиса и их комплексами с основаниями в количестве обычно 5—15% от массы смолы. [c.498]

Нетрудно показать, что доля катализатора, вошедшего в комплекс с основанием М, равна [c.333]

Реакции гидридных комплексов с основаниями и щелочными металлами [c.243]

Таблица 8.7. Длина связи в кислотах Льюиса и в их комплексах с основаниями [42

Ионы металлов также могут образовывать комплексы с основаниями, особенно с аденином и гуанином. Предполагается, что за счет этих комплексов стабилизируется третичная структура нуклеиновых кислот. Возможно, что связь между белками и нуклеиновыми кислотами осуществляется посредством хелата, образованного белком, ионом металла и азотистым основанием. [c.85]

Кроме указанных фенолов, торфяная смола содержит фенолы еще в комплексе с основаниями, которые при дистилляции смолы остаются в пеке они весьма стойки и не разрушаются щелочами и кислотами. Комплексы разрушаются только под воздействием высоких температур. Таким образом, продукты коксования пека содержат довольно много фенолов, примерно 25% от количества фенолов, содержавшихся в торфяной смоле- [c.489]

Обычно для сульфаминирования применяют более мягкие реагенты, чем свободный SOg, папример его комплексы с основаниями [c.353]

Устойчивые комплексы нуклеиновых кислот образуются также при взаимодействии с ионами металлов, особенно многовалентными ионами. Например, рибонуклеиновая кислота с ионами бериллия дает устойчивый к диализу комплекс [291]. Связывание ионов других двухвалентных металлов, таких, как магний и кальций, может происходить главным образом за счет образования ионной пары с близлежащими первичными фосфатными группами [292]. Взаимодействие с другими металлами, такими, как ионы меди, возможно, заключается в образовании комплексов с основаниями, особенно с пуриновыми остатками [293]. Добавлением ионов двухвалентного никеля можно достичь значительной стабилизации инфекционности РНК растительных и животных вирусов, причем оптимальное соотношение равно одному иону никеля на нуклеотид [25, 294]. В рибонуклеиновых кислотах из различных биологических источников обнаружены значительные количества хрома, марганца, никеля, железа, алюминия, меди, цинка, кадмия, свинца и других металлов с общим молярным отношением 1/50 фосфатных остатков [295, 296]. Такие комплексы чрезвычайно устойчивы и отделение металлов диализом или с помощью комплексообразующих агентов представляет большие трудности действительно, между рибонуклеиновой кислотой из печени быка, ионом двухвалентного железа и 1,10-фенантролином легко образуются устойчивые смешанные комплексы [296]. Хотя присутствие в рибонуклеиновых кислотах некоторого количества этих металлов может быть. [c.414]

В результате гидролиза комплекса с основанием Шиффа и салицилового альдегида и глицина комплекс из бициклического должен превратиться в моноциклический [c.363]

Отличительным свойством некоторых борных соединений является их способность давать комплексы с основаниями (табл. 6). [c.108]

Образование комплексов с основаниями [c.122]

Для получения комплекса с основанием Шиффа из салицилальдегида и К-замещенного этилендиамина в качестве матриц можно использовать ионы N1(11) и Со(И) [12]. [c.76]

Водные растворы глицина и формальдегида очень склонны к полимеризации, но в присутствии ионов Си(И) можно выделить промен уточные соединения-комплексы с основанием Шиффа [13]. [c.76]

Предполагаемый механизм получения комплекса с основанием Шиффа включает образование аддукта с амином а, который может претерпеть внутримолекулярную перегруппировку в б. С другой стороны, основание Шиффа б можно получить и при нуклеофильной атаке избытка амина на координированный кетон [14] [c.76]

IF2, Гзам <—78 °С, Г п 84,5 °С раств. в воде и большинстве орг. р-рителей. Получ. фторированием гексахлор-ацетона. Образует комплексы с основаниями. Кислотостойкий р-ритель. [c.597]

М. дымит во влажном воздухе. Термически устойчив. В воде быстро гидролизуется до СНзР(0)р2, затем до СНзР(0)(0Н)2. Образует комплексы с основаниями (напр., с аминами) и к-тами Льюиса. М.-один из наиб, реакционноспособных фтор-фосфоранов. Реагирует со мн. в-вами, образуя гл. обр. производные метилфосфоиовой к-ты или др. фосфораны, напр. [c.66]

Большинство квазифосфониевых соед. легко гидролизуется и активно реагарует с донорами протона (к-тами, спиртами, первичными и вторичными аминами и др.), образует комплексы с основаниями и солями металлов. Фосфораны, содержащие разл. атомы Hal у атома Р, склонны к межмол. диспропорционированию и jq). р-циям, напр. [c.151]

Среди известных комплексов кобальта нет таких, которые участвуют в метаболизме кислорода. Но некоторые из них представляют собой удобные модели для исследования связывания кислорода металлами в биологических системах. Наибольший интерес вызывает обратимая оксигенация и дезоксигенация в растворе. Кобальтовые комплексы с основаниями Щиффа, например [c.476]

Ионы металлов (Си +), образующие комплексы с основаниями ДНК, также влияют на выход фотодимерных фрагментов, повышая или понижая его в зависимости от структуры комплекса З , Возможно, что помимо изменения взаимного расположения оснований в таких комплексах подобный эффект отчасти объясняется изменением энергетических уровней оснований в составе комплекса 5. [c.688]

Рис. 7-15. Статистический разброс частот ЯКР С1 группы СС1з в солях трихлоруксусной кислоты и ее комплексах с основаниями (пунктиром обозначены соли).

В работе [137] исследовано большое количество молекулярных соединений трихлоруксусной кислоты с кислородсодержащими молекулами. Мультиплетность спектра трихлоруксусной кислоты в этих соединениях по сравнению со спектром ЯКР чистой кислоты значительно возрастает, а границы частотного диапазона расширяются. Эти изменения были полностью отнесены за счет кристаллических эффектов [137]. Однако компоненты, добавленные к кислоте, могут быть отнесены к двум различным классам либо кислотам, либо основаниям. В свете этих соображений средние частоты также можно разделить на две группы кислотную и основную . На рис. 7-15 представлено распределение средних частот N обеих групп по частотной шкале V. Как видно из рисунка, обе группы смещены относительно друг друга и незначительно перекрываются. Максимум распределения кислотной группы (а) на одится вблизи средней частоты чистой трихлоруксусной кислоты (40,010 Мгц), тогда как максимум основной (б) смещен в низкочастотную область на 0,3 Мгц. Этот сдвиг указывает на то, что при переходе от самоассоциата к комплексу с основанием ионность связи С—С1 в трихлоруксусной кислоте увеличивается. [c.164]

При несимметричном расщеплении получаются различные производные борониевого катиона ВНг, который как самостоятельная единица не существует, но образование комплексов с основаниями стабилизирует его. Получен ряд соединений типа [BH2L2] X" (L — амин или эфир, а Х — галоген или псевдогалоген). Если свободная борановая группа к самостоятельному существованию неспособна, то замещение одного и особенно двух атомов водорода стабилизирует ее. Так, известны BH I2, ВН(ОСНз)2, BH(NR2)2 и т. д. [c.207]

Трициклопентадиенилалюминий представляет собой твердый продукт с температурой плавления 55°С. Диалкилциклопента-диенилалюминий образует стабильные комплексы с основаниями Льюиса. При повышенных температурах они, как и алюминийтриалкилы, присоединяют этилен [c.44]

Эпоксидные клеи отверждаются в результате поликонденса-ции эпоксида с полифункциональными соединениями (полиаминами, полиангидридами, изоцианатами, феноло- и аминоформаль-дегидными олигомерами, полиамидами и др.) или ионной полимеризации в присутствии инициаторов. По механизму полимеризации отверждение происходит в присутствии третичных аминов, аминофенолов, кислот Льюиса и их комплексов с основаниями. При использовании латентных (скрытых) отвердителей, в частности дициандиамида, при отверждении одновременно протекают реакции и поликонденсации, и полимеризации. Отверждение происходит в процессе формирования клеевого соединения при комнатной или повышенной температуре. [c.31]

Некоторые низкомолекулярные вещества, проникая к каталитическому центру, образуют с ним прочные комплексы (как, например, цианиды или сероводород с медью или железом) или изменяют природу активных групп (восстанавливают сульфогидрильные группы). Таких примеров можно привести много. Соли тяжелых металлов (Ag, u, Pb, Hg) необратимо ингибируют ферменты, благодаря способности образовывать прочные комплексы с основаниями или нуклеофилами. [c.515]

Для дальнейщего взаимодействия а-комплекса с основанием В имеются две возможности — присоединение (как в реакциях элек-трофильного присоединения по кратным связям) или отрыв про- [c.92]

В настоящее время оптически активные борсодержащие комплексы широко используют в асимметрическом синтезе. Однако хиральность этих комплексов имеет иную природу, она возникает за счет лигандов с асимметрическим атомом углерода (см. гл. 2). Соединения же с тетраэдрическим атомом бора изучались менее интенсивно. Были, в частности, определены [28] барьеры энантиомеризации в комплексах с основаниями [c.401]

Активной формой в этой реакции считают комплекс меди [ u(NHз)4 O H2R)]+. В отсутствие кислорода этот комплекс реагирует в стехиометрических количествах, как и следует ожидать, если допустить промежуточное образование комплекса с основанием Шиффа. [c.431]

Молекулы алюминийорганических соединений являются электронодефицитными и при образовании комплекса с электронодонорными реагентами, такими, как ароматические амины (например, изохинолин,) эфиры, спирты, их можно рассматривать как кислоты Льюиса. Окисление или гидролиз одной из связей А1 — С приводит к понижению электрофильности молекулы. Триалкнлалюминий, диалкилалюминийгидрид и диалкилалюминийгало-генид представляют собой активные молекулы и образуют стабильные комплексы с некоторыми азотистыми основаниями. Дезактивированные молекулы, такие, как алкоголяты диалкилалюминия, не образуют устойчивых комплексов с основаниями. [c.378]

В предложенной концепции есть несколько уязвимых мест. Прежде всего, для допущения медленной реакции инициирования полимеризации акрилонитрила под действием литийбутила и его комплексов с агентами, использованными в работе [72], нет каких-либо оснований. Этому противоречат данные Цуруты [1, 2] и других авторов. Далее, в частных случаях применения в качестве оснований Льюиса таких соединений, как диметилформамнд и диметилацетамид, следовало бы считаться с достаточно быстрым взаимодействием между инициатором и вышеуказанными веществами. Основные направления этих реакций приводят к образованию алкоксидов лития, и в системе возможно одновременное присутствие различных литиевых производных соотношение между ними зависит от продолжительности выдерживания реакционной смеси до введения люпомера. Сведения об этой стороне методики постановки опытов в цитированной работе не приведены. Таким образом, не исключено, что при относительно невысоком отношении [КА]/[С] в реакционной смеси одновременно присутствуют свободный литийбутил, его комплекс с основанием Льюиса и продукты необратимого взаимодействия этих соединений (алкоксиды и металлированные производные). По своему поведению в присутствии мономера они могут различаться. Исходя из этих соображений, можно было бы также объяснить характер зависимости М—[КА]/[С]. То обстоятельство, что с другими из исследованных оснований Льюиса необратимые превращения указанного типа в условиях проведения эксперимента имеют малое значение (тетрагидрофуран) или вообще отсутствуют (диоксан), вряд ли существенно, так как наличие этих соединений в системе также может обусловить сосуществование разных форм инициа- [c.157]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология