Гидридный метод очистки

Еще более эффективен гидридный метод очистки олова от углерода [c.18]

Как следует из приведенных расчетов, гидридный метод очистки теллура от селена должен быть весьма эффективным. Этот вывод подтверждается результатами работ [84, 85]. Еще более эффективен гидридный метод очистки олова от углерода [c.21]

Гидридный метод очистки применим, однако, не для всех металлов. Металлы, растворяющиеся в щелочах и имеющие низкую температуру плавления (свинец, цинк, олово и т. п.), не могут быть подвергнуты такой очистке. [c.94]

В качестве конкретного примера оценим возможность очистки теллура от примеси селена гидридным методом [c.18]

Как следует из приведенных результатов расчетов, гидридный метод очистки теллура от селена должен быть весьма эффективным. [c.18]

Для улучшения метрологических характеристик при определении токсичных примесей в соединениях А1 и В изучена закономерность изменения интенсивности их линий в аналитических системах оксид алюминия (оксид бора) - фафит порошковый. С целью оптимизации условий определения мышьяка и сурьмы в А1 и его соединениях гидридным методом изучено влияние концентрации матричного компонента на величину абсорбции резонансных линий. Полученные результаты использованы при разработке методик атомно-эмиссионного и атомно-абсорбционного определения токсикантов в соединениях бора (фармацевтическое назначение) и сернокислом алюминии, применяемом в процессе очистки питьевой воды с пределами обнаружения ниже уровня ПДК. [c.18]

Гидридный метод. Он основан на получении и последующем разложении селено- и теллуроводорода. Для получения селеноводорода водород барботируют через расплавленный селен при 650°. Предварительная обработка расплава при 550° позволяет удалить те примеси, которые быстрее реагируют с водородом [3 ]. Быстрее гидрируется селен в паровой фазе. В этом случае температура гидрирования может быть снижена до 500—560°, а температуру предварительной обработки — до 450—480°. Полученный селеноводород разлагают, пропуская через нагретую до 1000° кварцевую трубку. Получается порошок селена, который затем сплавляют. Неразложивший-ся селеноводород выделяется из газа в охлаждаемых жидким воздухом конденсаторах и возвращается в процесс. Для очистки селеноводород перед разложением рекомендуется охлаждать до 20°, промывать водой, сушить и охлаждать до —10°. [c.150]

Данные анализа показывают, что при гидридном методе достигается наиболее полная очистка мышьяка от примесей, в связи с чем этот метод рассматривается в настоящее время как один из наиболее перспективных в технологии полупроводниковых материалов, [c.200]

Основное преимущество гидридного метода получения чистых элементов — возможность осуществления многократной очистки элементов от примесей при получении, очистке и разложении гидрида [72]. При получении гидрида элемент освобождается от примесей других элементов, которые не могут в условиях синтеза гидрида давать летучие соединения. Далее, полученный гидрид может быть подвергнут очистке многократным вымораживанием, ректификацией или с помощью адсорбционных методов в специальных многоступенчатых аппаратах. Для разгонки небольших количеств гидридов применяются пленочные колонки. Так, например, ректификацией были получены чистые сероводород [72], герман с содержанием примесей менее 1, 10- % —на двухметровой насадочной колонке [76, 77] и силан [86]. Применяются также и химические методы очистки гидридов от примесей. Например, предлагается освобождать силан от диборана путем гидролиза последнего водяным паром при температуре ниже 100° С [87]. [c.659]

Гидридный метод применяется и при получении некоторых переходных элементов, гидриды которых нелетучи. Например, получение гидридов и их переработка является необходимой стадией получения ковких циркония [88] и титана [89]. Возможно применение комплексных гидридов для очистки тугоплавких металлов (бериллия и урана), боргидриды которых летучи. [c.659]

Наиболее перспективным для повышения достигнутой чистоты германия является гидридный метод [2], который включает следующие стадии перевод элемента в гидрид, очистку гидрида, термическое разложение гидрида на элемент и водород. Известно, что природа и количество примесей в гидриде определяют чистоту и получаемого германия, так как при термическом разложении гидрида примеси, содержащиеся в нем, могут перейти в германий. В работе [3] показана возможность очистки гидрида германия до суммарного содержания примесей, не превышающего 5 10 мол. %. [c.136]

Следует заметить, что очистку гидридного германия зонной плавкой не проводили. Полученные результаты свидетельствуют о больших возможностях гидридного метода для повышения достигнутой в настоящее время чистоты германия. [c.137]

Гидридный метод получения особо чистых простых веществ, который в настоящее время успешно применяется для глубокой очистки Si, Ое, Зп и ЗЬ, позволяет значительно снизить загрязняющее действие материала аппаратуры ввиду отсутствия высокотемпературных стадий и избавиться от твердых микрочастиц на стадии очистки гидрида. [c.138]

Число исследований,, посвященных гидридному методу глубокой очистки селена, также невелико [4, 5]. [c.138]

Другими весьма эффективными химическими методами глубокой очистки веществ являются методы избирательного окисления или восстановления по отношению к очищаемому веществу или примесям. В качестве реагентов при этом часто используются галогены (метод избирательного галогенирования), водород (гидридный метод) и т. д. Весьма перспективным представляется метод термической диссоциации, который используется, например, для выделения ряда чистых металлов из их летучих гидридов. Для получения веществ высокой чистоты с успехом применяется метод химических транспортных реакций. [c.9]

Для гидридного метода характерна высокая селективность, что обусловливает большую глубину очистки уже в стадии синтеза гидрида. Эта особенность гидридного метода была использована в работе [49] для удаления нримеси бора из кремния путем обработки его расплава влажным водородом. Но, с другой стороны, гидриды — термически неустойчивые соединения, легко распадающиеся на элемент и водород [50], в особенности это характерно для гидридов В, Зп, ЗЬ, Те. Тепловой эффект реакций распада может быть достаточно большим. Выделяющееся тепло повышает температуру системы, что ведет к увеличению скорости реакции термораспада гидрида. [c.16]

Как и в гидридном методе, селективность синтеза МОС позволяет уже при протекании первой стадии процесса достигнуть весьма существенной очистки интересующего металла от сопутствующих примесей. Синтезированные металлоорганические соединения, как правило, содержат лишь примеси углеводородов и других МОС того н<е самого металла, но не содержат заметных количеств примесей других металлов. Более полное удаление последних осуществляется в двух других стадиях. Термораспад МОС протекает при достаточно низких температурах, что является пре-имуществом рассматриваемого метода по сравнению с галогенид- ч ым методом, поскольку при этом снижается вероятность загряз-нения получаемого металла материалом аппаратуры. [c.17]

Преимущества гидридного метода, по сравнению с получением особо чистых элементов из других классов летучих соединений, заключаются в следующем. При термическом разложении освобожденного от примесей гидрида элемент может быть загрязнен только водородом, содержание которого обычно невелико. Гидриды в условиях относительно низких температур сосуществования жидкой и паровой фаз, как правило, инертны по отношению к таким распространенным конструкционным материалам аппаратурного оформления процесса глубокой очистки веществ, как нержавеющая сталь, кварцевое стекло, фторопласт. [c.70]

В настоящее время гидридный метод, благодаря его успехам в очистке таких технически важных элементов, как кремний, германий, мышьяк, фосфор и др., получил широкое признание. В лабораторных условиях получены особо чистые гидриды одиннадцати элементов бора, кремния, германия, олова, азота, фосфора, мышьяка, сурьмы, серы, селена, теллура. Для некоторых гидридов разработаны промышленные методы глубокой очистки. [c.70]

В сборнике представлены материалы по производству и применению гидридов щелочных металлов. Описаны различные способы получения гидридных продуктов, которые применяются для очистки поверхности металлов от окалины. Рассмотрены теоретические основы процесса гидрирования щелочного металла в среде его гидроокиси и процесс получения гидрида натрия в ванне травления, механизм восстановления окалины в восстановительном расплаве и результаты испытаний гидридного метода травления в заводских условиях. [c.2]

ПРИМЕНЕНИЕ ГИДРИДНОГО МЕТОДА ТРАВЛЕНИЯ ДЛЯ ОЧИСТКИ ПОВЕРХНОСТИ МЕТАЛЛОВ ОТ ТЕРМИЧЕСКОЙ ОКАЛИНЫ [c.35]

Гидридный способ очистки поверхности металлов от термической окалины имеет большие преимущества перед кислотным и щелочно-кислотным способами травления, особенно при обработке изделий из высоколегированных сталей и сплавов. Применение гидридного метода травления позволяет интенсифицировать процесс обработки и существенно сократить потери основного металла. [c.35]

Применение гидридного метода травления для очистки поверхности металлов от термической окалины. Ш и- [c.103]

В последнее время все большее значение приобретает метод получения высокочистых металлов, диэлектрических и полупроводниковых материалов через металлоорганические соединения (МОС). Этот метод по своей структуре адекватен гидридному, поскольку он осуществляется по аналогичной схеме синтез МОС —очистка МОС — термораспад МОС. [c.14]

Процесс гидридной очистки поверхности металлов от термической окалины описан в ряде работ [1—8]. В них в основном приведены данные по эксплуатации зарубежных промышленных ванн, технологии обработки поверхности металла, по аппаратурному оформлению процесса, а также рассмотрены преимущества указанного метода травления. [c.35]

Рассматриваются методы получения гидридных продуктов, основанные на гидрировании металлического натрия водородом, приведены составы и свойства продуктов, условия использования их для очистки поверхности металлов от термической окалины. [c.101]

Как и в гидридном методе, селективность синтеза МОС позволяет уже при протекании первой стадии процесса достигнуть весьма существенной очистки металла от сопутствующих примесей. Синтезированные металлоорганичеекие соединения, как правило, содержат лишь примеси углеводородов и других МОС того же металла, но не содержат заметных количеств примесей других металлов. Более полное удаление последних осуществляется в двух других стадиях. Термораспад МОС протекает при достаточно низких температурах, что является преимуществом рассматриваемого метода по сравнению с галогенидным методом, поскольку при этом снижается вероятность загрязнения получаемого металла материалом аппаратуры. Другим преимуществом данного метода является принципиальная возможность его более широкого применения, чем галогенидного и гид-ридного методов, так как летучие МОС известны для большин- [c.14]

Получение теллура особой чистоты гидридным методом описано в работах [1—3], сущность которых заключается в следующем теллуроводород получают электролизом серной или ортофосфор-ной кислоты с теллуровым катодом, а затем разлагают его при 300—500° С. Глубокая очистка теллуроводорода от примесей перед разложениед не проводится. Отмечалось [3], что такой вариант гидридного метода не обеспечивает освобождения теллура от примесей мышьяка и селена. [c.138]

Данные по получению серы особой чистоты гидридным методом в литературе отсутствуют. В целом использование гидридного метода для глубокой очистки халькогенов затруднено слабой разработанностью методов глубокой очистки халькогеноводородов п высокой термической устойчивостью гидрида в случае серы и селена. [c.139]

Мы не рассматривали некоторые другие методы очистки веществ, как, электролиз, электродиализ, адсорбционно-комплексообразоватепьный метод, гидридный метод и др. Читатель может ознакомиться с ними в статьях, опубликованных, в частности, в Изв. ИРЕА, т. 23—30, 1960—1967. [c.16]

Проведенные испытания гидридного способа очистки поверхности металла от термической окалины показали, что этот способ позволяет значительно снизить потери металлов и может успешно заменить используемый в настоящее время для обработки трудно-травимых сталей и сплавов щелочио-кислотный метод травления. [c.36]

Чистота полупроводниковых элементов во многом определяется способом их получения. В настоящее время гидридный метод является гаиболее перспективным. По сравнению с другими методами получения германия и кремния высокой чистоты он обладает рядом преимуществ возможностью очистки гидридов германия п кремния от взвешенных частиц при помощи фильтров и многоступенчатой очистки гидридов от летучих органических и неорганических примесей в процессе ректификации иа стадии синтеза гидридов происходит их очистка от нелетучих примесей в процессе хранения германа и силана происходит самопроизвольная очистка от термически неустойчивых гидридов (стибнн, стан-нан, теллуроводород) сравнительно невысокая температура разложения германа и силана способствует очистке германия и кремния от летучих термически устойчивых примесей в гидридах, а также уменьшает возможность загрязнения получаемых элементов материалом аппаратуры. [c.7]

Вторую группу летучих веществ, перспективных для получения элементов особой чистоты, составляют летучие галиды. Га-лидный метод состоит в термическом разложении или восстановлении водородом галидов особой чистоты, главным образом хлоридов. Продуктами реакции являются нелетучий металл и хлор или хлористый водород, которые легко удаляются из сферы реакции. Получение элементов особой чистоты нутем восстановления или термораспада их хлоридов имеет пока еще весьма ограниченное применение, что объясняется трудностями, возникающими при глубокой очистке галидов. Возможности галидного метода в настоящее время используются еще далеко не в полной мере. Но если даже и будут использованы все возможности этого метода, задача получения элементов особой чистоты через летучие соединения не будет полностью решена, так как галидный метод, так же как и гидридный, применим к ограниченному числу элементов. Многие элементы не дают летучих галидов, как, например, хром, щелочноземельные металлы, редкоземельные элементы. Галиды ряда элементов не восстанавливаются водородом даже при значительных температурах, как, например, галиды элементов подгруппы титана. Поэтому в последние годы возрос интерес к получению элементов особой чистоты через МОС. [c.4]

Гидридный метод получения особо чистых простых веществ основан па переводе исходного элемента в гидрид, глубокой очистке гидрида и последующем его разложении на водород и гидридообразующий элемент [1]. Возможность получения этим методом селена особой чистоты была показана в работах [2—4], Выяснено [2], что уже на стадии синтеза селеноводорода удается избавится от основной массы примесей металлов. От примесей элементов, образующих летучие гидриды, предложено [3] освобождаться путем очистки селеноводорода методом низкотемпературной ректификации. Для выделения селена из гидрида ис-нользовалпсь реакция термического разложения [2, 3] [c.92]

Гидридный метод получения олова особой чистоты состоит из трех стадий синтез станнана — глубокая очистка станнана — разложение очищенного станнана. Рассмотрено поведение примесей на всех ступенях гидридного метода. Анализ проводился на масс-спектрометре МХ1304, При синтезе станнана из неочищенных аВНч и СЦ получаемый гидрид содержит те же органические примеси, что и исходные вещества, [c.97]

Наиб, распространенными методами газофазной эпитаксии являются хлоридная, хлоридно-гидридная и с применением металлоорг. соединений. При хлоридной эпитаксии в качестве исходных материалов используют летучие хлориды элементов, входящих в состав П.м. Исходными материалами при хлоридно-гидридной эпитаксии являются летучие хлориды и гидриды соответствующих элементов, а при эпитаксии с применением летучих металлоорг. соед. используют также летучие гидриды. Процессы осуществляют в реакторах проточного типа, транспортирующим газом является Н . Все исходные материалы и Н подвергают предварит, глубокой очистке. Преимущества эпитаксиального наращивания пленок с применением металлоорг. соед. отсутствие в газовой фазе мюрсодержащих компонентов, химически взаимодействующих с подложкой, низкие рабочие т-ры, простота аппаратурного оформления, легкость регулирования толщины и состава эпитаксиальных слоев. Метод обеспечивает создание многослойных структур с тонкими, однородными по толщине слоями и резкими границами раздела и позволяет воспроизводимо получать слои толщиной менее 10 нм при ширине переходной области менее 1-5 нм. Его широко используют для вьфащивания эпитаксиальных структур соед. типа А В , А В , А В и твердых р-ров на их основе. Получение эпитаксиальных структур 8 и Ое осуществляется в процессе водородного восстановления соотв. хлоридов или термич. разложением гидридов. [c.61]

Одним из главных этапов в гидридной технологии элементов является очистка исходных соединений. Дело в том, что гидриды в любом известном методе их получения, как правило, оказываются загрязненными теми или иными при.месями. Они загрязняются летучими исходными и конечными продуктами реакции, примесями, содержащимися в исходных 1гатериалах и получающимися в результате побочных реакций. Наиболее нежелательные примеси — лету- [c.194]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология