Подложек плоскостность

Планарная или плоскостная, хроматография объективно имеет более узкую сферу применения, чем колоночная. Последний вариант осуществления хроматографического процесса является универсальным, применимым при любом сочетании фаз. Плоскостную хроматографию в любом из ее вариантов бумажной хроматографии (БХ имеет скорее историческое значение) или так называемой тонкослойной хромотографии (ТСХ применяется чаще) — используют только для разделения в условиях, когда подвижная фаза находится в жидком состоянии. В отличие от колоночного хроматографического процесса, как следует из обобщенного названия этого направления в хроматографии, БХ и тех осуществляют на плоскости на листе специальной хроматографической бумаги или на пластине из тонкого слоя адсорбента, закрепленного на жесткой подложке. [c.188]

ОРИЕНТИРОВАННОЕ СОСТОЯНИЕ полимеров, характеризуется тем, что составляющие полимерное тело линейные макромолекулы, будучи в той или иной степени распрямленными, своими осями ориентированы преим. вдоль одного направления (одноосная ориентация бывает и двуосная, плоскостная и др.). В природе ориентиров, полимеры широко распространены и виде волокон (хлопок, лен, шелк, паутина, шерсть и др.). Искусственно такие полимеры создают след, способами вытяжкой (на десятки — тысячи процентов) изотропных полимерных тел кристаллизацией в текущих полимерных р-рах при наличии градиентов скорости потока направленной полимеризацией кристаллов мономера (твердофазная полимеризация) или на ориентиров, полимерной подложке из мономерной газовой фазы полимеризацией в жидкой фазе нри наложении электрич. или магн. полей. Вследствие естеств. анизотропии св-в распрямленной линейной макромолекулы ориентиров. полимеры обладают резкой анизотропией фнз. св-в. Вдоль оси ориентации полимерные тела имеют повыш. прочность при растяжении (достигнуты прочности 5—6 ГН/м средние значения ок. 1 ГН/м ) и достаточную гибкость. Этим сочетанием определяется осн. использование ориентиров, полимеров в виде нитей, тросов, пленочных материалов и т. п. [c.416]

При охлаждении расплавов полимеров значительно уменьшается их объем. Поскольку расплав фиксируется на подложке адгезионными силами, уменьшение объема происходит главным образом за счет толщины. Это вызывает плоскостную ориентацию молекул полимера, т. е. их растягивание в плоскости, параллельной подложке, что приводит к возникновению внутренних напряжений в пленке и, как следствие этого, к ухудшению-адгезии. По мнению Шрейнера [123], внутренние напряжения в покрытиях из аморфных полимеров начинают формироваться непосредственно при переходе полимера из высокоэластического состояния в стеклообразное. Одновременно с ростом напряжений происходит некоторая их релаксация в результате пластической и высокоэластической деформации (в период стеклования) и перестройка надмолекулярной структуры (при более низких температурах), причем ее вклад в снижение внутренних напряжений будет тем больше, чем дольше охлаждается покрытие. Медленное охлаждение способствует снижению внутренних напряжений и улучшению адгезии (рис. 41). [c.86]

Структурные особенности полимерных пленок определяются их формой, при которой отношение площади поверхности изделия к его объему очень велико. Поэтому те свойства пленок, которые в наибольшей степени зависят от их структуры, определяются свойствами поверхностных слоев, которые у большинства пленок существенно отличаются от свойств материала, удаленного от поверхности. Наиболее резким отличием структуры поверхностных слоев от структуры в объеме характеризуются, в частности, все пленки, изготавливаемые формованием из растворов на твердую подложку. Это обусловливает специфичность свойств поверхностных слоев. Изложенное хорошо иллюстрируется работами по изучению, струк-туры эфироцеллюлозных пленок, полученных формованием из растворов на твердой подложке [5]. Отличия в структуре слоев определяются структурными особенностями верхней или, как принято называть, воздушной стороны пленки и нижней ( зеркальной ) стороны. Следовательно, пленочные материалы, формуемые на твердой подложке, отличаются существенной слоевой структурной неоднородностью (рис. 1.1), причем в общем виде можно различить, по крайней мере, три слоя с различной структурой. Верхний ( воздушный ) слой, соприкасающийся в процессе формования пленки с воздухом, характеризуется наибольшей плотностью упаковки структурных образований в результате наиболее полно прошедших релаксационных процессов. Этому способствуют процессы диффузии молекул растворителя из глубинных слоев на поверхность пленки по мере ее высушивания при пленкообразовании. В то же время нижний ( зеркальный ) слой пленки, соприкасающийся с зеркальной твердой поверхностью, па которой осуществлялось формование пленки, обладает наименее устойчивой плоскостно-ориентированной структурой в результате фиксирующего действия твердой подложки при [c.20]

Средний глубинный слой представляет собой сравнительно изотропный полимер, неплотная упаковка структурных элементов которого обусловлена наличием в нем некоторого количества растворИ теля, обычно сохраняющегося в пленке при сушке. Конечно, в пленке, изготавливаемой из раствора полимера методом формования на твердой подложке, основное значение в изменении ее свойств, определяемых структурными превращениями во времени, приобретает нижний зеркальный слой с его неустойчивой плоскостно-ориентированной структурой. Именно этот слой вносит основной вклад в протекание релаксационных процессов, приводящих к изменению геометрических размеров пленочного изделия со временем. Промежуток времени между изменением размеров пленки и достижением равновесного [c.21]

Среднеквадратичная (RMS) шероховатость. Типичный профиль поверхности подложки, полученный щупом, показан на рис. 5. Можно предположить, что нерегулярности подложки состоят из трех компонентов с различными периодами. На рис. 5,6 — г они названы шероховатостью. Волнистостью и плоскостностью. Шероховатость есть свойство, измеряемое щупом она численно может определяться средним отклонением профиля от произвольной средней. Как показано на рис. 6, величина а (RMS) полу- [c.507]

При оценке качества поверхности подложек с помощью статистических средних значений следует помнить, что одно число может дать только очень неполное описание текстуры поверхности. Малые величины могут маскировать наличие глубоких царапин (деталь S на рис. 5), которые впоследствии могут вызвать разрывы в осажденных тонких пленках. Таким же образом в величинах RMS или АА не отражены волнистость поверхности или плоскостность, хотя оба эти свойства для фотолитографии очень важны. Наконец, оба метода имеют некоторую неопределенность, так как поверхностные профили, имеющие одинаковые амплитуды, но различные периоды, имеют одни и те же средние величины. При оценке качества профиля поверхности подложки необходимо учитывать и такие факторы, как радиус наконечника щупа (он обычно равен 1,2—2,5 мкм), который ограничивает разрещение по вертикали и различные усиления, использованные по вертикали и горизонтали. [c.510]

Увеличение изображения. Расстояние между подложкой и фотошаблоном при экспозиции негативной фоторезистивной пленки ведет к расширению положительных допусков в образце. Это явление вносит размерные ошибки в образцы с избирательно стравливаемыми пленками, которые увеличиваются с увеличением расстояния. В отсутствие пыли главной причиной неудовлетворительного контакта с фотошаблоном является недостаточная плоскостность подложки. Этот эффект ухудшает рассеяние света и многократное отражение [c.517]

Из-за чрезмерного коробления размер керамических подложек в настоящее время ограничен площадями 100—160 см . Имеются предпосылки к тому, что коробление может быть уменьшено улучшением качества обработки и что в недалеком будущем могут быть получены подложки площадью 380 см с приемлемой плоскостностью. Однако имеется много применений, где достигнутые к настоящему времени размеры являются [c.542]

При обработке или упаковке подложек иногда возникают требования к размерным допускам, которые не могут быть удовлетворены в процессе изготовления подложек. Такие добавочные конечные операции, как шлифовка и полировка, увеличивают стоимость подложки (в 2,5—3 раза). Однако при этом получается выигрыш в надежности [116—118]. Для подложек из стекла обычными допусками являются 380 мкм для плоскостности и 125 мкм для толщин. [c.543]

Уравнения (7.41), (7.42) показывают, что температура, соответствующая определенной ориентировке, обратно пропорциональна значению межплоскостного расстояния й для плоскости, лежащей параллельно подложке. Поскольку при температуре плавления мел<плоскостное расстояние равно атомному радиусу , по аналогии с выражениями (7.41) и (7.42) мол<но записать [c.283]

Фиксация пленки на подложке и воздействие на нее силового поля твердой поверхности существенно влияют и на физические процессы в адгезионном слое усадку, стеклование, ориентационные эффекты и т. д. Все это определенным образом сказывается на структуре пленок (рис. 1.2). В адгезионном слое молекулы пленкообразователя подвержены плоскостной ориентации, при этом формируется, как правило, менее совершенная структура, чем в массе полимерной пленки. По мере удаления от подложки степень ориентации и анизотропия пленок резко падают, а степень надмолекулярной организации полимера возрастает. Структурная неоднородность особенно заметна у покрытий, изготовленных из кристаллических полимеров. Из-за большого числа центров кристаллизации и малой [c.10]

Противоскручивающий слой (контрслой) - лаковый спой из синтетич. полимеров, наносимый ка обратную сторону подложки для улучшения плоскостности пленки, а в раде случаев и для придания пленке глянца и улучшения аигистатич. св-в. [c.163]

На последнем этапе пленкообразоваиия важную роль играет адгезия пленки к подложке, приводящая при все усиливающейся контрактации к растягиванию пленки, ориентации структурных элементов полимера и возникновению в ней внутренних напряжений (рис. 151, а, б, в). Кроме того, полученная пленка характеризуется неоднородной слоевой структурой (рис. 151,г), где момшо выделить три различных слоя. Самой плотной упаковкой обладает воздушный слой, так как в нем наиболее полно прошли релаксационные процессы этому способствует диффузия растворителя из глубины пленки на поверхность. Зеркальный слой, непосредственно соприкасающийся с подложкой, имеет нестабильную плоскостно-ориентированную структуру, а средний глубинный слой является сравнительно изотропным полимером с неплотной упаковкой структурных элементов, содержащим некоторое остаточное количество растворителя. Цри надобности для повышения устойчивости структуры и уменьшения возможной дальнейшей усадки пленку подвергают термообработке. [c.506]

Плотность упаковки макромолекул является одной нз важнейших структурных характеристик полимера, во многом определяющей его физико-химические и физико-механические свойства. Всякое изменение межмолекулярных взаимодействий в системе приводит к изменению плотности упаковки макромолекул, которая в зависимости от характера воздействия на полимер может изменяться в ту или другую сторону. Так, если полимер в результате воздействия на него переходит в неравновесное состояние, то процесс сопровождается увеличением свободной энергии к пдотность упаковки полимерных молекул в этом случае, как правило, уменьшается. Например, при ориентации полимеров плотность упаковки может как увеличиваться, так и уменьшаться [54, 55]. При получении полимерных пленок на подложке наблюдается плоскостная ориентация молекул в слое, прилегающем к подложке, приводящая к уменьшению плотности упаковки [56]. Эти исследования и результаты изучения влияния наполнителей на релаксационные свойства системы дают основание считать, что и в наполненных полимерах в результате адсорбции макромолекул на поверхнтети происходят изменения плотности упаковки. [c.17]

При формировании пленки на твердой подложке вследствие известного натяжения (в результате сил сцепления) в ней возникаег плоскостно-ориентированная структура. В то же время в свеже-сформованной пленке благодаря ее сильно набухшему состоянию возможна некоторая подвижность цепей, обусловленная тепловым движением. Все это влечет за собой релаксационные процессы, т. е. возврат структуры пленки в наиболее устойчивое положение, соответствующее изотропному состоянию. [c.88]

При высыхании пленки изменение ее объема возможно только в результате уменьшения толщины, так как края слоя фиксированы на поверхности подложки. Это приводит к растягиванию цепных молекул полимера в плоскости слоя и образованию плоскостноориентированных структур в пленках подобно тому, как если бы образующийся слой подвергался внешним растягивающим усилиям, направленным к сохранению первоначальных плоскостных размеров слоя. Поэтому макромолекулы пленки, снятой с подложки, обладают значительными внутренними напряжениями. Стеклообразное состояние пленки ограничивает релаксационные процессы в ней и такие пленки только со временем будут медленно изменять свои размеры. Скорость этого процесса возрастает при повышении температуры или набухании пленки, т. е. при возникновении факторов, способствующих релаксации. [c.344]

Плоскостность подложек в тонкопленочной технологии имеет значение, в oiHOB ioti, в двух ситуациях. Во-первых, когда подложка находится в контакте с держателем или нагревателем во время осаждения пленки, во-вторых, в процессе фотолитографии, где требуется плотный контакт с фотошаблоном. [c.516]

Другими возможными причинами расширения линий могут быть неудовлетворительная плоскостность подложки, плохое качество обработки ее поверхности и плохой контакт между поверхностями слоя фоторезиста и фотошаблона. Поскольку излучение от любых источников света в какой-то степени рассеивается, то в соответствии с геометрическими правилами оптики любой зазор между слоем эмульсии в поверхности фотошаблона и слоем фоторезиста приводит к расширению экспонированного участка. Степень влияния этих эффектов на качество рисунка зависит от возможностей установки рисширение линий пропорционально величине зазора между фотошаблоном и подложкой. В одном из конкретных случаев уширение линии с обоих краев составило около 6 мкм, тогда как расстояние между фотошаблоном и подложкой было преднамеренно установлено в 25 мкм 93]. При условии совершенно гладких поверхностей фотошаб- [c.601]

Торможение релаксационных процессов на определенной стадии отверждения олигомеров оказывает влияние на кинетику изменения других свойств, в частности теплофизических. Установлена взаимосвязь между кинетикой изменения теплофизических параметров и внутренних напряжений как при формировании, так и при старении полимерных покрытий. Из рис. 3.10 видно, что теплопроводность изменяется антибатпо внутренним напряжениям. Закономерности в изменении внутренних напряжений и теплофизических параметров в зависимости от условий формирования оказались общими и наблюдаются для покрытий, сформированных из эпоксидных и алкидных смол [93, 98—100]. Антибатный характер изменения теплофизических параметров и внутренних напряжений обнаруживается также в зависимости от толщины покрытий (рис. 2.57 и 2.58). Для пленок теплофизические параметры не зависят от толщины, в то время как для покрытий наблюдается немонотонное изменение их в зависимости от толщины. Это связано с меньшей плоскостной ориентацией структурных элементов в пленках. Степень ориентации структур в плоскости подложки зависит от прочности адгезионного взаимодействия и величины возникших в покрытиях внутренних напряжений. [c.138]

Держатель образца представляет собой покровное стекло микроскопа, расколотое таким образом, что получился скос к его плоскостям. Края осколков можно сблизить до расстояния порядка 1 мкм. На рис. 3.2 представлена фотография монокристалла полиэтилена с плоскостными размерами 13 х 17 мкм и толщиной 10 нм. Как видно на фотографии и схематично показано в нижней части рис. 3.2, кристалл помещается на подложку так, что базовый размер составляет 2 мкм. Затем он pa тя ивaeт я до разрыва. На фотографии отчетливо виден кристалл на подложке. Так как снимок сделан после разрыва кристалла, в темном зазоре между предметными стеклами микроскопа мате- [c.35]

Эти результаты хорошо согласуются с данными ДТА и свидетельствуют о том, что кристаллы ОУМ-1 и ОУМ-12 неоднородны по размеру и уровню надмолекулярной организации, и только при оптимальной гибкости олигомерного блока (например, в случае ОУМ-6) из раствора и из расплава формируются однородные по морфологии, размеру и уровню надмолекулярной организации кристаллы. Структурные элементы исследованных олигомеров, различаюшихся длиной и гибкостью олигомерного блока, имеют, по-видимому, разное строение. Это особенно ярко проявляется при кристаллизации олигомеров на подложке, способствующей плоскостнЬй ориентации структурных элементов. Олигомер ОУМ-1 кристаллизуется в этих условиях с образованием снопообразных сферолитов из игольчатых структур. При кристаллизации ОУМ-6 формируются кольцевые сферолиты, а при кристаллизации ОУМ-12-сферолиты радиального типа (рис. 2.17). Из сравнения рис. 2.14 и 2.17 следует, что кристаллы, сформированные из расплава на подложке и в процессе синтеза олигомеров, существенно различны. Фототермограмма ароматического олигоуретанметакрилата ОУМ-7 имеет свою специфику. При нагревании ОУМ-7 до температуры плавления [c.71]

Метод осаждения из раствора (мокрая отливка). Если растворитель содержит вещества (например, неорганические соли), каторые нельзя легко удалить при выпаривании, используют метод мокрой отливки. Он может быть также полезен, если при получении пленки необходимо воспроизвести некоторые условия мокрого способа формования волокон. Раствор полимера распределяют по поверхности подложки, которую затем осторожно опускают в осажденную жидкость. Физические свойства получающейся пленки в эначительной степени зависят от природы осадителя. Найдено, что однородные пленки получаются чаще при использовании осадителей, близких по свойствам к растворителю подимера. Может оказаться полезным применение серии осадителей с увеличивающимся числом углеводородных групп в молекуле и относящихся к одному гомологическому ряду. Пленка полимера, полученная описанным выше способом, обычно находится в форме разбухшего геля, который перед сушкой следует промывать водой для удаления растворителя. Высохшие гели образуют, как правило, пленки с плоскостной ориентацией макромолекул. [c.36]

Маски-трафареты для формировагая пассивных элементов ИМС должны иметь точность размеров прорезей до 5 мкм при их ширине до 100 мкм, быть достаточно прочными и упругими при толщине до 100 мкм, обладать высокой чистотой поверхности и плоскостностью (это обеспечивает их плотное прилегание к подложке), а также хорошей нагревостойкостью в условиях вакуума (не должны деформироваться, допускать газовыделение и испаряться). Этим требованиям отвечают медные сплавы, нержавеющая сталь, молибден и некоторые другие материалы. Преимущественно применяют бериллиевую бронзу. [c.23]

Условия получения пленок из раствора приводят к образованию слоистой структуры. В такой пленке можно выделить три слоя [103]. Верхний, воздушный слой отличается наибольшей плотностью упаковки структурных образований. В этом слое наиболее полно протекают релаксационные процессы, облегчаемые диффузией молекул растворителя из глубинных слоев на поверхность пленки. Нижний, зеркальный слой пленки, соприкасающийся с зеркальной твердой поверхностью барабана, характеризуется наименее устойчивой плоскоориентированной структурой. Она неравновесна при данных термодинамических условиях (концентрации, температуре, давлении и т. п.). Перестройка структуры в соответствии с изменениями условий в процессе сушки тормозится вследствие фиксирующего действия твердой подложки. Сокращение объема системы сопровождается сохранением плоскостных размеров пленки. [c.283]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология