Кварц как подложка

Анализ изотерм П(/г) для ос-пленок воды на поверхности кварца показал, что приближенно они следуют экспоненциальной зависимости (1.1) [47]. При этом параметр К для пленок на подложках из стекла, кварцы и слюды сохраняет примерно то же значение, что и для симметричных водных прослоек (1-ьЗ) 10 " Н/см2, но длина корреляции I выше, составляя до 10 нм для наиболее гидрофильных поверхностей и снижаясь до 1 нм при уменьшении степени гидрофильности. Повышение температуры приводит, главным образом, к падению значений I от 3,3 нм — при 20 °С до 0,8 нм — при 40 °С для пленок на слюде. Для почти гидрофобной поверхности пиролитического углерода (краевой угол 0 = 72°) меняется, как и в случае симметричных прослоек, знак параметра К —2-10 Н/см ) прп сохранении обычного порядка значений / = 0,7 нм. [c.18]

Включение в теорию смачивания, кроме молекулярных и электростатических сил, также и структурной составляющей расклинивающего давления позволяет количественно объяснить экспериментальные зависимости краевых углов водных пленок на кварце от pH, концентрации растворов электролита и температуры. Причиной изменения условий смачивания является, кроме изменений электростатических сил, уменьшение дальнодействия структурных сил при повышении концентрации электролита, гидрофобизации подложки и повышении температуры. [c.169]

В работах [30, 488] изучено влияние температуры на толщину полимолекулярных адсорбционных пленок воды на поверхности плавленого кварца. Если при >65°С толщина пленки не превышает монослоя, то при 10 °С она составляет приблизительно 10 нм. Температурная зависимость ряда свойств, таких, как теплопроводность [489, 490], вязкость [491], амплитуда колебаний частиц при электрофорезе в переменном поле вблизи подложки [492], скачкообразно изменяются при 65—70 °С. Такое поведение, так же как и исчезновение эффекта термоосмоса вблизи 70°С [463], авторы объясняют полным разрушением ГС. [c.172]

Для выяснения зависимости толщины граничного слоя от характеристики твердой фазы были проведены исследования на приборе с плоскопараллельными дисками с подложками различной природы [105]. В качестве твердых подложек были использованы диски нз кварца, доломита и керамики. Поверхность этих дисков была обработана по 13—14 классу. [c.115]

Анализ полученных данных показывает (рис. 58), что при прочих равных условиях толщина граничного слоя зависит от природы твердой подложки. Толщина граничного слоя нефти на доломите и керамике значительно больше, чем на кварце. Это, по-видимому, можно объяснить тем, что наличие ионов щелочноземельных металлов в доломите и керамике обусловливает наряду с физиче-, ской и химическую адсорбцию, способствующую формированию граничных слоев большей прочности. [c.115]

На рис. VHI.9 приведены амплитудно-частотные характеристики передаточных функций кварцевой подложки и звеньев рассматриваемого контура. Амплитуда колебаний на выходе из слоя кварца резко уменьшается при увеличении частоты колебаний. При небольших объемах катализатора максимум амплитуды передаточной функции от температуры на входе в слой катализатора к температуре на выходе из кварцевой подложки достигается при частотах, близких к нулю. Однако при увеличении объема катализатора максимум смещается в область высоких частот. [c.329]

Пленки-подложки. При прямом методе исследования объект помещают на пленку-подложку, роль которой аналогична предметному стеклу в световой микроскопии. Пленки должны быть достаточно прочными и не иметь заметной собственной структуры при применяемом увеличении. Приготавливаются они как из органических, так и неорганических веществ коллодия, формвара, цапонлака, кварца, оксида алюминия, угля, металлов и т. п. [c.136]

Кварцевые пленки готовят также напылением в вакууме на рентгеновскую пленку. Испарение кварца производят на вольфрамовой спирали при температуре около 1700°С. Толщина кварцевой пленки должна составлять 10—20 нм. Отделение кварцевой пленки-подложки от рентгеновской также осуществляют методом растворения последней в ацетоне. [c.137]

Таким образом, измерение краевого угла смачивания дает возможность оценить работу адгезии. При смачивании поверхности пластин кварца или кремния каплями воды работа адгезии будет определяться степенью гидрофильности поверхности подложки в присутствии полярных ОН-групп будет повы- [c.80]

Приборы и материалы эллипсометр кремний полупроводниковый (пластина полированная), кварц оптический (пластина полированная), никель или тантал, напыленный на ситалловую подложку. [c.192]

При получении пленок хлоридным методом смесь водорода и тетрахлорида кремния пропускают в реакционную камеру, изготовленную из кварца. Температура в зоне реакции поддерживается порядка 1200—1250°С. Нагрев осуществляется индукционным методом или в печи сопротивления. Индукционный метод более удобен, однако при этом труднее получить равномерное распределение температуры у поверхности подложки (вследствие так называемого скин-эффекта ), что вызывает значительную неравномерность толщины растущей пленки. [c.142]

Не менее важным является наличие прочного сцепления кварца с новообразованиями [397—399]. Показано, что зерна кварца сцепляются вторично образованными гидратами, перекристаллизовавши-мися из пластинок, размер поперечника гидратов 2 мк, а толщина 0,3 мк, возле этих частиц расположены хуже закристаллизованные включения [399]. Если нет сцепления с заполнителем (имитировалось гладкими шариками), то прочность снижается в два с половиной раза [398]. Поэтому весьма важно, чтобы наполнитель обладал не только большой активностью химического взаимодействия с Са (0Н)2 и другими продуктами гидратации клинкера, но и имел поверхность, наиболее совместимую со структурой кристаллизующихся гидратов, для которых эта поверхность служит подложкой [163]. [c.168]

Для проверки выражения (5) были проведены специальные опыты по смачиванию пленок молибдена, напыленных на кварцевые подложки в виде отдельных островков (рис.7, см. вклейку). Для получения пленок молибдена такой структуры подложки плавленого кварца экранировались металлической сеткой с размером ячеек 35—40 и 135 140 мкм. Толщина напыленного молибдена составляла > 3000 А. При такой толщине коэффициент формы зародыша / оо [c.26]

В работе [7] методом дифференциальной интерференции [8] были измерены величины наступающих 9а и отступающих 9r краевых углов, образуемых капиллярным мениском со смачивающей пленкой на твердой подложке (рис. XI.5). Пленка i образовывалась на полированной поверхности кварца 2 при отсасывании жидкости через пористый фильтр 3. Радиус пленки составлял около 50 мкм. Значения 9 определялись при постепенном повышении давления жидкости Рс как предельные значения 9, при превышении которых начиналось смещение мениска к центру пленки. Значения 9r определялись соответственно при понижении давления жидкости (опускании ее уровня в сосуде 4) перед началом расширения площади пленки. [c.363]

Литий в отличие от других щелочных металлов разъедает стекло, кварц- и фарфор уже при температурах ниже точки плавления. Очистка лнтия дистилляцией поэтому имеет особенности в частности перегонку нельзя проводить в цельнометаллических сосудах. При работе в стеклянных сосудах металл-перегоняют по методике, описанной в работах [1—3] используют серебряный-или железный тигель (или подложку из этого материала). Конденсацию про водят на пальчиковый холодильник, изготовленный из платины или железа. [c.1014]

Оптические висмутовые материалы имеют различное назначение. Оптические тонкие пленки обычно формируют на массивной подложке из стекла, кварца или другой оптической среды с помощью термического испарения вещества и его осаждения на поверхности подложки, химического осаждения, катодного распыления или химических реакций материала подложки с выбранным веществом. Для нафева таких слоев используют оксиды (алюминия, кремния, титана), фториды (магния, кальция, лития), сульфиды (цинка, кадмия) и др. соединений, а также полупроводники (кремний, германий). [c.255]

Как видно из сравнения кривых 1—3 на рис. 2, учет поверхностных сил приводит к существенным отличиям от обычных расчетов капиллярной конденсации, тем большим, чем интенсивнее поле молекулярных сил подложки. Так, для декана на кварце значения П при Я = 3,0 нм больше, чем значения, рассчитанные по уравнению (24), в 2,3 раза а для декана на золоте — в 3 раза. Размеры пор, характеризуемые величиной Я, оказываются при применении простейшего уравнения заметно заниженными. При одинаковых значениях П (или р/рз), например, для декана на золоте вместо Я = 2,5 нм уравнение (24) дает всего Я = 0,8 нм, вместо 5,0 нм — 2,5 нм и вместо 10,0 нм — 6,5 нм. Для кварца, где поле поверхностных сил слабее, отличия в значениях Я, естественно, меньше. [c.187]

Проведенные исследования показали, что в режимах плавления и кристаллизации ПЭ 175/80, 175/40, 150/80 и 150/40 °С поверхностный транскристаллический слой формируется в контакте с поверхностью (и кварца, и фторопласта). Следовательно, при этих температурных режимах различие в значениях поверхностной энергии подложки не проявляется, и важен лишь сам факт наличия границы раздела с твердым телом, на которой начинается формирование надмолекулярных структур. В то же время примесный А-спектр антрацена обнаруживает отчетливую зависимость от продолжительности выдержки расплава на подложках с увеличением выдержки наблюдается монотонное смещение этого спектра в длинноволновую область. Наибольшее смещение при выдержке 120 мин составляет 80—90 см , что соответствует возрастанию средней плотности аморфных областей ПЭ на 5%. Полученные результаты, по-видимому, свидетельствуют о том, что формирование структур, полимера из более гомогенного расплава при данной температуре приводит к повышению упорядоченности упаковки молекулярных цепей в аморфных областях. [c.79]

Следует подчеркнуть, что наблюдаемые существенные изменения структуры ПЭ относятся к высокоэнергетической подложке (кварцу) только на этой поверхности наблюдались значительная адгезия и смещение А-спектра. Существенной перестройки исходной структуры полимера следует ожидать при более высоких температурах расплава (150 и 175 °С). Однако полученные методом молекулярного зонда данные показывают, что существенных изме- [c.79]

Рис. IX-]. Влияние добавок на активность железного катализатора синтеза аммиака /—отравление (РеЧ-5) 5—подложка (Ре+ -(-кварц) д—промотврованве (Fe- Al20з) (—неаддитивность каталитической активности (Fe -Mo).

С разрушением особой структуры граничных слоев связан также и известный эффект ухудшения смачивания при повышении температуры [562]. На рис. 13.5 приводятся результаты расчетов изотерм расклинивающего давления смачивающих пленок водного 10 М раствора КС1 с добавками ионогенных ПАВ. Для молекулярных сил принята та же константа А для структурных сил — экспонента IIs= sexp(—/i/Я-), где С = = 10 Н/см и А,=0,25 нм. Исходной, без добавок ПАВ, является изотерма, показанная кривой 6. Потенциалы поверхностей кварца (ii)i) и пленки (ij]2) принимали в этом случае равными —100 мВ и —25 мВ, соответственно. Расчеты по уравнению (13.3) приводят к значению 0о = 8° (см. рис. 13.4). Влияние добавок ПАВ сводилось в проведенных расчетах к изменению потенциала вследствие адсорбции ПАВ на поверхности пленка— газ. Адсорбция анионоактивного ПАВ, повышающая отрицательный потенциал ifi2, приводила к улучшению смачивания. Так, при il]2= —35 мВ рассчитанный краевой угол уменьшается до 7°, а при 11)2 = —45 мВ—до 5°. Дальнейший рост i 52 (кривые 1—<3) обеспечивает уже полное смачивание поверхности кварца. Если же на поверхности пленки адсорбируется катионоактивный ПАВ, заряжающий поверхность пленка — газ положительно (г1)2=+Ю0 мВ), в то время как поверхность подложки остается заряженной отрицательно, краевой угол растет до 28° в связи с тем, что электростатические силы вызывают притяжение поверхностей пленки (Пе<0). Полученные результаты находятся в хорошем согласии с результатами прямых измерений краевых углов растворов КС1 с добавками анионоактивного натрийдодецилсульфата и катионоактивного цетилтриметиламмонийбромида [563]. [c.220]

Сделанный вывод о влиянии неровностей подтверждается тем что при переходе к молекулярно-гладким подложкам (слюда, оплавленный кварц) или же к более тонким пленкам (когда Л < А) закон П 1//1 , как правило, хорошо выполняется. Так, на рис. 8 приведены данные для тетрадекана на поверхности свежетянутых кварцевых капилляров, полученные методом размазывания (3 [33, 34], а также изотермы П (Н) для пленок тетрадекана на молекулярно гладкой поверхности слюды (/) [30—32]. Как видно из рис. 8, закон 1/Л хорошо выполняется во всем интервале толщин, вплоть до очень малых. При этом для пленок тетрадекана в капилляре значения константы Гамакера Ао = — 0,8-10 1 эрг) близки к теоретическим (— 1,3-10 эрг), а для пленок на слюде точно совпадают друг с другом Ао = — 0,5-10 эрг). [c.296]

Как известно, степень заполнения подложки ОН-группами проявляется в той или иной степени гидрофильности поверхностн образца. Химический контроль степени гидроксилирования по-верхности пластин кремния или кварца ввиду ее малой величины весьма затруднителен, поэтому ее определяют по изменению краевого угла смачивания поверхности жидкой водой, Равновесный краевой угол представляет одну из важнейших характеристик смачивания. Величина этого угла может бьт, оценена исходя из известного положения термодинамики о том, что в состоянии равновесия свободная энергия системы минимальна, Энергетическими характеристиками поверхности твердого тела в контакте с жидкостью являются удельная свободная поверхностная энергия н поверхностное натяжение а. Для определения условия равновесия фаз при смачивании рассчитьь вают работу, связанную с изменением площадей контакта. Зависимость равновесного краевого угла 0о от поверхностного натяжения на границе раздела трех фаз твердой подложки, жидкой капли и окружающей их газовой атмосферы, выражается уравнением [c.79]

Пластины кремния или кварца помещают на столик проектора и на их поверхность наносят микрошприцем каплю воды. Объем капли должен составлять от 0,5 до 1,0 мкл. Для получения четкого изображения на экране образец капли следует поместить в фокальной плоскости оптической системы проектора. Фиксирующими винтами проектора изображение на экране устанавливают на максимальную резкост1>. На экране наблюдают изображение нанесенной капли и зарисовывают ее форму на листе чистой бумаги. Затем проводят касательную к поверхности капли в точке, ограничивающей периметр капли, и измеряют угол между касательной и плоскостью подложки. Этот угол является исходным и характеризует начальную степень гидрофильности подложки. [c.81]

В качестве материалов, из которых готовят пле]ши-подложки, наиболее широко применяют коллодий, формвар (поливинил-формальдегид), уг,иерод, кварц и некоторые мета.тглы. В данном случае коллодий готовят, растворяя нитрат целлюлозы не в спирто-яфирной смеси, как обычно, а в чистом амилацетате. [c.177]

Зависимость толщины граничного слоя нефти от характеристики твердой подложки Для выяснения зависимости толщины граничного слоя от характеристики твердой фазы проведены исследования на приборе с плоскопараллельными дисками с подложками различной природы [48]. В качестве твердых подложек бьши использованы диски из кварца, доломита и керамики, поверхности которых обработаны по 13-14 классу. Анализ полученньк данных показывает (рис. 26), что при прочих равных условиях толщина граничного слоя зависит от природы твердой подложки. Толщина граничного слоя нефти на доломите и керамике значительно [c.66]

Металлические пленки наносили на полированные поверхности сапфира, кварца и графита испарением металла с помощью электронно-лучевого нагрева в вакууме 1 10 мм рт. ст. Источником испарения служила капля расплава, возникающая на конце вертикально расположенного стержня напыляемого металла диаметра 2—3 мм, на который фркусировался электронный луч, скорость напыления была 1—10 Kj eK. Температура подложки во время напыления составляла 100—200° С. [c.16]

Ф. обычно включает 1) нанесение фоторезиста на металл, диэлектрик или полупроводник методами центрифугирования, напыления или возгонки 2) сушку фоторезиста при 90-110 °С для улучшения его адгезии к подложке 3) экспонирование фоторезиста видимым или УФ излучением через фотошаблон (стжло, кварц и др.) с заданным рисунком для формирования скрытого изображения осуществляется с помощью ртутных ламп ( и контактном способе экспонирования) или лазеров (гл. обр. при проекц. способе) 4) проявление (визуализацию) скрытого изображения imeM удаления фоторезиста с облученного (позитивное изображение) или необлученного (негативное) участка слоя вымыванием водно-щелочными и орг. р-рителями либо возгонкой в плазме высокочастотного разряда 5) термич. обработку (дубление) полученного рельефного покрьп ия (маски) при 100-200 С для увеличения его стойкости при травлении 6) травление [c.171]

Процесс изготовления микроаналитических систем базируется на технологиях, использующихся при производстве интегральных схем (чипов). В их основе лежат хорошо изученные и отработанные на практике процессы фотолитографии и травления либо в растворах, либо в газовой фазе (например, реакционное ионное травление). На рис. 15.2-1 представлен типичный процесс изготовления устройства с системой микроканалов. Подложку, обычно из кремния, стекла или кварца (в принципе, возможно использование полимеров), покрьшают пленкой металла (обычно хром или золото с тонким слоем хрома для улучшения адгезии) и слоем фоторезиста. Затем с использованием фотошаблона, на котором нанесен рисунок будущего микроустройства, поверхность подвергают действию УФ-излучения. После соответствующей химической обработки (проявления) пленка фоторезиста удаляется с участков, подвергнутых экспозиции. Пленка металла, не защищенная фоторезистом, удаляется в травильных ваннах. Затем, на второй стадии травления травится и сама подложка (обычно в НГ/НКОз или КОН). В зависимости от выбранного травителя и типа подложки получающиеся микроканалы имеют различный профиль. Стеклянные и другие аморфные подложки обычно изотропны по свойствам и травятся с одинаковыми скоростями в любом выбранном направлении. Протравленные каналы, как правило, имеют скругленные кромки. На монокристаллических кремниевых или кварцевых подложках в присутствии подходя1цих травителей возможно анизотропное травление, приводящее к получению каналов со специфичными профилями, зависящими от расположения кристаллографических плоскостей, подвергнутых травлению. На заключительной стадии процесса по- [c.642]

Повышение лиофильности подложки обработкой в водородном шламени и плазме тлеющего разряда приводит к росту значений s и hg. Повышение температуры ведет к обратному эффекту. Обработка активированной поверхности стекла и кварца слабым раствором плавиковой кислоты дезактивировала поверхность граничные лои нитробензола и других полярных жидкостей не возникали. Структура граничных слоев полярных замещенных бензола, однако, менее совершенна, чем у жидкокристаллической нематической < )азы, для которой значения s могут составлять от 0,3—0,4 при температуре фазового перехода и до 0,8 при более низкой температуре 185, 86. [c.210]

Для а-пленок на поверхности кварца это значение расклиниваю- щего давления отвечает толщине пленки около 50 А при 20° С и около 100 А при 10° С (см. главу VII, рис. VII.1). Проведем оценку толщины незамерзающей прослойки используя полученные значения др и П для определения коэффициента а = —др/Пх = 6- 10" см -с/г и уравнение (Х.125). Принимая т) = 0,02 Пуаз и = = 0,5 см (радиус основания ледяного конуса), получим близкое к Лд значение толщины прослойки при —0,5° С, равное примерно 130 А. Это показывает, в частности, что определяющую роль в формировании толщины незамерзающих прослоек играют силы, исходящие со стороны кварцевой подложки. Отсюда понятно, какое большое влияние может оказывать гидрофильпость поверхности частиц пористых тел. Заметим, что снижение гидрофильности подложки ведет к уменьшению толщины как а-пленок [135] (см. также рис. VII.28), так и незамерзающих прослоек (см. рис. VII.6). [c.349]

Пиролюзит (пир — огонь лойсс — мытье — уничтожение окраски стекла ири его производстве)—большей частью находится в виде землистых ( мягких ) агрегатов, но иногда встречается в виде призматических кристаллов, слагающих мелкие друзы и щетки твердость таких кристаллов 6, ранее их называли полионит. Пиролюзит — всегда вторичный минерал, часто образует дендриты, которые внедряются в минералы, содержащие кремний, в том числе и кварц иначе говоря, при отложении пиролюзита происходит замещение минерала, который служит подложкой. [c.436]

Для воды структу рные особенности естественно приписать изменению объемной архитектуры водородных связей под влиянием активных центров подложки. Эта нарушенная архитектура может восстанавливаться на расстояниях от поверхности порядка длины корреляции, достигающих для воды десятков ангстрем. Выше 70°С тепловое движение нарушает систему водородных связей и потому исчезает и структурная слагающая расклинивающего давления. Этот факт опровергает также предположение о возможном влиянии на структурную составляющую растворимости кварца, так как растворимость с повьппением температуры может только расти. [c.117]

Была исследована плотность упаковки поверхностных слоев в зависимости от их толщин на поверхности с высокой (кварц) и низкой (фторопласт) поверхностной энергией. На рис. 1.2 приведена зависимость р/ро (р — эффективная плотность исследуемого слоя, ро — плотность в объеме) от толщины поверхностного слоя. Как видно из рисунка, наблюдается немонотонное-изменение плотности. Поскольку общим для всех исследованных полимеров и подложек, на которых формировались пленки, является увеличение плотности упаковки макромолекул в непосредственно прилегающих к поверхности твердого тела слоях, естественно предположить, что определяющим является ориентирующее влияние подяожкиг Повышение плотности упаковки макромолекул в прилегающем к поверхности подложки слое по сравнению с плотностью упаковки в объеме составляет 3—5% от ро для всех исследованных полимеров. Различия во влиянии на плотность упаковки в этом слое [c.21]

Справочник химика 21

Химия и химическая технология